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晶瑞股份順利購(gòu)得ASML ArF浸入式光刻機(jī)

2021-01-21
來(lái)源:全球半導(dǎo)體觀察

近日,蘇州晶瑞化學(xué)股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱“晶瑞股份”)發(fā)布公告稱,經(jīng)多方協(xié)商、積極運(yùn)作,公司已順利購(gòu)得ASML XT 1900 Gi型光刻機(jī)一臺(tái),并于2021年1月19日運(yùn)抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室。

據(jù)悉,晶瑞化學(xué)此次采購(gòu)的光刻機(jī)設(shè)備為ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻機(jī),可用于研發(fā)最高分辨率達(dá)28nm的高端光刻膠。該設(shè)備于2020年11月19日從原廠斷電停機(jī),于2021年1月19日運(yùn)抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室。

公告顯示,本次購(gòu)買的ASML光刻機(jī)設(shè)備系晶瑞股份集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目的必要實(shí)驗(yàn)設(shè)備,旨在研發(fā)出更高端的ArF光刻膠,若研發(fā)工作進(jìn)展順利,將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實(shí)現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越,并最終實(shí)現(xiàn)應(yīng)用于12英寸芯片制造的戰(zhàn)略布局。

晶瑞股份表示,目前公司完成中試的KrF光刻膠已進(jìn)入客戶測(cè)試階段,達(dá)到0.15μm的分辨率。本次光刻機(jī)的順利入駐可以保障公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目關(guān)鍵設(shè)備的技術(shù)先進(jìn)性,對(duì)加快產(chǎn)品研發(fā)項(xiàng)目進(jìn)度有積極影響。

晶瑞股份在接受經(jīng)濟(jì)觀察網(wǎng)咨詢有關(guān)光刻膠的生產(chǎn)研發(fā)狀況時(shí)表示,“公司目前正在生產(chǎn)和銷售的半導(dǎo)體光刻膠主要包括I線和G線光刻膠,此外還有印制電路板(PCB)和液晶顯示器(LCD)光刻膠等;購(gòu)買的光刻機(jī)主要用于未來(lái)高端半導(dǎo)體光刻機(jī)的研發(fā)?!?/p>

公告顯示,下一步,晶瑞股份將積極組織相關(guān)資源,盡快完成設(shè)備的安裝調(diào)試工作。


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