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ASML將攜全景光刻解決方案參加第七屆進博會

2024-11-05
來源:ASML
關鍵詞: ASML 光刻

(中國上海,2024年11月4日)——半導體行業(yè)的領先供應商ASML(阿斯麥)將于11月5日至10日參加第七屆中國國際進口博覽會(以下簡稱“進博會”),亮相技術裝備展區(qū)集成電路專區(qū)4.1展館A1-03展臺。在本屆進博會上,ASML延續(xù)“光刻未來,攜手同行”的主題,將通過與時俱進的交互式數(shù)字化形式重點展示其融合光刻機臺、計算光刻和量測的全景光刻解決方案,幫助客戶提升產(chǎn)能和良率。

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ASML全球執(zhí)行副總裁、中國區(qū)總裁沈波表示:“今年是我們第六次參加進博會。每年一度的進博盛會持續(xù)體現(xiàn)了中國擴大開放、推動合作的承諾,其傳遞的‘共享未來’理念與ASML的企業(yè)文化高度契合。借助此次進博會,我們希望進一步增強行業(yè)內(nèi)外對于ASML全景光刻解決方案的認知?!?/p>

今年,ASML將在展臺著重介紹全景光刻解決方案下的三款應用廣泛的DUV光刻機和一款新型的電子束量測設備,以及計算光刻業(yè)務。參觀者可以近距離感受ASML如何憑借持續(xù)創(chuàng)新幫助客戶實現(xiàn)更多價值。

· DUV 產(chǎn)品:

o NXT:1470和NXT:870:這兩款從XT氣浮平臺升級至NXT磁浮平臺的干式DUV產(chǎn)品,能為客戶顯著提升產(chǎn)能并降低單位成本;其中NXT:1470 是ASML 第一款應用NXT平臺,并實現(xiàn)每小時晶圓產(chǎn)量(wph)達300片以上的干式DUV機臺。

o XT:260:即將推出的XT:260機臺是基于ASML獨有的雙工作臺技術,采用業(yè)界公認的XT4 平臺,具有雙倍視場曝光的i-line光刻系統(tǒng)。該產(chǎn)品能夠有效提升性能并降低單片晶圓成本,可支持從先進封裝到主流市場的的廣泛應用和發(fā)展趨勢。

· 量測設備:eScan 1100是ASML第一代實現(xiàn)在線缺陷檢測(物理缺陷和電性缺陷)的多束電子束檢測系統(tǒng),具有25條光束,可將晶圓量測吞吐量提高至單束量測系統(tǒng)的10倍以上。

· 計算光刻業(yè)務:計算光刻主要應用于芯片的開發(fā)與制造環(huán)節(jié),通過優(yōu)化成像光源與掩模板設計,實現(xiàn)更精確的圖形成像和更好的芯片生產(chǎn)良率。


在展臺上,ASML中國創(chuàng)新地借助人工智能生成內(nèi)容(AIGC)技術,以“光的旅程”為主題,將ASML不斷推動科技進步的歷程可視化——一縷從40年前公司創(chuàng)立之初啟程的微光,如今已照射至全景光刻解決方案的每條業(yè)務線,也點亮了現(xiàn)代科技生活的每個角落,最終穿梭到未來世界,開啟全新的科技篇章。值此公司成立40周年之際,ASML也在展臺上設置了隨處可見的40周年紀念元素和打卡區(qū)域。

在四十年的崢嶸歲月里,ASML一直致力于光刻技術的研究和發(fā)展,實現(xiàn)了無數(shù)次的技術突破與創(chuàng)新,推動摩爾定律不斷向前發(fā)展。值得一提的是,自1988年交付首臺步進式光刻機以來,今年也是ASML深耕中國市場的第36年。展望未來,ASML期待與合作伙伴一起,助力半導體行業(yè)可持續(xù)發(fā)展。

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