眾所周知，中國(guó)大陸的芯片產(chǎn)業(yè)要發(fā)展，與臺(tái)灣省、與韓國(guó)、與日本、歐洲、美國(guó)等國(guó)家和地區(qū)的情況都不一樣，復(fù)雜很多。

像臺(tái)灣省、韓國(guó)、日本等地，要發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)，是整合全球的供應(yīng)鏈，買最先進(jìn)的產(chǎn)品，再整合起來(lái)就行，真正的全球一體化。

但中國(guó)大陸要發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)，全球一體化只是想一想而已，需要的是全國(guó)產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈的崛起，因?yàn)槊绹?guó)一直想方設(shè)法的卡著我們發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)的“脖子”，特別是一些先進(jìn)的設(shè)備，就不允許賣到中國(guó)大陸來(lái)，全球一體化實(shí)現(xiàn)不了。

所以一直以來(lái)，國(guó)產(chǎn)芯片供應(yīng)鏈都是在負(fù)重前行，先解決從0到1的問(wèn)題，再?gòu)?慢慢發(fā)展到10，最終達(dá)到全球頂尖水平，與國(guó)際巨頭扳手腕。

那么問(wèn)題來(lái)了，當(dāng)前國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備中，技術(shù)最先進(jìn)的是哪一種，技術(shù)相對(duì)最落后的又是哪一種呢？

刻蝕機(jī)應(yīng)該是當(dāng)前國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備中，唯一達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平的，已經(jīng)達(dá)到了5nm。

這家公司就是中微公司，其生產(chǎn)的刻蝕機(jī)，早就實(shí)現(xiàn)了5nm，被臺(tái)積電、中芯等晶圓廠使用。

事實(shí)上，刻蝕機(jī)之前也是被美國(guó)禁運(yùn)的，但隨著中微公司的先進(jìn)刻蝕機(jī)后，禁運(yùn)也就沒(méi)意義了，于是放開(kāi)了市場(chǎng)，中國(guó)廠商可以隨便買。

而技術(shù)相對(duì)落后的則是光刻機(jī)了，目前上海微電子生產(chǎn)的光刻機(jī)，其標(biāo)注的精度還在90nm。而ASML的光刻機(jī)，已經(jīng)能夠生產(chǎn)3nm的芯片了，這中間的差距還是相當(dāng)大的。

也正因?yàn)楣饪虣C(jī)技術(shù)差距大，所以目前光刻機(jī)是禁運(yùn)的，比如EUV光刻機(jī)美國(guó)就不準(zhǔn)ASML賣到中國(guó)大陸來(lái)，為的就是阻止我們進(jìn)入到7nm。

前段時(shí)間還傳出美國(guó)要對(duì)14nm及以下的設(shè)備下手，實(shí)行禁運(yùn)，原因就是國(guó)內(nèi)的設(shè)備，能夠?qū)崿F(xiàn)14nm以下節(jié)點(diǎn)不多，更多的還處于14nm、28nm階段。

可見(jiàn)，光刻機(jī)已經(jīng)成為了當(dāng)前我們制造芯片的最大短板了，所以國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)真的要努力才行，不說(shuō)實(shí)現(xiàn)5nm，先實(shí)現(xiàn)28nm，再搞定14nm，先實(shí)現(xiàn)與其它國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備一個(gè)節(jié)點(diǎn)才行，你覺(jué)得呢？

而只要國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備有了突破，達(dá)到先進(jìn)水平，禁運(yùn)也就沒(méi)有了任何意義，也就會(huì)全面放開(kāi)了，刻蝕機(jī)就是最好的例子。

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