12月14日消息，CNBC 報道稱，全球最先 進(jìn)的光刻機廠商荷蘭AMSL公司正在開發(fā)一種新版本的EUV光刻機，將成為世界上最先 進(jìn)的芯片制造設(shè)備。中國現(xiàn)在連EUV光刻機都買不到，所以，對于這種更新型的光刻機，更要警惕。

這種光刻機被稱為 High NA（高數(shù)值孔徑）。據(jù)稱，第一臺高 NA 機器仍在開發(fā)中，預(yù)計從 2023 年開始提供先行體驗，以便芯片制造商可以更快地開始驗證并學(xué)會如何使用。然后，客戶可以在 2024 年和 2025 年將以此進(jìn)行自己的研發(fā)工作。從 2025 年開始，它們很可能用于大批量制造。

這種NA光刻機可以讓芯片制造商研制出更復(fù)雜的芯片。光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。EUV光刻機如今名氣巨大，其實推出時間并不長。

NV光刻機還沒問世，就已被全球各芯片廠盯著。今年 7 月，英特爾首席執(zhí)行官表示，該公司有望成為 ASML 新機器的第一個接收者。

而2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，按理于2019年初交貨，卻迄今未收到貨，因為美國為了限制荷蘭ASML公司向中國公司出口極紫外光刻機（EUV），對荷蘭屢次施壓。  最終，荷蘭不再續(xù)簽 ASML 的出口許可。而中國則是 ASML 公司的第二大客戶，占其營業(yè)總收入的 20%，ASML也希望能增加其在華的銷量。

假如幾年之后ASML公司推出更新型的光刻機，那中國和國外的芯片代工能力的差距有可能進(jìn)一步拉大。