9月25日消息，據(jù)報道，Intel正在加碼采購ASML的High-NA EUV光刻機，計劃購買兩臺相關(guān)設備，這一數(shù)量較之前計劃的單臺設備翻了一番。

ASML的High-NA EUV光刻機不僅價格高昂，更能夠?qū)崿F(xiàn)更高的分辨率和更精細的芯片制造關(guān)鍵，是未來高端芯片制造的關(guān)鍵。

目前，全球僅有少數(shù)幾家公司能夠獲得ASML的High-NA EUV設備，包括臺積電、三星、SK海力士和Intel。

Intel的14A工藝計劃引入高數(shù)值孔徑（High-NA）光刻技術(shù)，這將是Intel代工服務（IFS）部門的重大里程碑。

14A工藝的成功與否對Intel的未來發(fā)展至關(guān)重要，因為如果該工藝無法獲得客戶的廣泛采用，Intel可能會放棄對高端芯片制造節(jié)點的追求。因此，14A工藝可以說是Intel在高端芯片制造領域的“背水一戰(zhàn)”。

據(jù)估算，ASML的單臺High-NA EUV光刻機價格約為3.7億美元，意味著Intel僅在光刻設備上就可能花費10億至20億美元。