《電子技術(shù)應(yīng)用》
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32nm制程用沉浸光刻設(shè)備客戶需求量劇增

2010-06-18
關(guān)鍵詞: 工藝技術(shù) 32nm

 

     據(jù)荷蘭ASML公司高管透露,由于最近半導(dǎo)體廠商對沉浸式光刻設(shè)備的需求量劇增,著名光刻廠商ASML公司最近重新召回了先前辭退的700名員工,同時(shí)還招聘了數(shù)百名新員工,這名高管表示ASML公司還需要再增加300名員工,同時(shí)還預(yù)計(jì)公司將可保證各個(gè)客戶對光刻設(shè)備的訂單需求。
 
  由于消費(fèi)電子設(shè)備以及PC市場對高密度芯片的需求在不斷上升,ASML公司的高管表示他預(yù)計(jì)他的客戶們在今明兩年不會碰上所生產(chǎn)的芯片產(chǎn)品供過于求的情況。
 
  據(jù)ASML公司今年一季度公布的財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)顯示,這家光刻廠商今年一季度末的NXT:1950i型光刻機(jī)的存貨量為28臺,公司還透露今年第二季度將售出11臺這樣的設(shè)備。NXT:1950i 是專門為300mm 32nm及以上級別制程芯片產(chǎn)品設(shè)計(jì)的光刻設(shè)備。
 
  NXT:1950i和早期ASML沉浸式光刻機(jī)相同的1.35NA數(shù)據(jù)孔徑投影透鏡,但加入了對平臺定位技術(shù)有重大改進(jìn)的新型NXT雙晶圓工作臺(twin stage)系統(tǒng),以及改善的液體控制系統(tǒng)。最大每小時(shí)可產(chǎn)出200片300mm晶圓。這種光刻設(shè)備的售價(jià)大約在400萬美元每部。臺積電,聯(lián)電,前特許公司以及Intel-鎂光合資的IMFlash公司和一眾NAND閃存廠商等是ASML沉浸式光刻機(jī)的主要客戶;而Intel公司盡管在45nm制程應(yīng)用了尼康和ASML兩家公司的光刻機(jī),但在32nm節(jié)點(diǎn)Intel使用的全部是尼康的光刻產(chǎn)品。
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