《電子技術(shù)應(yīng)用》
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三安集成亮相EDICON 2026 新一代HP56加速高频通信应用落地

2026-04-23
來源:三安集成
關(guān)鍵詞: 三安集成 射频 氮化镓 砷化镓

近日,第十一屆電子設(shè)計創(chuàng)新大會(EDICON 2026)在北京召開。作為全球微波與射頻領(lǐng)域的權(quán)威盛會,EDICON匯聚了產(chǎn)業(yè)鏈上下游的頂尖專家,共同探討下一代通信技術(shù)的演進(jìn)路徑。三安光電旗下子公司三安集成受邀出席,并發(fā)表了題為《三安射頻技術(shù)在下一代應(yīng)用中的布局》的技術(shù)報告,深入分享了其在砷化鎵(GaAs)、氮化鎵(GaN)及濾波器領(lǐng)域的最新工藝進(jìn)展。

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  隨著3GPP R18至R20標(biāo)準(zhǔn)的演進(jìn),R21發(fā)布在即,行業(yè)對5G-A/6G網(wǎng)絡(luò)的能力展開充分研討,射頻前端器件因此正面臨性能與設(shè)計的嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。未來的射頻設(shè)計需在R19/R20等新標(biāo)準(zhǔn)下實現(xiàn)更高的功率等級(Power Class),同時非地面網(wǎng)絡(luò)(NTN)等新應(yīng)用場景也對輸出功率及隔離度提出嚴(yán)苛指標(biāo)。

  此外,隨著載波聚合(CA)技術(shù)及4G/5G協(xié)同雙連接(ENDC)的普及,射頻鏈路需在更小的物理尺寸內(nèi)支持更大的帶寬和輸出功率,導(dǎo)致功放器件熱密度急劇上升。如何在提升功率附加效率(PAE)的同時,解決高功率下的熱耦合與可靠性問題,已成為當(dāng)前射頻工程師亟待攻克的核心痛點。

  針對上述挑戰(zhàn),三安集成在報告中詳細(xì)展示了最新一代砷化鎵工藝HP56的性能表現(xiàn)。對比三安的前代工藝,HP56在3.5GHz頻段下保持良好線性度的同時,實現(xiàn)了更高的功率增益和更優(yōu)越的最大功率附加效率,相比前代HP12工藝,增益提升了2.6dB,效率提升了2.6%,能夠有效支持甚高頻及更大帶寬調(diào)制信號放大并顯著降低PA功耗。

  報告同時客觀指出,隨著功率密度的提升,芯片會面臨更明顯的熱失控(Thermal Runaway)風(fēng)險。對此,三安集成通過仿真與實測,提出了具體的工藝優(yōu)化建議,通過調(diào)整結(jié)構(gòu)和金屬間距,可以有效降低結(jié)溫,緩解熱耦合效應(yīng),為設(shè)計客戶解決高功率下的可靠性問題提供了切實可行的參考方案。

  面向商業(yè)航天、非地面通信等未來高頻通信應(yīng)用場景,三安集成也同步展示了在氮化鎵工藝與濾波器產(chǎn)品上的技術(shù)布局:

  ? 氮化鎵(GaN)技術(shù):新一代工藝重點針對功率密度與電流崩塌效應(yīng)進(jìn)行了優(yōu)化,旨在通過外延與工藝的代際升級,實現(xiàn)效率與可靠性的雙重提升,以滿足民用基站及商用航天對高效率的迫切需求。

  ? 濾波器產(chǎn)品:公司的1109 NTN SAW濾波器系列已覆蓋n256頻段及BDS接收頻段,能夠針對性解決衛(wèi)星通信中現(xiàn)網(wǎng)共存頻段臨近過密、邊帶抑制要求高的技術(shù)難點,同時帶內(nèi)插損僅為1dB左右,為天地一體化通信提供關(guān)鍵支持。

  三安集成將持續(xù)投入射頻工藝研發(fā),以客戶需求為中心,為全球客戶提供高性能、高可靠性的射頻制造方案,助力下一代無線通信技術(shù)與產(chǎn)業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展。

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