在電磁波理論和技術(shù)的發(fā)展過程中，超材料和超表面在學(xué)術(shù)界受到了很多重視。而隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，在學(xué)術(shù)界熱門已久的超材料和超表面技術(shù)找到了和半導(dǎo)體技術(shù)結(jié)合的一些重要應(yīng)用，從而可望能將研究轉(zhuǎn)化成實(shí)際產(chǎn)品，從這也將成為半導(dǎo)體行業(yè)的一個(gè)新機(jī)會(huì)，從而改變一些重要器件的設(shè)計(jì)范式。

　　什么是超表面技術(shù)

　　在傳統(tǒng)的理論中，小于波長(zhǎng)的器件對(duì)于電磁波的傳播產(chǎn)生的影響有限。因此在傳統(tǒng)的電磁波和光學(xué)設(shè)計(jì)中，器件往往是和電磁波的波長(zhǎng)接近（例如天線）或者大于波長(zhǎng)（例如光學(xué)設(shè)計(jì)中的透鏡）。

　　而超材料（以及超表面）的理論和設(shè)計(jì)則直接超越了傳統(tǒng)的電磁波設(shè)計(jì)智慧。確實(shí)，單個(gè)小于電磁波波長(zhǎng)尺度的器件對(duì)于電磁波傳播能做的很有限，但是如果把大量小于電磁波波長(zhǎng)的器件按照一定規(guī)律排布起來(lái)，則可以以較小的尺寸實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)電磁波器件的同樣功能，甚至實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)電磁波設(shè)計(jì)無(wú)法實(shí)現(xiàn)的特性。所謂超材料，就是指使用大量亞波長(zhǎng)尺寸元件按照一定規(guī)律排布實(shí)現(xiàn)特定電磁特性的設(shè)計(jì)方法，其中包括把這些亞波長(zhǎng)器件按照特定規(guī)律在一維，二維或三維空間中排布；而超表面則是超材料中的一種特例，特指把這些亞波長(zhǎng)尺寸器件在二維空間中排布實(shí)現(xiàn)特定的電磁特性。

　　超表面技術(shù)和半導(dǎo)體技術(shù)結(jié)合的動(dòng)力則來(lái)源于應(yīng)用和半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展。首先，在超表面設(shè)計(jì)中，需要實(shí)現(xiàn)亞波長(zhǎng)尺寸的器件，因此需要能實(shí)現(xiàn)精細(xì)尺寸的器件。例如，在光學(xué)應(yīng)用中，通常感興趣的光波長(zhǎng)在500nm左右，為了實(shí)現(xiàn)亞波長(zhǎng)尺寸的器件通常需要工藝能完成100nm以下的精度，而目前來(lái)看半導(dǎo)體技術(shù)是能實(shí)現(xiàn)這類精度的最佳技術(shù)。此外，還有來(lái)自應(yīng)用的推動(dòng)，例如隨著無(wú)線技術(shù)的發(fā)展，感興趣的無(wú)線頻段的頻率越來(lái)越高，因此波長(zhǎng)也越來(lái)越小，隨著太赫茲技術(shù)（>300GHz頻段）應(yīng)用逐漸進(jìn)入人們的視野，使用半導(dǎo)體技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)針對(duì)太赫茲頻段的超表面陣列也成為了一個(gè)超表面很有前景的方向。

　　半導(dǎo)體超表面光學(xué)技術(shù)

　　超表面光學(xué)技術(shù)主要使用超表面的設(shè)計(jì)方法來(lái)替代傳統(tǒng)的光學(xué)設(shè)計(jì)，或者來(lái)實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)無(wú)法實(shí)現(xiàn)的一些新功能。

　　在替代傳統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)方面，超表面光學(xué)技術(shù)的一個(gè)重要應(yīng)用在于微型透鏡設(shè)計(jì)。在傳統(tǒng)的基于折射透鏡的光學(xué)設(shè)計(jì)中，可見光透鏡的尺寸難以做小，因此對(duì)于未來(lái)一些對(duì)于尺寸和重量都有要求的應(yīng)用（如下一代智能手機(jī)和ARVR設(shè)備）新的尺寸更小重量更輕的透鏡正在得到越來(lái)越多的重視，而超表面技術(shù)則能很好地滿足這一需求。超表面透鏡通過在硅或者玻璃晶元上使用半導(dǎo)體光刻技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)大規(guī)模亞波長(zhǎng)尺度器件陣列可以大大縮小透鏡的尺寸，并提升透鏡的各項(xiàng)參數(shù)（例如透光效率等）。例如，超表面研究領(lǐng)域的領(lǐng)軍人物，哈佛大學(xué)教授Federico Capasso就提出了一種使用成熟的DUV技術(shù)實(shí)現(xiàn)的大規(guī)模超表面透鏡，可以在平面玻璃晶圓上實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)需要凸透鏡才能實(shí)現(xiàn)的功能，從而大大減小光學(xué)設(shè)計(jì)所需要的尺寸，厚度和重量。

　　除了輕薄透鏡之外，超表面透鏡還能實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)難以實(shí)現(xiàn)的功能。例如，通過超表面設(shè)計(jì)控制入射光的偏振特性，可以很容易就實(shí)現(xiàn)偏振光成像。另外，超表面還可以很方便地實(shí)現(xiàn)高性能光頻率的選擇特性，因此通過超表面透鏡陣列可以實(shí)現(xiàn)微型光頻譜儀等。這些傳統(tǒng)透鏡無(wú)法實(shí)現(xiàn)的特性可能會(huì)在下一代機(jī)器視覺應(yīng)用中有重要應(yīng)用，例如通過偏振成像可以幫助輔助駕駛在雨雪天氣完成高質(zhì)量路面視覺檢測(cè)，而頻譜儀則可以用來(lái)分析產(chǎn)品質(zhì)量，化學(xué)成分等等。

　　超表面光學(xué)設(shè)計(jì)的另一個(gè)重要革新點(diǎn)在于可以實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體光學(xué)。在傳統(tǒng)的圖像傳感器模組設(shè)計(jì)中，通常圖像傳感器芯片和光學(xué)透鏡設(shè)計(jì)在完全不同的工藝和設(shè)計(jì)流程中實(shí)現(xiàn)，然后再完成組裝的過程。由于使用了完全不同的工藝，因此組裝過程成本較高。而使用超表面光學(xué)之后，圖像傳感器和透鏡設(shè)計(jì)都可以在半導(dǎo)體工藝實(shí)現(xiàn)，而兩者也可以方便得使用成熟的半導(dǎo)體封裝技術(shù)以很低的成本和很高的良率封裝到一起。因此，我們認(rèn)為，超表面光學(xué)設(shè)計(jì)可能會(huì)給圖像傳感器模組的設(shè)計(jì)帶來(lái)革命性的改變。

　　半導(dǎo)體超表面太赫茲技術(shù)

　　除了光學(xué)設(shè)計(jì)之外，超表面在無(wú)線應(yīng)用，尤其是毫米波和太赫茲波段的應(yīng)用中也非常有前景。

　　隨著無(wú)線波段頻率的升高，電磁波在傳播過程中的衰減通常都會(huì)變大，而同時(shí)在電磁波發(fā)射和接收過程中的能量損失也會(huì)變大。因此，在無(wú)線應(yīng)用頻率升高的同時(shí)，一個(gè)重要的技術(shù)變化是對(duì)于這些使用非常高頻率電磁波的應(yīng)用都會(huì)需要對(duì)電磁波波束做更多處理，例如提高波束的空間方向性以確保電磁波的能量都集中在特定的方向（例如對(duì)準(zhǔn)接收機(jī)的空間方位）。

　　毫米波和太赫茲技術(shù)對(duì)于波束的越來(lái)越復(fù)雜的處理也使得超表面有了可用武之地。通過特定的亞波長(zhǎng)尺寸元件陣列設(shè)計(jì)，超表面可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜樣式的波束成形，包括電磁波的幅度和相位的精確分布控制。更重要的是，使用CMOS技術(shù)實(shí)現(xiàn)的超表面可以集成晶體管，從而可以使用晶體管來(lái)動(dòng)態(tài)控制超表面器件陣列的開關(guān)并實(shí)時(shí)控制超表面的波束成形特性。

　　超表面用于無(wú)線技術(shù)方向的一個(gè)重要研究是普林斯頓大學(xué)Kaushik Sengupta研究組于上個(gè)月發(fā)表在《自然·電子學(xué)》雜志上的論文，該論文中使用65nm標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝實(shí)現(xiàn)了一個(gè)用于太赫茲頻段的超表面芯片，該芯片可以精確實(shí)現(xiàn)太赫茲頻段的波束控制，并且在超表面中集成了CMOS開關(guān)，從而可以動(dòng)態(tài)控制超表面的特性。

　　半導(dǎo)體超表面帶來(lái)的范式轉(zhuǎn)換和中國(guó)的機(jī)會(huì)

　　半導(dǎo)體超表面技術(shù)在光學(xué)和無(wú)線通信領(lǐng)域都帶來(lái)了全新的范式轉(zhuǎn)換機(jī)會(huì)：電磁設(shè)計(jì)正在從傳統(tǒng)的經(jīng)典宏觀器件設(shè)計(jì)走向由微型器件陣列實(shí)現(xiàn)的超表面。在這個(gè)過程中，超表面可以實(shí)現(xiàn)電磁設(shè)計(jì)的小型化，并能實(shí)現(xiàn)一些傳統(tǒng)設(shè)計(jì)無(wú)法完成的特性，包括電磁特性的動(dòng)態(tài)控制等等。通過使用半導(dǎo)體超表面設(shè)計(jì)，電磁設(shè)計(jì)的自由度大大上升，同時(shí)如何能設(shè)計(jì)出高性能的超表面也成了一件更加有技術(shù)含量的工作。

　　對(duì)于中國(guó)來(lái)說(shuō)，半導(dǎo)體超表面技術(shù)將是一個(gè)巨大的機(jī)會(huì)。一方面，半導(dǎo)體超表面技術(shù)可以使用傳統(tǒng)半導(dǎo)體工藝（如65nm）實(shí)現(xiàn)，因此中國(guó)在這個(gè)領(lǐng)域并沒有卡脖子的問題。另一方面，中國(guó)在超材料和超表面領(lǐng)域的研究已經(jīng)有不錯(cuò)的積累，而在光學(xué)技術(shù)和無(wú)線技術(shù)等半導(dǎo)體超表面的應(yīng)用領(lǐng)域也有足夠完整的產(chǎn)業(yè)鏈，如果能在目前階段更加重視超表面以及半導(dǎo)體的結(jié)合，未來(lái)可望能成為該領(lǐng)域在全球的領(lǐng)跑者。

　編輯觀點(diǎn)：半導(dǎo)體超表面技術(shù)好似給中國(guó)在半導(dǎo)體領(lǐng)域提供了彎道超車的可能。在光學(xué)技術(shù)、無(wú)線技術(shù)、傳統(tǒng)半導(dǎo)體工藝方面中國(guó)還未被卡脖子，確實(shí)有機(jī)會(huì)使中國(guó)在未來(lái)成為該領(lǐng)域的全球領(lǐng)跑者。但是該項(xiàng)技術(shù)是否能替代先進(jìn)工藝制程？是否能解決我國(guó)在先進(jìn)工藝制程技術(shù)上被卡脖子的問題？