文獻(xiàn)標(biāo)識碼: A
DOI:10.16157/j.issn.0258-7998.173893
中文引用格式: 孫俊岳. Latch-up測試中負(fù)電流的影響和防護(hù)[J].電子技術(shù)應(yīng)用,2018,44(5):36-38.
英文引用格式: Sun Junyue. The influence and protection of negative current in Latch-up test[J]. Application of Electronic Tech-
nique,2018,44(5):36-38.
0 引言
在芯片級Latch-up測試中,除電源和地之外的輸入輸出管腳都需要通過一定程度的負(fù)電流測試,這時(shí)芯片內(nèi)部就會出現(xiàn)負(fù)電流。同時(shí),由于芯片內(nèi)部存在很多寄生的二極管、三極管,會導(dǎo)致該負(fù)電流產(chǎn)生連鎖效應(yīng)引起熱N阱漏電,進(jìn)而導(dǎo)致一些電路指標(biāo)發(fā)生漂移,嚴(yán)重的甚至?xí)?dǎo)致芯片重啟或損壞。
1 Latch-up測試中的負(fù)電流
隨著電子技術(shù)的發(fā)展,電子電路的集成度越來越高,電壓瞬變和電流瞬變引起半導(dǎo)體器件失效的情況也越來越普遍。瞬變電壓會造成一個(gè)強(qiáng)電場施加在器件結(jié)構(gòu)中的氧化物薄膜上,導(dǎo)致該氧化物薄膜因介質(zhì)擊穿而損壞;而瞬變電流會導(dǎo)致很細(xì)的金屬線或者尺寸很小的器件由于大電流而損壞。所謂Latch-up,也即閂鎖效應(yīng),就是指瞬變電流被鎖定甚至放大,造成器件在電源與地之間形成短路,造成大電流和器件損壞[1-2]。
因此,閂鎖效應(yīng)是影響集成電路芯片器件可靠性的一個(gè)潛在的嚴(yán)重問題,客觀、準(zhǔn)確地評價(jià)其對閂鎖效應(yīng)的抵抗能力是保證芯片和器件質(zhì)量的重要一環(huán)。當(dāng)前業(yè)界內(nèi)普遍使用的測試標(biāo)準(zhǔn)是EIA/JEDEC 78[3]。測試項(xiàng)目主要包括兩個(gè)方面,電源電壓過壓測試(器件擊穿電壓或者1.5倍的最大工作電壓)以及輸入輸出管腳的正負(fù)電流測試(±100 mA)。
另外,通常來說芯片的每一個(gè)管腳都會設(shè)計(jì)ESD保護(hù)電路以防止靜電損壞,在BCD或者CMOS工藝中,ESD二極管通常會按照圖1中D1的方式進(jìn)行連接。當(dāng)管腳進(jìn)行負(fù)電流測試時(shí),負(fù)電流主要是通過該ESD二極管進(jìn)行釋放的。正常情況下,只要該ESD二極管的尺寸足夠大,就不會出現(xiàn)任何問題,但是往往被忽略的是負(fù)電流通過芯片內(nèi)部寄生的雙極晶體管引起的漏電流造成的影響。
2 寄生三極管對負(fù)電流的連鎖反應(yīng)
在BCD或者CMOS工藝中,存在很多種類的N型離子注入,比如P-MOSFET的N阱,NPN三極管的N型集電極等,因?yàn)樗鼈兺ǔ1贿B接到相對高的電壓以避免閂鎖效應(yīng)(Latch up),所以被人們稱作熱N阱。結(jié)合前文提到的ESD二極管中PN結(jié),就會形成如圖2所示的寄生NPN三極管結(jié)構(gòu),其中基極(base)為Psub襯底(ESD二極管的P端),發(fā)射極(emitter)為管腳(ESD二極管的N端),集電極(collector)為熱N阱[3]。
正常情況下,管腳上如果沒有出現(xiàn)負(fù)電壓,只有正電壓時(shí),Vbe為負(fù)值,這個(gè)寄生的三極管就會處于截止?fàn)顟B(tài),對芯片內(nèi)部的電路不會有任何影響。但是一旦出現(xiàn)如前文所述的負(fù)電壓,Vbe就會變?yōu)檎担瑫胸?fù)電流從基極流向發(fā)射極,寄生的三極管就會處于放大狀態(tài),從而導(dǎo)致集電極也會有漏電流流向發(fā)射極。
當(dāng)然這個(gè)三極管由于襯底寄生電阻等原因放大倍數(shù)不會很大,但是對于一些低功耗設(shè)計(jì)的電路來說,這樣的漏電流也是致命的,輕則造成電路參數(shù)指標(biāo)的漂移,重則造成重復(fù)關(guān)機(jī)開機(jī)甚至燒毀芯片。
3 負(fù)電流對模擬電壓緩沖器的影響
模擬電壓緩沖器是模擬電路設(shè)計(jì)中一種非常常用電路結(jié)構(gòu),可以非常方便地進(jìn)行電壓值轉(zhuǎn)化和提高驅(qū)動(dòng)能力。圖3中描述了一種常用的模擬電壓緩沖器結(jié)構(gòu),“amp”模塊是第一級放大級(可以是標(biāo)準(zhǔn)對稱OTA,也可以是普通差分輸入級),PM1為第二級共源放大級,“Miller Cap”用來進(jìn)行米勒補(bǔ)償以保證環(huán)路穩(wěn)定性,輸出電壓可以由式(1)來進(jìn)行計(jì)算:
但是式(1)成立的前提條件是,由寄生NPN三極管產(chǎn)生的漏電流“Ilkg”在“amp”模塊的輸出級偏置電流中所占的比例非常非常小,一旦該模擬電壓緩沖器在版圖上距離負(fù)電流管腳的距離過近,或者工藝本身寄生三極管的放大倍數(shù)比較大的時(shí)候,漏電流就會變得很大,從而造成PM1的柵源偏置電壓(Vgs)增大,同時(shí)輸出電壓增大。
可能存在的爭議是,為什么會有漏電流從“amp”的輸出流出來呢?熱N阱是怎么產(chǎn)生的呢?其實(shí)這種漏電流一般都是由“Miller Cap”造成的,一般來說米勒補(bǔ)償電容在這種應(yīng)用中的實(shí)現(xiàn)方法有兩種,一種是有源型,包括普通P型MOSFET和隔離(isolated)N型MOSFET;另外一種就是無源型,包括柵(poly)電容和金屬(metal)電容。
無源型的米勒補(bǔ)償電容肯定不會有漏電流產(chǎn)生,因?yàn)椴还苁菛胚€是金屬都不可能提供這樣的能量。容易出問題的是有源型的米勒補(bǔ)償電容,因?yàn)閱挝幻娣e可以實(shí)現(xiàn)的容值更大,所以有源型的米勒補(bǔ)償電容反而更多地被設(shè)計(jì)人員采用。對于普通P型MOSFET(N阱中加P型離子注入形成P溝道),其結(jié)構(gòu)中固有的N阱就是一個(gè)熱N阱;對于隔離(isolated)N型MOSFET,則更容易理解,其源端(source)和漏端(drain)天然就是一個(gè)熱N阱。
4 負(fù)電流對線性穩(wěn)壓器的影響
線性穩(wěn)壓器(LDO)是一種常用的模擬電路,用來將輸入的高電壓轉(zhuǎn)化為適當(dāng)?shù)碗妷簛頌楹诵碾娐诽峁┓€(wěn)定的直流電源。同時(shí),其良好的電源噪聲抑制能力也為核心電路提供了更加低噪的工作環(huán)境。圖4描述了一種常用的線性穩(wěn)壓器結(jié)構(gòu),“amp”模塊是第一級低壓放大級,高壓器件 PM1為第二級共源放大級,高壓器件 NM1作為鉗位電路用來進(jìn)行高低壓隔離。這種結(jié)構(gòu)一般不采用米勒補(bǔ)償,而是利用輸出端的大電容(輸出極點(diǎn)作為主極點(diǎn))來保證環(huán)路穩(wěn)定性[4-5],輸出電壓可以由式(2)來進(jìn)行計(jì)算:
一旦由寄生NPN三極管產(chǎn)生圖4中所示的漏電流“Ilkg”超過了“amp”模塊的輸出級的偏置電流,就會直接在R3上形成額外的電壓降,從而導(dǎo)致PM1的柵源偏置電壓(Vgs)增大和線性穩(wěn)壓器的輸出電壓升高,甚至可能會造成不可恢復(fù)的過壓損壞。
5 對負(fù)電流的一些防護(hù)手段
了解了Latch-up測試中負(fù)電流對芯片內(nèi)部電路產(chǎn)生影響的原因,就可以有針對性地采取一些防護(hù)措施。
(1)采取隔離ESD保護(hù)結(jié)構(gòu),從根本上杜絕負(fù)電流流經(jīng)Psub襯底的可能性。
(2)在版圖中將敏感電路,比如模擬電壓緩沖器和線性穩(wěn)壓器,盡量遠(yuǎn)離管腳的ESD,以增大襯底阻抗和減小寄生三極管的放大倍數(shù)。
(3)在版圖上盡量增大核心電路和ESD器件之間的間距,添加足夠充分的隔離環(huán)。
(4)盡量增大敏感電路的偏置電流,也即減少負(fù)電流導(dǎo)致的漏電流在偏置電流中所占的比重。
(5)采用一些對漏電流不敏感的電路結(jié)構(gòu),或者采用一些不使用帶有熱N阱器件的電路結(jié)構(gòu),比如使用無源米勒補(bǔ)償電容。
6 結(jié)語
負(fù)電流Latch-up測試是業(yè)界內(nèi)公認(rèn)的必須完成的一項(xiàng)測試,電路設(shè)計(jì)時(shí)普遍認(rèn)為只要ESD二極管的尺寸足夠大就不會有問題,但是負(fù)電流通過芯片內(nèi)部寄生的雙極晶體管引起的漏電流造成的影響卻常常被忽視。本文以模擬電壓緩沖器和線性穩(wěn)壓器為例分析了負(fù)電流對芯片可能造成的影響,提出了一系列在芯片內(nèi)部可以采取的防護(hù)措施,希望能給電路設(shè)計(jì)人員帶來一些幫助。
參考文獻(xiàn)
[1] 蔡依村,李錕.集成電路鎖定效應(yīng)和試驗(yàn)方法標(biāo)準(zhǔn)研究[J].信息技術(shù)與標(biāo)準(zhǔn)化,2017(Z1).
[2] TSAI H W,KER M D.Active guard ring to improve latch-up immunity[J].IEEE Transactions on Electron Devices,2016,61(12):4145-4152.
[3] ADVANI J G.Effects of negative current feedback[J].Iete Journal of Research,2015,9(3):216-228.
[4] CHONG S S,CHAN P K.A Sub-1 V transient-enhanced output-capacitorless LDO regulator with push-pull composite power transistor[J].IEEE Transactions on Very Large Scale Integration Systems,2014,22(11):2297-2306.
[5] WANG J P,JIANG J G,ZHOU X F.Less occupied and ultra-low noise LDO design[J].Analog Integrated Circuits & Signal Processing,2014,81(2):453-459.
作者信息:
孫俊岳
(戴濼格集成電路(天津)有限公司,天津300457)