江蘇微導(dǎo)納米科技股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“微導(dǎo)納米”）官方消息顯示，喜獲來自某先進(jìn)半導(dǎo)體芯片制造企業(yè)的首個(gè)訂單，即將交付首臺(tái)用于先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的原子層沉積（ALD）量產(chǎn)設(shè)備。

據(jù)微導(dǎo)納米介紹，該產(chǎn)品聚焦全球IC制造市場(chǎng)，為邏輯、存儲(chǔ)等超大集成電路制造提供關(guān)鍵工藝技術(shù)和解決方案。尤其是在國(guó)內(nèi)尖端半導(dǎo)體芯片制造方面，產(chǎn)品技術(shù)可覆蓋45納米到5納米以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)所必需的高介電常數(shù)柵氧層ALD工藝需求，填補(bǔ)了該領(lǐng)域無國(guó)產(chǎn)設(shè)備的空白。

官方消息稱，2020年微導(dǎo)納米自主研發(fā)的鳳凰系列ALD薄膜沉積系統(tǒng)成功實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)化，專用于先進(jìn)超大集成電路（VLSI）制造所需各類ALD薄膜沉積工藝。微導(dǎo)納米指出，該產(chǎn)品具有強(qiáng)大的材料選擇功能，可提供包括HfO2, ZrO2，Al2O3, SiO2, Ta2O5, TiO2, La2O3, ZnO, TiN, 以及AlN等多種工藝功能。

微導(dǎo)納米副董事長(zhǎng)兼首席技術(shù)官黎微明博士表示，期待首臺(tái)ALD設(shè)備在客戶產(chǎn)線能夠以最快速度順利導(dǎo)入量產(chǎn)，以此為起點(diǎn)和客戶一起建立先進(jìn)制程開發(fā)和制造能力。微導(dǎo)納米還將推出一系列半導(dǎo)體領(lǐng)域ALD技術(shù)和裝備，用于邏輯、存儲(chǔ)、特色工藝、化合物半導(dǎo)體等芯片制造。