《電子技術(shù)應(yīng)用》
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40nm代工PRAM存儲(chǔ)芯片 中芯國(guó)際進(jìn)入下一代內(nèi)存產(chǎn)業(yè)

2016-03-18

  中芯國(guó)際(SMIC)已經(jīng)是國(guó)內(nèi)最大、最先進(jìn)的晶圓代工廠,除了處理器之外他們也在積極謀劃存儲(chǔ)類芯片業(yè)務(wù)。2014年9月份他們推出了自己開發(fā)的38nm NAND閃存芯片,日前中芯國(guó)際又跟Crossbar公司達(dá)成了戰(zhàn)略合作協(xié)議,將使用40nm工藝為后者代工PRAM阻變式存儲(chǔ)器芯片,意味著中芯國(guó)際已經(jīng)進(jìn)入了下一代內(nèi)存產(chǎn)業(yè)。

  PRAM阻變式存儲(chǔ)器也被稱為相變內(nèi)存,PRAM使用一種或者多種含硫化物玻璃制成,其特點(diǎn)就是受熱之后可以改變形狀,成為晶體或者非晶體,而不同狀態(tài)具有不同電阻值,因此可以用來儲(chǔ)存數(shù)據(jù)。

  與普通的DRAM相比,PRAM內(nèi)存不僅寫入速度快30倍,壽命延長(zhǎng)10倍,而且PRAM內(nèi)存在斷電時(shí)不會(huì)丟失數(shù)據(jù),所以它不僅可以替代內(nèi)存,也可以替代閃存。目前Intel、三星等公司都在積極投身PRAM內(nèi)存研發(fā)。

  中芯國(guó)際合作的伙伴Crossbar是全球PRAM內(nèi)存產(chǎn)業(yè)中的領(lǐng)導(dǎo)者之一,中芯國(guó)際將使用40nm CMOS工藝為其代工PRAM產(chǎn)品,將幫助客戶將低延時(shí)、高性能和低功耗嵌入式RRAM存儲(chǔ)器組件整合入MCU及SoC等器件,以應(yīng)對(duì)物聯(lián)網(wǎng)、可穿戴設(shè)備、平板電腦、消費(fèi)電子、工業(yè)及汽車電子市場(chǎng)需求。


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