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聯芯制程將推進到28nm 力拼強敵中芯

2017-02-26

半導體市況好熱鬧,就在臺積電透露5nm將在2019年試產之際,聯電23日也宣布,自主研發(fā)的14nm鰭式場效晶體管(FinFET)制程技術,已成功進入客戶芯片量產階段,良率已達先進制程的業(yè)界競爭水平,此制程將幫助客戶開拓嶄新的應用于電子產品。

聯電CEO顏博文表示,這次達成14nm量產的里程碑,象征聯電成功攜手客戶,將先進技術導入市場,同時與其他客戶的合作也在順利進行中,將持續(xù)優(yōu)化此制程,充分發(fā)揮14納米FinFET在效能、功耗和閘密度所具備的優(yōu)勢,以驅動次世代硅芯片于網絡、人工智能和各類消費產品等各領域的應用。

聯電14納米 FinFET制程效能競爭力已達業(yè)界領先標準,速度較28nm增快55%,閘密度則達兩倍,此外,功耗亦較28nm減少約50%。 此14nm客戶芯片現正于聯華電子臺南的Fab 12A晶圓廠生產中,未來將因應客戶需求,穩(wěn)步擴充其14nm產能。

聯電宣布自主研發(fā)的14nm鰭式場效晶體管(FinFET)制程技術, 也宣告聯電已決定將廈門聯芯的晶圓制程推進到28nm量產,搶食在大陸制造最大一塊的手機和網通芯片代工商機。

顏博文強調,14納米FinFET制程效能競爭力已達業(yè)界標準,速度比28 nm增快55%,閘密度達兩倍,而且芯片功耗也較28nm減少約50%。

因聯電28nm制程良率相當穩(wěn)定,也是目前市場中端手機芯片和高端網絡芯片需求最迫切的制程,預料聯電將會把重心集中沖刺聯芯將制程推升至28nm,挾大陸制造,擠下強敵中芯,在28nm拉升市占,讓聯電搶食大陸快速崛起的芯片大餅,打通任督二脈。

聯電目前與和艦共持有聯芯50%股權,聯芯去年11月開幕,導入聯電的55nm及40nm制程技術生產。


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