國內(nèi)最大的晶圓代工廠中芯國際昨晚發(fā)布了2019年報，營收31．16億美元，公司擁有人應占利潤為2．347億美元，同比增長75％。

    中芯國際還提到14nm工藝在去年底量產(chǎn)，并貢獻了1％的營收。先進工藝正是中芯國際今年發(fā)展的重點，目前公司已經(jīng)開發(fā)了14／12nm多種特色工藝平臺。

    量產(chǎn)的14nm工藝已經(jīng)可以滿足國內(nèi)95％的芯片生產(chǎn)，根據(jù)之前的消息，中芯國際的14nm產(chǎn)能年底將達到15K晶圓／月，之后就不會大幅增長了，重點會轉向下一代工藝——N＋1及N＋2代FinFET工藝。

    之前中芯國際聯(lián)席CEO梁孟松博士首次公開了中芯國際N＋1、N＋2代工藝的情況，透露N＋1工藝相比于14nm性能提升20％、功耗降低57％、邏輯面積縮小63％，SoC面積縮小55％，之后的N＋2工藝性能和成本都更高一些。

    外界認為中芯國際的N＋1代工藝相當于臺積電的7nm工藝，不過中芯國際隨后澄清說，N＋1是中芯國際的內(nèi)部代號，并不等于7nm。

    根據(jù)這個信息，N＋1工藝跟業(yè)界公認的7nm工藝主要差距是性能，20％的性能增幅不如業(yè)界的35％性能提升，但其他指標差別不大。

    在最新的年報會議上，中芯國際表示N＋1工藝的研發(fā)進程穩(wěn)定，已進入客戶導入及產(chǎn)品認證階段。之前該公司表示去年底試產(chǎn)了N＋1工藝，今年底會有限量產(chǎn)N＋1工藝。

    總之，即便中芯國際的N＋1工藝在性能上還有一定差距，但是國產(chǎn)的7nm級工藝今年底就會問世了，這依然是一件大事。