《電子技術(shù)應(yīng)用》
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迎戰(zhàn)三星 臺(tái)積電計(jì)劃2020年量產(chǎn)5nm制程

2016-11-25

攸關(guān)臺(tái)積5nm先進(jìn)制程布局的南科環(huán)境影響差異分析報(bào)告案昨(24)日通過專案小組審查。臺(tái)積電表示,臺(tái)積5nm制程將在明年動(dòng)工,計(jì)劃在2020年量產(chǎn),迎戰(zhàn)三星。

  南科第一期和第二期環(huán)評(píng)分別于1996年及2003年通過,因臺(tái)積電和聯(lián)電更新半導(dǎo)體制程,須增加用水用電量,依規(guī)定須辦理環(huán)差變更,環(huán)保署昨日召開南科環(huán)境影響差異分析報(bào)告專案小組第三次審查會(huì)議。

  南科管局長(zhǎng)林威呈昨天出席作簡(jiǎn)報(bào),包括臺(tái)積電和聯(lián)電都派代表參加,臺(tái)積電副處長(zhǎng)陳鏘澤特地向環(huán)評(píng)委員及環(huán)團(tuán)解釋半導(dǎo)體制程為何快速更新。他說,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)根據(jù)Moore‘s Law,持續(xù)推進(jìn)縮小積體電路線寬,以制造更節(jié)能、更環(huán)保的產(chǎn)品,約每?jī)赡暝黾右槐峨娋w數(shù)目,每18個(gè)月晶片效能提升一倍。

  他舉例,5nm晶粒是28nm的14%,且單位晶粒生產(chǎn)用電用水量分別是28nm的43%及37%,因5nm的產(chǎn)品技術(shù)門檻高,市占率及單位產(chǎn)值亦將隨之成長(zhǎng)。臺(tái)積電和三星競(jìng)爭(zhēng)早已從10nm訂單往前延伸到未來新制程,臺(tái)積必須進(jìn)入5nm制程,若能通過環(huán)差審查,5nm制程預(yù)計(jì)明年就可動(dòng)工。

  因更新制程,南科每日增加5萬噸用水量、70萬千瓦用電量。林威呈表示,南科承諾未來將采用1.25萬噸的永康再生水、及園區(qū)2萬噸工業(yè)回收再生水,將在南科環(huán)三用地上設(shè)置再生水廠。

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