芯片制造的一項關(guān)鍵技術(shù)，了解一下？
所屬分類：技術(shù)論文
上傳者：zhoubin333
文檔大小：1386 K
標(biāo)簽： 芯片制造 CMP 仿真
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文檔介紹：CMP 仿真是選擇在芯片制造期間使用最佳 CMP 工藝的寶貴工具。ECD 后產(chǎn)生的大幅表面形貌變化會影響 CMP 后的表面輪廓。 此外，設(shè)計上較弱的遠(yuǎn)程相互作用是 ECD 后的表面輪廓所固有的，這意味著給定圖形上方的表面高度不僅僅由圖形本身定義，還受相鄰圖形的影響。 能否創(chuàng)建精確的 ECD 后模型對于成功的 CMP 仿真至關(guān)重要。
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