《電子技術(shù)應(yīng)用》
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應(yīng)用材料公司推出UVision 3系統(tǒng)設(shè)定亮場(chǎng)檢測(cè)靈敏度和生產(chǎn)力的新基準(zhǔn)

2007-11-29
作者:應(yīng)用材料公司

?? 近日,應(yīng)用材料公司" title="應(yīng)用材料公司">應(yīng)用材料公司推出具有業(yè)界最高生產(chǎn)力的DUV(深紫外)亮場(chǎng)硅片檢測(cè)工具UVision ?3系統(tǒng),它能滿(mǎn)足45納米前端制程" title="制程">制程和浸沒(méi)式光刻對(duì)于關(guān)鍵缺陷檢測(cè)" title="缺陷檢測(cè)">缺陷檢測(cè)靈敏度的要求。這個(gè)新一代的系統(tǒng)為應(yīng)用材料公司突破性的UVision技術(shù)帶來(lái)了重要的進(jìn)步,它將掃描硅片的激光束數(shù)量提升至3倍,使其生產(chǎn)速度比任何競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的系統(tǒng)快40%。兩個(gè)新的成像模式將靈敏度擴(kuò)展至20納米,全新靈活的自動(dòng)缺陷分類(lèi)引擎能夠迅速標(biāo)定出有害缺陷從而達(dá)到更快的成品率學(xué)習(xí)進(jìn)程。?

??? 應(yīng)用材料公司副總裁,工藝診斷控制事業(yè)部總經(jīng)理Gilad Almogy博士表示:“UVision 3系統(tǒng)的多光束DUV(深紫外)激光結(jié)構(gòu)能夠突破傳統(tǒng)光學(xué)檢測(cè)的精度限制。領(lǐng)先的存儲(chǔ)器和浸沒(méi)式光刻制造商可以使用這個(gè)增強(qiáng)的系統(tǒng)以工程靈敏度進(jìn)行量產(chǎn),在更短的周期內(nèi)得到有意義的數(shù)據(jù)。多套UVision 3系統(tǒng)已經(jīng)運(yùn)送給一些領(lǐng)先的客戶(hù),該系統(tǒng)出眾的的靈敏度和突破性的DUV(深紫外)亮場(chǎng)檢測(cè)生產(chǎn)速度已經(jīng)得到了驗(yàn)證?!?

??? 在結(jié)合獨(dú)特的激光DUV(深紫外)結(jié)構(gòu),靈敏的光電倍增器(PMT)和可變偏振的情況下,UVision 3系統(tǒng)也能夠應(yīng)對(duì)32納米存儲(chǔ)器發(fā)展的挑戰(zhàn)。在照射和收集光路下新的亮場(chǎng)成像模式滿(mǎn)足了浸沒(méi)式光刻對(duì)于多種對(duì)比度的要求。此外,該系統(tǒng)創(chuàng)新的高準(zhǔn)確度缺陷檢測(cè)算法和(stitch-to-stitch)逐禎?rùn)z測(cè)提高了周邊邏輯區(qū)域的靈敏度,這是任何其他亮場(chǎng)系統(tǒng)都不具備的關(guān)鍵優(yōu)勢(shì)。?

??? UVision 3系統(tǒng)是應(yīng)用材料公司先進(jìn)的45納米及以下雙重布圖光刻實(shí)現(xiàn)技術(shù)和前端制程應(yīng)用的重要組成部分。欲了解更多應(yīng)用材料公司UVision系統(tǒng)的信息,請(qǐng)?jiān)L問(wèn):http://appliedmaterials.com/products/uvision_4.html?

??? 應(yīng)用材料公司是納米制造技術(shù)" title="制造技術(shù)">制造技術(shù)方案的全球領(lǐng)導(dǎo)廠商。公司廣泛的產(chǎn)品包括創(chuàng)新的設(shè)備、服務(wù)和軟件,它們被應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片" title="半導(dǎo)體芯片">半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、柔性電子產(chǎn)品和節(jié)能玻璃的制造。應(yīng)用材料公司用納米制造技術(shù)來(lái)改善人們的生活。欲了解更多應(yīng)用材料公司的信息,請(qǐng)?jiān)L問(wèn)公司網(wǎng)站www.appliedmaterials.com?

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