光刻機(jī)作為芯片制造最重要的設(shè)備，目前在全球市場(chǎng)上都是稀缺資源。在光刻機(jī)設(shè)備市場(chǎng)上，尤其是EUV光刻機(jī)設(shè)備，幾乎被ASML壟斷。全球光刻機(jī)出貨量99%集中在ASML、尼康和佳能，ASML份額最高。由于美國的技術(shù)封鎖，我國收購ASML技術(shù)幾乎毫無可能，那么同樣有高端EUV光刻機(jī)技術(shù)的日本尼康和佳能是否可以合作共贏？

　　除華為外，國內(nèi)晶圓大廠半導(dǎo)體進(jìn)口設(shè)備也遭斷供，另據(jù)路透社報(bào)道，美國正考慮對(duì)半導(dǎo)體制造設(shè)備及相關(guān)軟件、激光器、傳感器等技術(shù)的出口進(jìn)行新的限制，美對(duì)我半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的打壓已有蔓延之勢(shì)。而芯片制造始終是我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的薄弱環(huán)節(jié)，唯有突破光刻機(jī)技術(shù)，才能掌握芯片自主。

　　一、自主與合作

　　光刻機(jī)被譽(yù)為“半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，要造出造芯片的機(jī)器，并不是一件容易的事，它不僅僅是擁有約10萬個(gè)零部件般復(fù)雜，也不僅僅是集合了數(shù)學(xué)、光學(xué)、流體力學(xué)、自動(dòng)化、圖像識(shí)別等10余個(gè)領(lǐng)域般綜合，還要都是頂級(jí)的，一個(gè)技術(shù)突破不算突破，全部突破才算整體前進(jìn)一步，這是最難的。

　　說阿斯麥光刻機(jī)代表西方制造工業(yè)的最高水平并不為過，一臺(tái)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，鏡頭來自德國卡爾蔡司，大功率光源來自美國賽摩，精密加工技術(shù)來自瑞典，浸沒雙工作臺(tái)來自荷蘭，特殊復(fù)合材料來自日本等等，在阿斯麥供應(yīng)商中有很多隱形冠軍，它們可能并不太知名，但無法忽視的是，這些幾乎都是同行業(yè)中的佼佼者。

　　如果說在某一個(gè)領(lǐng)域做好或許不是難事，比如中微公司2017年就成功研發(fā)出了世界上第一臺(tái)5納米刻蝕機(jī)，但這并不代表國內(nèi)芯片制造工藝達(dá)到5納米水平，到目前為止最先進(jìn)的國產(chǎn)光刻機(jī)僅為90納米，最薄弱的環(huán)節(jié)才代表真實(shí)的水平，國產(chǎn)光刻機(jī)要出頭，勢(shì)必要做到與阿斯麥更接近的水平，但也意味著要在細(xì)分領(lǐng)域全部做好。

　　誰也不是三頭六臂，神通廣大，造好光刻機(jī)，除了發(fā)展自主技術(shù)，開放合作是很有必要的。

　　二、日經(jīng)遞橄欖枝

　　最近日經(jīng)新聞?dòng)幸黄P(guān)于中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的報(bào)道，文章指出，隨著美國的封鎖和打壓，長(zhǎng)遠(yuǎn)來看，美國此舉可能會(huì)助推重工半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自立與發(fā)展，目前中國半導(dǎo)體仍可迂回以對(duì)。

　　文章主要提到幾點(diǎn)：

　　一是中國有1000多家新興的半導(dǎo)體相關(guān)公司，如果華為和中芯從這些公司購買進(jìn)口的半導(dǎo)體芯片、設(shè)計(jì)軟件以及生產(chǎn)設(shè)備，實(shí)際上就可以進(jìn)行半導(dǎo)體采購并擴(kuò)充制造設(shè)備；Synopsis共同執(zhí)行長(zhǎng)Aart de Geus表示：“在中國有很多半導(dǎo)體相關(guān)企業(yè)（除華為外）都在大量購買，這種情況無法避免國內(nèi)的轉(zhuǎn)售?！?/p>

　　二是聯(lián)發(fā)科對(duì)美國的銷售額很少，該公司雖已停止對(duì)華為供貨，但也有可能會(huì)繼續(xù)接受華為的訂單并準(zhǔn)備接受美國制裁，聯(lián)發(fā)科可以在不投訴最終用戶詳細(xì)信息的情況下訂單生產(chǎn)，臺(tái)積電同樣可以。

　　對(duì)上世紀(jì)70/80年代崛起的日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)來說，通過不同的方法將技術(shù)從美國帶回日本，從模仿再到超越，成就90年代的半導(dǎo)體霸主是可能的，但時(shí)代背景不同，通過規(guī)避限制出口并不是長(zhǎng)遠(yuǎn)之計(jì)，SWIFT跨國結(jié)算系統(tǒng)掌握在美國手上，所有國際賬戶信息，都在美國的掌控之中，會(huì)導(dǎo)致更多的企業(yè)被限制。

　　文章提到的另一方案或許更有前景，EUV以外的光刻機(jī)，日本的尼康和佳能也可以制造，業(yè)界有關(guān)人士表示：“中國企業(yè)擬向兩家日本公司提供資金，要求共同開發(fā)除EUV以外的新型光刻機(jī)?！?/p>

　　目前只有荷蘭的阿斯麥能夠制造EUV光刻機(jī)，而大部分基礎(chǔ)技術(shù)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)都由美國掌握，如果走別人的路，知識(shí)產(chǎn)權(quán)的約束會(huì)很多，當(dāng)芯片制程工藝接近摩爾定律極限，3D堆疊技術(shù)正在成為延續(xù)摩爾定律的主角，研發(fā)新的光刻機(jī)或許是彎道超車的機(jī)會(huì)，就像2000年前后阿斯麥憑借浸入式光刻技術(shù)超越尼康一樣，每一次彎道超車都離不開新技術(shù)、新材料的顛覆。

　　當(dāng)年美國建立EUV LLC聯(lián)盟搞高端光刻機(jī)，幾乎半導(dǎo)體業(yè)界所有的巨頭都被邀請(qǐng)來了，唯獨(dú)尼康排除在外，最后單打獨(dú)斗的尼康，自然干不過人家聯(lián)盟，不知尼康是否因此耿耿于懷？如今國產(chǎn)光刻機(jī)需要合作，尼康正好有技術(shù)積累，尼康是否有心被阿斯麥碾壓二十年后再扳回一城？結(jié)果值得期待。

　　現(xiàn)在尼康最先進(jìn)的光刻機(jī)是45-22納米，雖然跟阿斯麥有幾代的差距，但在單打獨(dú)斗的日子里，技術(shù)幾乎都是自己的，受美國方面的制約更少。

　　三、結(jié)語

　　2012年日本存儲(chǔ)芯片企業(yè)爾必達(dá)被美光收購，去年11月，原社長(zhǎng)坂本幸雄就任紫光集團(tuán)高級(jí)副總裁，紫光旗下核心企業(yè)長(zhǎng)江存儲(chǔ)主打存儲(chǔ)芯片；

　　曾就職瑞晶總經(jīng)理的陳正坤，后瑞晶被美光收購，陳正坤加入聯(lián)電，后來到大陸協(xié)助福建晉華建存儲(chǔ)芯片廠，當(dāng)被問及為什么加入聯(lián)電和中國大陸DRAM技術(shù)合作研發(fā)計(jì)劃，陳感性地說，當(dāng)年瑞晶被兼并對(duì)他沖擊很大，且自主開發(fā)DRAM技術(shù)一直是他心中的夢(mèng)想，希望這個(gè)夢(mèng)想在這里播種開花。

　　中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起，除了開放合作，還要尋找合適的領(lǐng)頭羊。