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臺積電4nm提前試產(chǎn)!推汽車專用新制程,美國5nm芯片工廠已動工

2021-06-02
來源: 芯東西
關(guān)鍵詞: 臺積電 4nm

  芯東西6月2日報道,本周二,在臺積電舉辦2021年技術(shù)論壇上,臺積電宣布4nm預(yù)計今年第3季開始試產(chǎn),較先前規(guī)劃提早一季時間,3nm制程則將依計劃于2022年下半年量產(chǎn)。

  這是臺積電連續(xù)第二年采用線上形式舉行技術(shù)論壇,分享先進邏輯技術(shù)、特殊技術(shù)、3DFabric先進封裝與芯片堆疊技術(shù)等方面的最新技術(shù)進展。

  會上,臺積電推出車用芯片新制程技術(shù)N5A,明年第3季量產(chǎn),滿足更新且更強化的汽車應(yīng)用;此外,臺積電還公布支持新一代5G智能手機與WiFi 6/6e效能的N6RF制程,以及3DFabric系列技術(shù)的強化版。

  本文福利:芯片市場高景氣的背景下,先進制程的發(fā)展由臺積電領(lǐng)先,大陸廠商穩(wěn)步前行。推薦深度研報《臺積電領(lǐng)先,國內(nèi)先進制程穩(wěn)步前行》,可在公眾號聊天欄回復(fù)關(guān)鍵詞【芯東西134】獲取。

  01.

  4nm今年提前試產(chǎn),3nm明年量產(chǎn)

  先進技術(shù)進展方面,臺積電于2020年領(lǐng)先業(yè)界量產(chǎn)5nm技術(shù),其良率提升速度較7nm技術(shù)更快。

  臺積電5nm家族之中,與N5幾近相容設(shè)計法則的4nm加強版進一步提升效能、功耗效率和晶體管密度。4nm N4加強版的開發(fā)進度相當順利,預(yù)計于2021年第三季度開始試產(chǎn)。

  另外,臺積電首席執(zhí)行官魏哲家提到,下一代3nm制程技術(shù)正在按計劃進行中,目標是在2022年下半年在位于臺灣南科的Fab 18晶圓開始量產(chǎn)。

  屆時,臺積電3nm N3技術(shù)將成為全球最先進的邏輯技術(shù),相較5nm技術(shù),其速度提升15%,功耗降低30%,邏輯密度增加70%。

  02.

  5nm最新成員:汽車專用制程明年見

  臺積電還推出了5nm家族的最新成員——N5A制程,用以滿足汽車應(yīng)用對于運算能力日益增加的需求,例如支持AI駕駛輔助及數(shù)字座艙。

  N5A將現(xiàn)今計算機使用的相同技術(shù)帶入汽車中,搭載N5的運算效能、功耗效率、邏輯密度,同時符合AEC-Q100 Grade 2嚴格的品質(zhì)與可靠性要求,以及其他汽車安全與品質(zhì)的標準,臺積電的汽車設(shè)計實現(xiàn)平臺也提供支持。

  N5A預(yù)計于2022年第三季度問世。

  不過考慮到現(xiàn)在汽車缺貨壓力大的主要是基于成熟制程的工藝,這種技術(shù)所生產(chǎn)的產(chǎn)品不太可能緩解目前汽車芯片短缺問題。

  此外,臺積電首次發(fā)布N6RF制程,將先進的N6邏輯制程所具備的功耗、效能、面積優(yōu)勢帶入到5G射頻(RF)與WiFi 6/6e解決方案。

  03.

  臺積電美國5nm芯片工廠已經(jīng)動工

  在當前缺芯潮蔓延、全球晶圓產(chǎn)能供應(yīng)吃緊之際,臺積電先前宣布在美國亞利桑那州投資設(shè)立5nm廠的動向就格外引人矚目。

  而根據(jù)魏哲家的說法,目前美國亞利桑那州5nm制程晶圓廠已經(jīng)開始動工興建,這座投資120億美元所興建的工廠將按照時間,在2024年進行大規(guī)模量產(chǎn)。

  為了支持先進制程的發(fā)展與量產(chǎn),臺積電2021年的資本支出將會達到300億美元,未來3年內(nèi)總計投資將達到1000億美元。

  此前為重振美國半導(dǎo)體制造業(yè),美國政府已提出540億美元的補貼,用以補助相關(guān)芯片從業(yè)者。

  臺積電、英特爾、三星等具備先進半導(dǎo)體制造技術(shù)的企業(yè)都相繼宣布將在美國投資設(shè)立晶圓廠,預(yù)計將積極爭取美國政府的相關(guān)資金補助。

  路透社此前報道稱,臺積電計劃在亞利桑那州的10至15年內(nèi)建造多達6家工廠。

  04.

  先進封裝:聯(lián)手AMD研發(fā)全新3D小芯片技術(shù)

  臺積電持續(xù)擴展由3D堆疊及先進封裝技術(shù)組成的完備3DFabric系統(tǒng)整合解決方案。

  針對高效能運算應(yīng)用,臺積電將于2021年提供更大的光罩尺寸來支持InFO_oS及CoWoS封裝解決方案,運用范圍更大的布局規(guī)劃來整合小芯片及高頻寬存儲體。

  系統(tǒng)整合芯片之中芯片堆疊于晶圓之上(CoW)的版本預(yù)計今年完成N7對N7的驗證,并將于2022年在新的全自動化晶圓廠開始生產(chǎn)。

  臺積電推出InFO_B解決方案,將強大的行動處理器整合于輕薄精巧的封裝之中,支持行動裝置制造廠商封裝時所需的動態(tài)隨機存取存儲體堆疊。

  在本周舉行的臺北國際電腦展(COMPUTEX)上,AMD宣布的全新3D小芯片先進封裝技術(shù),即是與臺積電緊密合作開發(fā)出的。

  據(jù)悉,該技術(shù)將AMD創(chuàng)新的小芯片架構(gòu)與3D堆疊結(jié)合,提供比2D小芯片高出超過200倍的互連密度,以及比現(xiàn)有3D封裝解決方案高出超過15倍的密度,且功耗低于現(xiàn)有的3D解決方案。

  AMD與臺積電計劃今年底前開始生產(chǎn)運用3D小芯片技術(shù)的未來高階運算產(chǎn)品,以推動高效能運算的發(fā)展,顯著提升使用者體驗。

  05.

  結(jié)語:先進制程、小芯片技術(shù)成焦點

  作為全球晶圓代工龍頭,臺積電在先進技術(shù)方面的研發(fā)進展,足以代表世界芯片制造技術(shù)的前沿趨勢。

  5nm、3nm系列以及更先進制程技術(shù)的優(yōu)化升級,仍將是頂尖芯片制造商們競逐的高地。與此同時,小芯片技術(shù)正成為推動高性能芯片持續(xù)提升算力的重要產(chǎn)業(yè)趨勢之一。

 


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