12月17日，江蘇南大光電材料股份有限公司（以下簡稱“南大光電”）發(fā)布公告稱，公司控股子公司寧波南大光電材料有限公司（以下簡稱“寧波南大光電”）自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品近日成功通過客戶的使用認(rèn)證。

　　認(rèn)證評估報告顯示，“本次認(rèn)證選擇客戶50nm閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗(yàn)證，寧波南大光電的ArF光刻膠產(chǎn)品測試各項(xiàng)性能滿足工藝規(guī)格要求，良率結(jié)果達(dá)標(biāo)?！?/p>

　　公告指出，“ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國家“02專項(xiàng)”的一個重點(diǎn)攻關(guān)項(xiàng)目。本次產(chǎn)品的認(rèn)證通過，標(biāo)志著“ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目取得了關(guān)鍵性的突破，成為國內(nèi)通過產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國產(chǎn)ArF光刻膠。

　　根據(jù)此前的計(jì)劃，該項(xiàng)目達(dá)產(chǎn)后將達(dá)到年產(chǎn)25噸193nm（ArF干式和浸沒式）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模，以滿足集成電路行業(yè)的需求。

　　ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝。廣泛應(yīng)用于高端芯片制造（如邏輯芯片、AI芯片、5G芯片、大容量存儲器和云計(jì)算芯片等）。

　　隨著國內(nèi)IC行業(yè)的快速發(fā)展，自主創(chuàng)新和國產(chǎn)化步伐的加快，以及先進(jìn)制程工藝的應(yīng)用，將大大拉動光刻膠的用量。

　　南大光電表示，本次驗(yàn)證使用的50nm閃存技術(shù)平臺，在特征尺寸上，線制程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求，孔制程工藝可滿足65nm-90nm光刻需求，該工藝平臺的光刻膠在業(yè)界有代表性。

　　南大光電還提示，ArF光刻膠產(chǎn)品通過客戶的認(rèn)證，與客戶的產(chǎn)品銷售與服務(wù)協(xié)議尚在協(xié)商之中。尤其是ArF光刻膠的復(fù)雜性決定了其在穩(wěn)定量產(chǎn)階段仍然存在工藝上的諸多風(fēng)險，不僅需要技術(shù)攻關(guān)，還需要在應(yīng)用中進(jìn)行工藝的改進(jìn)、完善，這些都會決定ArF光刻膠的量產(chǎn)規(guī)模和經(jīng)濟(jì)效益。