Entegris, Inc. (NASDAQ:ENTG)，一家為先進(jìn)制造環(huán)境提供良率提升材料和相關(guān)解決方案的領(lǐng)先企業(yè)，日前發(fā)布了 VaporSorb™ 系列氣體分子污染 (AMC) 過濾器的新產(chǎn)品。此款新型的“多合一”單過濾器可在半導(dǎo)體制造的化學(xué)機(jī)械研磨 (CMP) 工藝中去除關(guān)鍵 AMC。領(lǐng)先的過濾器品牌 VaporSorb 在半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵步驟中主要用于潔凈室環(huán)境和生產(chǎn)機(jī)臺，是面向 CMP 生產(chǎn)機(jī)臺的首款過濾器，可抵御弱酸以及其他污染物。

    此款新型過濾器專為 CMP 機(jī)臺設(shè)計(jì)，可為單過濾器中所有關(guān)鍵 AMC 提供均衡壽命，從而避免多片過濾器處理的復(fù)雜性。此外，此款過濾器保留了 VaporSorb 品牌業(yè)界領(lǐng)先的使用壽命優(yōu)勢，從而能夠降低機(jī)臺宕機(jī)時(shí)間和使用成本。 

    Entegris AMC 過濾解決方案產(chǎn)品營銷經(jīng)理 Marc Venet 表示，“正如在光刻工藝中那樣，CMP 工藝中的良率問題可通過提供全面的 AMC 保護(hù)得以解決。這意味著能夠抵御弱酸，以及強(qiáng)酸和其他污染物。借助 VaporSorb CMP 產(chǎn)品，我們可以提供一體化解決方案徹底解決 CMP 工藝中 AMC 引發(fā)的腐蝕缺陷。” 

    弱酸包括乙酸和甲酸（醋酸鹽；CH3COO- 和甲酸鹽；HCOO-）以及亞硝酸（亞硝酸鹽；NO2-）等。強(qiáng)酸包括 HNO3、SO2、H2SO4 以及 HCl 等。這些污染物會導(dǎo)致 CMP 工藝缺陷和良率問題。

    7 月，公司發(fā)布了業(yè)界首款“四合一”過濾器，即面向光刻機(jī)臺的 VaporSorb TRK，用于捕獲氣體有機(jī)物、堿基類、強(qiáng)酸和弱酸。VaporSorb 過濾器采用 Entegris特有的混合材料，可捕獲氣體分子污染物，專為提供特定于應(yīng)用和工廠的過濾器解決方案而量身定制。 

    欲了解有關(guān) VaporSorb CMP 過濾器的詳細(xì)信息，請?jiān)L問 www.entegris.com。

關(guān)于 Entegris

    Entegris 是半導(dǎo)體及其它高科技行業(yè)先進(jìn)制造過程中所需良率提升材料和相關(guān)解決方案的領(lǐng)先供應(yīng)商。2014 年 4 月 30 日，Entegris 收購了總部位于康涅狄格州丹伯里的 ATMI, Inc。Entegris 通過了 ISO 9001 認(rèn)證，并在美國、中國、法國、德國、以色列、日本、馬來西亞、新加坡、韓國和臺灣設(shè)有制造工廠、客服中心和／或研發(fā)機(jī)構(gòu)。更多信息請?jiān)L問 www.entegris.com。