等離子鍍膜用射頻電源功率計(jì)算與控制系統(tǒng)研究
所屬分類：技術(shù)論文
上傳者：wwei
文檔大?。?span>4174 K
標(biāo)簽： 磁控濺射鍍膜 射頻電源 功率計(jì)算
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文檔介紹：當(dāng)前的等離子磁控濺射鍍膜領(lǐng)域廣泛使用的射頻電源存在功率控制精度不足，功率可調(diào)范圍有限，以及因功率計(jì)算不準(zhǔn)確導(dǎo)致輸出功率波動(dòng)較大和誤差顯著等問(wèn)題。為此，基于數(shù)字下變頻技術(shù)生成射頻信號(hào)源，提出了一種等離子體鍍膜用射頻電源功率計(jì)算與控制系統(tǒng)，通過(guò)VI Sensor上耦合的傳輸線上的信息直接計(jì)算出射頻電源的輸出功率，并利用控制器調(diào)節(jié)信號(hào)源幅值，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)輸出功率的精確調(diào)節(jié)。仿真驗(yàn)證該方法能夠?qū)崿F(xiàn)快速、準(zhǔn)確的功率計(jì)算及高精度的功率調(diào)節(jié)。通過(guò)實(shí)際樣機(jī)測(cè)試，該方案被證實(shí)能夠顯著降低輸出功率誤差，并提高鍍膜樣品上的成膜質(zhì)量，為等離子磁控濺射鍍膜技術(shù)的發(fā)展注入了新的活力。
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