6月9日消息，近日，荷蘭光刻機(jī)巨頭ASMLCEO傅恪禮（Christophe Fouquet）接受媒體采訪時(shí)明確表示，美國出臺(tái)的打壓措施只會(huì)適得其反，讓中國“更努力取得成功”。

ASML是全球唯一一家高端光刻機(jī)的制造商。傅恪禮稱，中國已經(jīng)開始研發(fā)一些國產(chǎn)光刻設(shè)備，盡管中國在趕超ASML的技術(shù)方面還有很長的路要走，但“你試圖阻止的人會(huì)更加努力地取得成功?！?/p>

傅恪禮補(bǔ)充道：“無論你設(shè)置多少障礙都沒用?！?/p>

據(jù)此前報(bào)道，中國科學(xué)院成功研發(fā)除了突破性的固態(tài)DUV(深紫外)激光，可發(fā)射193nm的相干光，與目前主流的DUV曝光波長一致，能將半導(dǎo)體工藝推進(jìn)至3nm。

在國產(chǎn)光刻機(jī)真正完成替代之前，我們依然需要使用ASML的DUV光刻機(jī)。

那么就有一個(gè)很多人關(guān)心的問題，光刻機(jī)有后門嗎？外國公司是否能夠遠(yuǎn)程控制我國的光刻機(jī)？

據(jù)國內(nèi)媒體報(bào)道，復(fù)旦大學(xué)網(wǎng)絡(luò)空間國際治理研究基地特邀研究員、B站知名半導(dǎo)體up主芯聲對此表示：

“根據(jù)我掌握的消息和個(gè)人分析，我們應(yīng)該能在2028年完成28nm工藝的安全化。所謂安全化，并非將所有設(shè)備和工序一律國產(chǎn)化，而是確保28nm工藝所需要素可持續(xù)供應(yīng)，并部分以國產(chǎn)材料替代。到2030年，我們有望同樣實(shí)現(xiàn)14nm工藝的安全化?！?/p>

這意味著，到2028年，我們可在基站等關(guān)鍵基礎(chǔ)設(shè)施領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)芯片全面國產(chǎn)化。到2030年，若成功實(shí)現(xiàn)14nm制程生產(chǎn)安全化，就能徹底跨過AI芯片的門檻，為我們的AI芯片生產(chǎn)提供一個(gè)基礎(chǔ)的安全保障，盡管可能到時(shí)候這條產(chǎn)線上生產(chǎn)的AI芯片不會(huì)太先進(jìn)。

“我之前曾參與過與ASML的談判，對方曾明確希望將我們的光刻機(jī)接入外網(wǎng)，理由是便于他們提供更優(yōu)質(zhì)的服務(wù)——只要將機(jī)器連接到互聯(lián)網(wǎng)，ASML預(yù)裝的遠(yuǎn)程運(yùn)維系統(tǒng)即可實(shí)時(shí)傳回所有數(shù)據(jù)。一旦出現(xiàn)故障，便可隨時(shí)遠(yuǎn)程處理，無需人工收集后再上傳。”

所以在這個(gè)背景下，你覺得它是否會(huì)留下后門、能否被遠(yuǎn)程關(guān)閉？畢竟ASML方面自己都說了，只要聯(lián)網(wǎng)，就能處理一切問題。