《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁 > 電子元件 > 業(yè)界動態(tài) > 日本的2nm雄心

日本的2nm雄心

2021-03-24
來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察
關(guān)鍵詞: 日本 2nm 半導(dǎo)體

  談到日本半導(dǎo)體行業(yè),大部分人行業(yè)人士都對他們的優(yōu)劣勢有充足的了解。

  優(yōu)勢方面,他們的半導(dǎo)體設(shè)備、材料、被動元件、射頻乃至功率器件都在全球名列前茅。例如在當前熱門的第三代半導(dǎo)體,5G射頻和EUV光刻膠方面,他們都有著其他競爭對手所不具備的優(yōu)勢。如果談到劣勢,那就更加為大家所熟知。雖然日本廠商能從上游卡住很多企業(yè),但眾所周知的是,在過去三十多年發(fā)展起來的Fabless、Foundry和OSAT這三個方面,日本幾無建樹。

  在過去,半導(dǎo)體全球供應(yīng)鏈還處于和平相處的時候,這并沒有什么問題。日本憑借其上游供應(yīng)優(yōu)勢,也能在半導(dǎo)體復(fù)雜的供應(yīng)鏈卡住重要位置。但進入最近兩年,中美、日韓之間的地緣政治時間頻發(fā),嚴重影響了曾經(jīng)的半導(dǎo)體供應(yīng)鏈的正常運行,這就驅(qū)使中美韓歐開始了半導(dǎo)體自主可控的探索。作為曾經(jīng)的半導(dǎo)體行業(yè)老大,日本當然也不例外。

  從最近他們的動作看來,2nm工藝似乎會將是他們的一個發(fā)力點。

  2nm的明爭暗斗

  雖然曾經(jīng)有不少人對于晶體管的繼續(xù)微縮有疑問,但因為蘋果、AMD英偉達、AI芯片和高性能計算芯片開發(fā)商等廠商對新工藝有極迫切的需求。這就推動三星和臺積電踴躍投入其中。

  首先看臺積電方面,去年媒體的報道顯示,公司在在2nm制程工藝方面取得了重大突破,并將于2023年下半年進行小規(guī)模試產(chǎn),2024年可大規(guī)模量產(chǎn)。從相關(guān)報道可以看到,臺積電在2nm工藝上將放棄延續(xù)多年的FinFET(鰭式場效應(yīng)晶體管),轉(zhuǎn)向新的多橋通道場效應(yīng)晶體管(MBCFET) 架構(gòu),解決FinFET持續(xù)微縮帶來的漏電問題。這正是三星在3nm上采取的方法。

4.png

  據(jù)三星方面介紹,與7nmLPP 制程技術(shù)相較,公司的3GAE 制程技術(shù)可在同樣功耗下可使性能提高30%,或同樣頻率下能讓功耗降低50%,而整體電晶體密度最高則可提高80%。在ISSCC上,三星還介紹了其首個使用MBCFET 技術(shù)的SRAM 芯片,據(jù)透露,這個256Gb 芯片面積僅為56mm?。他們進一步指出,與現(xiàn)有芯片相較,使用MBCFET 技術(shù)的寫入電壓降低230mV。據(jù)預(yù)計,他們3 nm的MBCFET制程會在2022年投產(chǎn)。相信這也將延續(xù)到他們的2nm制程上。

  除了這兩家晶圓代工巨頭,歐盟也打起了2nm的主意。

  在今年三月,歐盟委員會正式發(fā)布《2030 Digital Compass》規(guī)劃書,為當?shù)匚磥?0年的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展提出了最新目標。歐盟方面表示,歐洲在整個半導(dǎo)體市場中僅占10%的市場份額,這遠低于其經(jīng)濟地位。此外,Covid-19和地緣政治緊張局勢使人們擔心歐洲關(guān)鍵技術(shù)的對外依賴。

  歐盟方面指出,他們擁有減少依賴所需要的一切技術(shù)。如ASML、Zeiss、Thermo Fisher、Applied Materials、Nova和KLA等企業(yè),ARCNL, imec, PTB, TNO 和TU/e等研究所以及IBS、Recif、Reden和Unity等機構(gòu)能為其提供多方面支持。因此歐盟想要制定雄心勃勃的計劃,從芯片設(shè)計到向2nm節(jié)點發(fā)展的先進制造,以求差異化并引領(lǐng)我們最重要的價值鏈。歐盟方面進一步強調(diào),需要加強歐洲開發(fā)下一代處理器和半導(dǎo)體的能力。為高速連接,自動駕駛汽車,航空航天與國防,健康和農(nóng)業(yè)食品,人工智能,數(shù)據(jù)中心,集成光子學(xué),超級計算和量子計算等行業(yè)和應(yīng)用提供最佳性能的芯片。

  作為一個擁有多方面領(lǐng)先優(yōu)勢的國家,日本也蠢蠢欲動。

  日本的不甘人后

  其實在去年五月,就有外媒報道日本政府正在尋求吸引國外優(yōu)秀的芯片制造商能赴日本建立圓晶工廠,以促進日本在半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展。但后來的臺積電決定了去美國建廠,這就從某種程度宣告了他們的計劃落空。但日本并不甘心,轉(zhuǎn)而拉攏臺積電去當?shù)亟ㄔO(shè)封裝廠。

  媒體在今年一月的報道也指出,臺積電將與日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省成立合資公司,在東京設(shè)立先進封測廠。而根據(jù)《日刊工業(yè)新聞》報導(dǎo),臺積電是要在日本茨城縣筑波市新設(shè)技術(shù)研發(fā)中心, 研發(fā)中心包括晶圓制程及3D封裝。從過往的報道看來,日本的這個決定也是有其背后的考量的。

  因為晶體管微縮受限,過去多年在業(yè)界就存在一個觀點,那就是借用先進封裝可以繼續(xù)推進芯片性能的提升。而臺積電在去年九月更是推出了其3D Fabric平臺,將SoIC、CoWoS、InFO等技術(shù)家族囊入其中,能串聯(lián)高頻寬存儲、異構(gòu)整合和3D堆疊,以提升系統(tǒng)能耗,并縮小面積。臺積電研發(fā)副總余振華也以TSMC的SoIC技術(shù)為例,講述他們這個平臺的優(yōu)勢。他指出,這個技術(shù)可將低溫多層存儲堆疊在邏輯芯片上,幫助延伸摩爾定律。而公司現(xiàn)在已成功將4層、8層與12層低溫多層記憶體堆疊在邏輯芯片上,其中12層總厚度更是低于600微米,這讓公司在未來可以實現(xiàn)堆疊更多層的可能。

  雖然日本已經(jīng)緊抱臺積電,為未來發(fā)展先進芯片制造做好了一部分準備。但從日前的新聞看來,日本的野心并不止于此。

  日經(jīng)新聞的最新報道指出,日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省最快在本周內(nèi),會召開與日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)有關(guān)的檢討會,除了會探索瑞薩電子工廠火災(zāi)對汽車生產(chǎn)的影響,以及汽車業(yè)供應(yīng)鏈不穩(wěn)定的隱憂外,日本政府還計劃府著眼朝著數(shù)字化發(fā)展的當前經(jīng)濟,讓半導(dǎo)體供應(yīng)鏈體質(zhì)更加強韌,并從經(jīng)濟安全保障等觀點,重新擬定中長期的政策。

  日經(jīng)進一步指出,日本政府將提供資金支持、協(xié)助日本企業(yè)研發(fā)2nm以后的次世代半導(dǎo)體制造技術(shù)。為實現(xiàn)這個目標,他們除了繼續(xù)保持和臺積電、Intel等半導(dǎo)體大廠進行大范圍的意見交換來進行研發(fā)外,他們還將與佳能、東電、SCREEN等本土設(shè)備巨頭攜手,重振日本在先進研發(fā)方面的實力。

  據(jù)報道,這支該獲得經(jīng)產(chǎn)省資金援助的研發(fā)團隊目標在2020年代中期確立2nm以后的次世代半導(dǎo)體的制造技術(shù),并設(shè)立測試產(chǎn)線,研發(fā)細微電路的加工、洗凈等制造技術(shù)。

  厚積薄發(fā)的底氣

  正如文章開頭所說,雖然日本沒有先進的晶圓廠,但他們在先進工藝的上游有很重要的布局。以現(xiàn)在炙手可熱的EUV光刻為例,雖然大家都知道全球目前荷蘭公司ASML能提供領(lǐng)先的EUV光刻機。但在半導(dǎo)體行業(yè)觀察之前的報道中,我們可以看到日本公司在這個領(lǐng)域多個環(huán)節(jié)的實力。

  7.png

  首先來看缺陷檢測設(shè)備,如果作為原始電路板的光掩模中存在缺陷,則半導(dǎo)體的缺陷率將相應(yīng)增加。最近幾年需求增長尤其旺盛的是EUV光罩(半導(dǎo)體線路的光掩模版、掩膜版)檢驗設(shè)備,在這個領(lǐng)域,日本的Lasertec Corp.是全球唯一的測試機制造商,Lasertec公司持有全球市場100%的份額。

  日本另一個占據(jù)100%市場份額的是東京電子的EUV涂覆顯影設(shè)備,該設(shè)備用于將特殊的化學(xué)液體涂在硅片上作為半導(dǎo)體材料進行顯影。1993年東電開始銷售FPD生產(chǎn)設(shè)備涂布機/顯影機,2000年交付了1000臺涂布機/顯影機“ CLEAN TRACK ACT 8”。

  在EUV光刻膠方面,日本的市場份額更是遙遙領(lǐng)先。據(jù)南大光電在今年三月發(fā)布的相關(guān)報告中披露,如下圖所示,全球僅有日本廠商研發(fā)出了EUV光刻膠,由此可以看到他們在這方面的實力。而欲了解更多日本在EUV方面的實力,可以參考半導(dǎo)體行業(yè)觀察之前的文章《不容忽視的日本EUV實力》。

8.png

  國際主要廠商在半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化進度(source:南大光電)

  在先進工藝研發(fā)方面,還有一個重要環(huán)節(jié),那就是本節(jié)開頭談到的EUV光刻機,這也是日本在先進工藝研發(fā)上將佳能納入其中的原因。雖然這家曾經(jīng)的光刻機巨頭在這個領(lǐng)域已經(jīng)被ASML拋離,但他們在光刻方面的積累,能某種程度上給日本的先進制造提供指引。

 9.png

  除了上述談到的一些技術(shù)和企業(yè)外,如上圖所示,日經(jīng)在昨天的報道中,也披露了日本在半導(dǎo)體制造的多個環(huán)節(jié)參與其中。由此可見,對于日本來說,要想在芯片制造上搞出一些浪花,是有其深厚的底氣。與此同時,日本富岳“超算”上的富士通的48核Arm芯片A64FX的超強性能表現(xiàn)加上索喜5nm芯片的新聞表示,日本在先進芯片上也有其實力所在。

  在這些企業(yè)的配合下,相信日本復(fù)興半導(dǎo)體先進芯片技術(shù)乃至建造先進工藝晶圓廠,都有潛在的可能。當然,是否真會這樣做晶圓廠,又是另一個層面的討論。



本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。