KLA公司宣布推出Archer? 750基于成像技術(shù)的套刻量測系統(tǒng)和SpectraShape? 11k光學臨界尺寸（“ CD”）量測系統(tǒng)，它們的主要應用是集成電路（“ IC”或“芯片”）制造。在構(gòu)建芯片中的每一層時，Archer 750有助于驗證特征圖案是否與前層對應結(jié)構(gòu)圖形對準，而SpectraShape 11k則幫助監(jiān)控三維結(jié)構(gòu)的形狀，例如晶體管和存儲單元，確保它們符合規(guī)格要求。通過識別圖案對準或特征形狀的細微變化，這些新的量測系統(tǒng)可幫助IC制造商嚴格控制所需的復雜制程，將高性能存儲器和邏輯芯片推向市場，并應用在5G，AI，數(shù)據(jù)中心和邊緣計算等領(lǐng)域。

　　KLA量測部門高級副總裁兼總經(jīng)理Jon Madsen表示：“ IC制造商面臨著以原子尺度衡量的制程容差，因為他們將新穎的結(jié)構(gòu)和新材料集成到了先進的芯片中。” “KLA在確保以高性價比制造高質(zhì)量標準的芯片產(chǎn)品方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用。今天，我很自豪地宣布我們的量測解決方案產(chǎn)品組合中的兩大新增成員，它們是一支由工程師和科學家組成的一流多學科團隊的辛勤工作和創(chuàng)造性思維的結(jié)晶。新的SpectraShape 11k和Archer 750系統(tǒng)為我們的晶圓廠客戶帶來了急需的制程控制功能，幫助他們生產(chǎn)創(chuàng)新的電子產(chǎn)品，從而推動我們的世界前進?！?/p>

　　在制程存在變化的情況下，Archer 750套刻量測系統(tǒng)可以提供準確可靠的套刻誤差測量結(jié)果，同時可以實現(xiàn)的產(chǎn)能也是僅在基于散射測量的套刻系統(tǒng)上才能看到的水平。這一突破性的系統(tǒng)可在各個層之間提供準確，快速的反饋，從而幫助光刻機在線識別制程偏差并改善整體圖案完整性，從而更快地提高良率，更穩(wěn)定地生產(chǎn)高級邏輯，DRAM和3D NAND器件。

　　SpectraShape 11k CD和尺寸形狀量測系統(tǒng)是將靈敏度和生產(chǎn)率進行了前所未有的結(jié)合，可容納以前無法涉及材料、結(jié)構(gòu)和晶片形狀。SpectraShape 11k具有以高精度和高速度測量高級邏輯、DRAM和3D NAND器件功能的能力，可快速識別制程問題并在生產(chǎn)過程中進行嚴格的制程監(jiān)控。

　　眾多的Archer 750和SpectraShape 11k系統(tǒng)均已通過應用鑒定，并已在全球領(lǐng)先的IC制造商中投入使用，在應用于生產(chǎn)創(chuàng)新電子設備的許多制程步驟中，它們提供的關(guān)鍵反饋。 Archer 750和SpectraShape 11k與KLA的5D Analyzer?高級數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)集成在一起，該系統(tǒng)支持實時制程控制及工程監(jiān)控與分析。為了維持芯片制造商所要求的高性能和生產(chǎn)率，Archer 750和SpectraShape 11k量測系統(tǒng)得到了KLA全球綜合服務網(wǎng)絡的支持。