12月9日消息，有投資者向晶瑞電材提問，晶瑞電材是否擁有KrF光刻機？是否具備批量生產(chǎn)KrF光刻膠的條件？對此，晶瑞電材回應，公司近期已購得KrF光刻機一臺，可用于KrF光刻膠的曝光測試，同時公司KrF光刻膠量產(chǎn)化生產(chǎn)線正在積極建設中。

眾所周知，今年以來，全球芯片供應緊缺持續(xù)，各大晶圓廠積極擴張產(chǎn)能，上游半導體耗材光刻膠等材料需求巨大，如今晶瑞電材KrF光刻膠量產(chǎn)化有望，將很大程度緩解光刻膠產(chǎn)能緊缺的窘境。

晶瑞電材或成國內第二家實現(xiàn)KrF光刻膠量產(chǎn)企業(yè)

從國內本土光刻膠企業(yè)的產(chǎn)能情況來看，國內KrF光刻膠產(chǎn)量嚴重緊缺，目前能批量供應KrF光刻膠的企業(yè)只有北京科華一家公司。現(xiàn)在晶瑞電材的高端KrF光刻膠高端已完成中試，建成了中試示范線，目前已進入客戶測試階段；這次晶瑞電材再次購得KrF光刻機，意味著晶瑞電材有望快速實現(xiàn)其KrF光刻膠產(chǎn)線進入量產(chǎn)化階段，成為國內第二家可量產(chǎn)KrF光刻膠的企業(yè)。

（圖源晶瑞官網(wǎng)）

晶瑞電材是國內技術領先的微電子化學品龍頭，主要產(chǎn)品包括超凈高純試劑、光刻膠、功能性材料、鋰電池材料等，廣泛應用于半導體芯片、面板顯示、LED等泛半導體領域及鋰電池、太陽能光伏等新能源行業(yè)。

晶瑞電材的光刻膠產(chǎn)品由其的子公司蘇州瑞紅生產(chǎn)，規(guī)模生產(chǎn)光刻膠30年，產(chǎn)品序列齊全，產(chǎn)業(yè)化規(guī)模、盈利能力均處于行業(yè)領先水平，是國內最早規(guī)模量產(chǎn)光刻膠的少數(shù)幾家企業(yè)之一，

晶瑞電材的半導體光刻膠布局中，i線光刻膠已經(jīng)量產(chǎn)，擁有 i 線光刻膠 100 噸／ 年，并批量出貨給國內晶圓制造頭部企業(yè)，是目前國內少數(shù)幾家實現(xiàn)光刻膠量產(chǎn)的企業(yè)之一，其i 線光刻膠已向國內頭部的知名大尺寸半導體廠商供貨，主要客戶包括中芯國際、華虹宏力、上海積塔、長江存儲、士蘭微、合肥長鑫、揚杰科技等半導體行業(yè)知名企業(yè)。

根據(jù)晶瑞電材的財務總監(jiān)、董秘陳萬鵬透露，晶瑞去年1．79億元的光刻膠收入中，有80％～85％來自半導體客戶。

國內光刻膠行業(yè)形勢嚴峻

光刻膠又稱“光致抗蝕劑”，是光刻成像的承載介質，其作用是利用光化學反應的原理將光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射、濾波后的光信息轉化為化學能量，進而完成掩模圖形的復制。

一定程度上來說，光刻出的電路圖案越精密，就代表著芯片性能越好。采用不同的光刻光線，對應地需要搭配不同的光刻膠。目前，根據(jù)不同的光波長，光刻膠大致可以分為G線、I線、KrF、ArF、EUV這幾類。

一直以來，半導體光刻膠都屬于光刻膠高端產(chǎn)品，由于國內光刻膠領域起步較晚，技術嚴重落后等原因，導致我國半導體芯片領域的光刻膠需求主要由外資企業(yè)來滿足，日美廠商占據(jù)了約87％的份額，國內光刻膠產(chǎn)品進口比例高達九成。同時，因為高端光刻膠保質期僅有6～9個月，且保存較為困難，所以芯片制造商通常不會大量囤貨，只有在需要的時候才會向光刻膠廠商進貨。

如今國內的光刻膠企業(yè)能實現(xiàn)量產(chǎn)供貨KrF光刻膠的企業(yè)只有北京科華一家，這根本應付不了國內如此龐大的半導體市場，因此，在國內的光刻膠行業(yè)里，一旦日本廠商限供，中國芯片制造廠商就會陷入“無膠可用”的困境。

今年年初的時候，央視報道“光刻膠靠搶！進口芯片漲價20％”，由此可見目前的光刻膠有多緊缺。在今年5月下旬，市場突然有消息稱，全球光刻膠龍頭企業(yè)日本信越化學出現(xiàn)產(chǎn)能緊張，將限制向大陸芯片廠商供貨KrF光刻膠。

目前，國內的光刻膠企業(yè)中，可量產(chǎn)i／g line光刻膠的企業(yè)有北京科華、晶瑞電材；可量產(chǎn)KrF的企業(yè)只有北京科華；其中，晶瑞電材公司的i線光刻膠已實現(xiàn)供貨中芯國際、合肥長鑫等國內FAB廠，北京科華則在為中芯國際供貨KrF光刻膠，其他諸如南大光電、上海新陽等國產(chǎn)光刻膠廠商的光刻膠產(chǎn)品仍處于研發(fā)或少量生產(chǎn)階段，還未實現(xiàn)量產(chǎn)。

北京科華是唯一被SEMI列入全球光刻膠八強的中國光刻膠公司，其研發(fā)進度國內領先，該公司的KrF光刻膠已經(jīng)實現(xiàn)量產(chǎn)，在2012年12月建成KrF（248納米）光刻膠產(chǎn)線。

南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品已經(jīng)成功通過武漢新芯的使用認證，成為通過產(chǎn)品驗證的第一家國產(chǎn)ArF光刻膠企業(yè)，目前，南大光電建有ArF光刻膠產(chǎn)品大規(guī)模生產(chǎn)線，將形成年產(chǎn)25噸ArF（干式／浸沒式）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)能力，產(chǎn)品性能可以滿足90 nm－14 nm集成電路制造的要求。

上海新陽已立項研發(fā)集成電路制造用高分辨率193 nmArF光刻膠及配套材料與應用技術，其KrF厚膜光刻膠2021年開始實現(xiàn)少量銷售，預計2022年可實現(xiàn)量產(chǎn)；ArF干法光刻膠尚在認證當中，在2022年可實現(xiàn)少量銷售，2023年開始量產(chǎn)，其合肥第二生產(chǎn)基地項目正在按計劃建設當中。

雖然國內的多家光刻膠企業(yè)正在迅速發(fā)展，但仍在產(chǎn)能與技術先進程度兩端與當前國際先進光刻膠企業(yè)存在明顯差距。這主要是由于缺乏光刻膠核心設備——光刻機所致。

對于光刻膠生產(chǎn)企業(yè)而言，光刻機尤為重要。一般來說，光刻膠與光刻機往往是結盟售賣，在光刻膠的研發(fā)階段中，企業(yè)需要購買光刻機或與擁有光刻機的芯片制造廠合作，以及時驗證光刻膠及其配套試劑的性能。光刻機除了在研發(fā)和產(chǎn)品驗證過程中用于自主曝光檢測之外，更為關鍵的是為了保證半導體光刻膠在大規(guī)模量產(chǎn)過程中產(chǎn)品質量的穩(wěn)定，光刻機同樣也是必不可少的檢驗檢測設備之一。

目前，國內光刻膠生產(chǎn)企業(yè)和芯片生產(chǎn)企業(yè)一樣面臨無機可用的局面，如今，一臺光刻機的售價從數(shù)千萬美元高至過億美元，全球最先進的EUV光刻機售價達1．2億美元，成本極大。而對于國內企業(yè)來說，光刻機更是有價無市，在美國的限制下，國外高端光刻機根本進入不了國內，國產(chǎn)企業(yè)始終難以獲得高端光刻機。

此前中芯國際向ASML購買的光刻機產(chǎn)品更是遲遲無法落地。

光刻膠作為技術壁壘最高的半導體材料，不僅需要在產(chǎn)能與技術先進程度方面有所突破，還需要客戶的支持，因此，國內光刻膠行業(yè)要想有實質性的發(fā)展，需要上下游協(xié)同推進。

結語

目前來看，在半導體產(chǎn)業(yè)鏈條中，光刻膠市場占比不足1％。據(jù)公開數(shù)據(jù)顯示，2020年全球半導體市場規(guī)模4260億美元，而作為半導體市場關鍵材料的光刻膠市場規(guī)模卻僅為19億美元。

對于國內企業(yè)來說，在光刻膠行業(yè)取得良好的發(fā)展，是突破美國對于國內半導體行業(yè)的封鎖的絕佳機會?，F(xiàn)在國內的光刻膠企業(yè)雖然在中低端光刻膠領域有所進展，但在高端光刻膠領域明顯存在差距，后續(xù)能否在該領域實現(xiàn)突破，還有待觀望。