根據(jù)韓國媒體《BusinessKorea》 的報道，日前三星電子副董事長李在镕前往荷蘭拜訪光刻機大廠ASML，其目的就是希望ASML 的高層能答應(yīng)提早交付三星已經(jīng)同意購買的極紫外光光刻設(shè)備（EUV）。

　　報道進一步指出，目前三星極需要透過EUV光刻設(shè)備來優(yōu)化旗下晶圓代工業(yè)務(wù)的先進制程，用以在市場上爭取客戶訂單，而進一步拉近與晶圓代工龍頭臺積電的差距。目前，ASML 是當前全球唯一生產(chǎn)EUV 設(shè)備的廠商，而EUV 設(shè)備對于在晶圓代工中的先進制程，尤其是在當前最先進的5納米或未來更進一步的半導(dǎo)體制程中至關(guān)重要。而三星目前極需要將這些EUV 設(shè)備安裝于三星正在建設(shè)的韓國平澤2 號工廠的新晶圓代工產(chǎn)線，以及正在擴建的韓國華城V1 產(chǎn)線上。

　　據(jù)了解，三星電子已經(jīng)于2020 年5 月份，在韓國平澤的2 號工廠中開始設(shè)置晶圓代工的產(chǎn)線，該公司計劃在該條新晶圓代工產(chǎn)線上投資約10萬億韓元（約88億美元），并預(yù)計于2021 年下半年開始全面量產(chǎn)。至于，在華城工廠內(nèi)的V1 產(chǎn)線，則已經(jīng)于2019 年投入運營，該產(chǎn)線專門以EUV 技術(shù)來協(xié)助量產(chǎn)7 納米制程的芯片。目前該產(chǎn)線正在擴產(chǎn)中，預(yù)計未來將投入5納米和5納米以下更先進制程的芯片生產(chǎn)。對此，三星也計劃到2020 年底，將華城V1 產(chǎn)線的晶圓月產(chǎn)能提升至2 萬片的規(guī)模。

　　就因為三星加緊對晶圓代工的先進制程擴產(chǎn)，因此確保EUV 光刻設(shè)備能夠確實裝機，是目前三星最緊迫的任務(wù)。如果EUV 設(shè)備的裝機時程被延后，則三星希望藉由EUV 設(shè)備來優(yōu)化先進制程，進一步獲得全球半導(dǎo)體客戶青睞而取得訂單的機會，則可能會拱手讓給了競爭對手臺積電。

　　以目前來說，三星目前已經(jīng)開始營運的有10 部EUV 設(shè)備，另外還已經(jīng)在2020 年向ASML 下單訂購了約20 部的EUV。但反觀臺積電則更是來勢洶洶，目前不僅已經(jīng)營運20 部以上的EUV 設(shè)備，還宣布到2022 年時將再購買60 部EUV 設(shè)備。這情況也讓李在镕更加心急，不得不飛往荷蘭與ASML 高層進行協(xié)商。