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中芯國際和新思科技攜手推出參考設計流程4.0

2009-06-26
作者:新思科技公司

?? 全球領先的半導體設計、驗證和制造軟件及知識產(chǎn)權(IP)供應商新思科技公司與中國內地最大的芯片代工企業(yè)中芯國際集成電路制造有限公司日前宣布,將攜手推出全新的65納米RTL-to-GDSII參考設計流程4.0(Reference Flow 4.0)。作為新思科技專業(yè)化服務部與中芯國際共同開發(fā)的成果,該參考流程中增加了 Synopsys Eclypse 低功耗解決方案及IC Compiler Zroute布線技術,為設計人員解決更精細工藝節(jié)點中遇到的低功耗和可制造性設計(DFM)等問題提供更多的可用資源。這樣,客戶可迅速獲得優(yōu)化的途徑到中芯國際65納米制程的投片,從而滿足苛刻的項目時間要求。

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?? 參考設計流程4.0利用了新思科技Eclypse低功耗解決方案的關鍵組成部分Galaxy?實施平臺,從而使設計人員能夠在包括RTL綜合與測試、物理實現(xiàn)與驗收階段在內的整個設計流程中,實施先進的低功耗技術。此外,整個參考流程中還采用了IC Compiler的Zroute布線技術,該技術使用先進的布線算法對制造規(guī)則的影響、時序以及其他設計目標進行評估,因而能支持中芯國際的65納米布線規(guī)則。集成的Zroute 通過為特定芯片的設計制定出設計規(guī)劃、面積、功率和信號完整性(SI)等目標,使可制造性設計(DFM)的優(yōu)化技術更加合理。


?? 通過采用經(jīng)由中芯國際內部開發(fā)的 CCS 標準單元庫、SRAM、PLL、輸入/輸出庫和低功耗單元庫,本參考設計流程得到了驗證。驗證中采用了分別具備電源閘控(Power Gating)和數(shù)據(jù)保持能力的多電源電壓(multiple -VDD)和多電源模塊。該流程的其他關鍵特性還包括:利用 IC Compiler及可測試性設計技術(DFT) 結合支持可自動生成全速(at-speed)測試的片上時鐘控制功能實現(xiàn)的多種參數(shù)特性多重模式(Multi-Corner Multi-Mode,MCMM)優(yōu)化及關鍵面積分析與壓縮。


? “中芯國際的65納米邏輯制程要求一個能夠解決時序、漏電和可制造性設計等關鍵性問題的流程,以減少風險并提高設計結果質量?!敝行緡H設計服務中心副總裁歐陽雄表示,“我們通過與新思科技密切合作,再次為我們雙方的客戶推出全新解決方案,使他們能夠同時受益于我們兩家公司的領先技術。隨著我們即將向研制更先進的工藝節(jié)點技術邁進,我們期待能夠與新思科技繼續(xù)保持合作關系?!?/P>


? “新思科技與我們的半導體代工合作伙伴密切合作,旨在加快客戶的設計進入量產(chǎn)的過程,”新思科技營銷與戰(zhàn)略聯(lián)盟副總裁Rich Goldman 表示,“我們與中芯國際攜手為IC設計團隊提供一個切實可行的參考流程,使之利用新思科技的低功耗和DFM優(yōu)化技術,加快其以實現(xiàn)中芯國際65納米制程技術為目的的片上系統(tǒng)的設計進程?!?/P>


產(chǎn)品獲取


?? 中芯國際-新思科技參考流程4.0( SMIC-Synopsys Reference Flow 4.0)目前已投入使用。欲了解更多信息,敬請聯(lián)系您的中芯國際客戶代表或發(fā)送郵件至 Design_Services@smics.com。

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