《電子技術(shù)應(yīng)用》
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10年投資10萬億日元,日本半導(dǎo)體沖刺2nm,背后的底氣來自哪里?

2022-01-03
來源:廈門名記
關(guān)鍵詞: 日本 半導(dǎo)體 2nm

自2020年至今,全球芯片供應(yīng)短缺問題一直沒有得到解決,甚至還有愈演愈烈的趨勢,這在一定程度上擾亂了制造業(yè)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,因此近兩年各國紛紛加強(qiáng)了對國內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)扶持,尤其是日本

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其實(shí),在上世紀(jì)八九十年代,日本半導(dǎo)體也曾有過輝煌時刻,一度在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中撐起了半壁江山,但因?yàn)槎嗄陙砣毡菊畬π酒a(chǎn)業(yè)投資不足,日本芯片制造在全球市場上的份額越來越小。

這一次的全球“芯片荒”讓世界各國都意識到了掌握芯片制造的重要性,決定重振芯片產(chǎn)業(yè),這其中就包括日本。

眾所周知,芯片制造是一個資金密集型產(chǎn)業(yè),因此日本政府加大了對芯片產(chǎn)業(yè)的投資。日本首相曾表示,將為國內(nèi)芯片生產(chǎn)提供超1.4萬億日元(約123億美元)的投資。

不過,華爾街見聞2021年12月22日報道,東京電子有限公司前總裁東哲郎認(rèn)為,日本政府應(yīng)該在下一季度提供稅收減免,同時在未來10年內(nèi)投資10萬億日元(約880億美元)以振興日本芯片制造產(chǎn)業(yè)。

并且,東哲郎表示,日本需要大概10年的時間才能進(jìn)入芯片制造的前線陣營,期望在這段時間內(nèi),日本能夠?qū)崿F(xiàn)2nm和3nm芯片的量產(chǎn)。

需要注意的是,即便是全球技術(shù)最先進(jìn)的晶圓代工廠臺積電,目前也沒能實(shí)現(xiàn)3nm芯片的量產(chǎn)。

日本芯片制造業(yè)已經(jīng)落后多年,想要在10年內(nèi)沖刺3nm甚至2nm芯片的量產(chǎn),這個難度著實(shí)不小。那么,日本究竟哪里來的底氣沖刺2nm芯片呢?

值得一提的是,日本雖然沒有先進(jìn)的晶圓廠,但它在半導(dǎo)體材料以及核心設(shè)備等領(lǐng)域卻具有明顯的優(yōu)勢。

以芯片制造過程中必不可少的核心設(shè)備——光刻機(jī)為例,眾所周知全球能夠提供EUV光刻機(jī)的企業(yè)只有荷蘭的ASML公司,但其實(shí)日本佳能、尼康也是光刻機(jī)領(lǐng)域的巨頭。

不僅如此,在ASML公司崛起之前,日本尼康才是全球光刻機(jī)霸主,佳能緊隨其后。盡管如今尼康和佳能在高端光刻機(jī)領(lǐng)域已經(jīng)“沒落”,但它們之前在光刻機(jī)領(lǐng)域的相關(guān)積累,也能在一定程度上給日本的先進(jìn)制造提供指引。

另外,在EUV光刻膠方面,南大光電在2021年3月發(fā)布的相關(guān)報告中披露,放眼全球只有日本廠商研發(fā)出了EUV光刻膠。

要知道,在芯片制造的過程中,光刻膠的重要性幾乎等同于光刻機(jī),而且光刻膠的精度也制約著芯片制程的推進(jìn),若想要生產(chǎn)制造出7nm節(jié)點(diǎn)以下的芯片,EUV光刻膠是不可或缺的材料。

除了EUV光刻膠外,日本企業(yè)在EUV涂覆顯影設(shè)備,以及EUV光罩檢驗(yàn)設(shè)備中領(lǐng)域也做到了全球壟斷。

總而言之,日本在部分半導(dǎo)體材料或設(shè)備領(lǐng)域的壟斷,就是它的底氣。而在日本相關(guān)企業(yè)的配合下,以及政府的資金支持下,日本的確存在復(fù)興半導(dǎo)體制造業(yè)的可能。

不過,日本芯片的崛起,必然會對中國芯片產(chǎn)業(yè)產(chǎn)生一定的威脅,畢竟我國在半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈上的布局還并不完善。




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