《電子技術(shù)應(yīng)用》
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基于Innovus提升芯片性能的物理實(shí)現(xiàn)方法
2019年電子技術(shù)應(yīng)用第8期
邊少鮮1,David He1,欒曉琨1,蔣劍鋒1,翟飛雪1,蔡 準(zhǔn)2
1.天津飛騰信息技術(shù)有限公司,湖南 長(zhǎng)沙410000;2.上海楷登電子科技有限公司,上海201204
摘要: 對(duì)于規(guī)模日益增大,工作頻率不斷增加的高性能芯片設(shè)計(jì),性能一直是物理設(shè)計(jì)的重點(diǎn)和難點(diǎn)。緩沖器的插入是為了最小化信號(hào)線延時(shí),進(jìn)而優(yōu)化時(shí)序,提升性能。描述了使用Cadence Innovus工具建立物理設(shè)計(jì)流程,減少各步驟間的偏差。同時(shí)在此流程的基礎(chǔ)上提出二次布局優(yōu)化方法,在16 nm下,通過(guò)一個(gè)高性能芯片設(shè)計(jì)驗(yàn)證了該流程與方法,實(shí)例結(jié)果表明,設(shè)計(jì)性能得到很大改善,其中時(shí)序優(yōu)化達(dá)85.07%,該流程及方法可有效提升高性能芯片性能。
中圖分類(lèi)號(hào): TN402
文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼: A
DOI:10.16157/j.issn.0258-7998.199804
中文引用格式: 邊少鮮,David He,欒曉琨,等. 基于Innovus提升芯片性能的物理實(shí)現(xiàn)方法[J].電子技術(shù)應(yīng)用,2019,45(8):48-52,60.
英文引用格式: Bian Shaoxian,David He,Luan Xiaokun,et al. A physical implementation method based on Innovus to improve chip performance[J]. Application of Electronic Technique,2019,45(8):48-52,60.
A physical implementation method based on Innovus to improve chip performance
Bian Shaoxian1,David He1,Luan Xiaokun1,Jiang Jianfeng1,Zhai Feixue1,Cai Zhun2
1.Tianjin Phytium Technology Co.,Ltd.,Changsha 410000,China;2.Cadence Design Systems,Inc.,Shanghai 201204,China
Abstract: For high-performance chip designs with ever-increasing scale and increasing operating frequency, performance has always been the focus and difficulty of physical design. The buffer is inserted to minimize signal line delay, which optimizes timing and improves performance. The use of Cadence Innovus tools to build physical design flows that reduce deviations between steps is described. At the same time, based on this process, a secondary layout optimization method is proposed. The process and method are verified by a high-performance chip design at 16 nm. The example results show that the design performance is greatly improved, and the timing optimization is 85.07%. The flow and method can effectively improve high performance chip performance.
Key words : Innovus;physical implementation;secondary placement optimization

0 引言

    隨著集成電路工藝發(fā)展,物理設(shè)計(jì)流程已相對(duì)成熟,但是隨著芯片規(guī)模增大,頻率提升,復(fù)雜度提升,芯片的物理實(shí)現(xiàn)變得越來(lái)越困難。研究和實(shí)踐均表明,插入緩沖器是物理設(shè)計(jì)有效的優(yōu)化互連延時(shí)的方法,但是,緩沖器插入有其局限性。目前的研究及電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(Electronics Design AutomationEDA)工具大多都沒(méi)有考慮寄存器和邏輯單元布局(placement)后物理位置的影響,寄存器和邏輯單元通常被認(rèn)為放置在最佳位置。由于時(shí)鐘樹(shù)綜合(Clock Tree Synthesis,CTS),緩沖器的數(shù)量急劇增加,結(jié)果可能會(huì)發(fā)生顯著變化。由于這些原因,在物理設(shè)計(jì)階段仍可能發(fā)現(xiàn)許多時(shí)序違反,因此很難避免冗長(zhǎng)的設(shè)計(jì)迭代。

    本文通過(guò)建立適用于高性能芯片設(shè)計(jì)的物理設(shè)計(jì)流程,并對(duì)緩沖器的特性及作用進(jìn)行分類(lèi)討論,提出一種在布局階段對(duì)設(shè)計(jì)進(jìn)行二次優(yōu)化的方法,并結(jié)合這個(gè)方法給出相應(yīng)的物理設(shè)計(jì)流程。最終使物理設(shè)計(jì)性能得到優(yōu)化。

1 物理設(shè)計(jì)介紹

1.1 物理實(shí)現(xiàn)方式

    隨著芯片設(shè)計(jì)復(fù)雜度增加,規(guī)模增大,頻率提升,從RTL到GDSII過(guò)程的每一步,對(duì)于EDA工具、工程師和計(jì)算機(jī)硬件都是巨大的挑戰(zhàn)[1],設(shè)計(jì)收斂的關(guān)鍵問(wèn)題往往集中在某些模塊,層次化設(shè)計(jì)就是“自上向下”地將大而復(fù)雜的設(shè)計(jì)分割成多個(gè)分割塊,然后對(duì)各個(gè)分割塊單獨(dú)進(jìn)行物理設(shè)計(jì)。層次化設(shè)計(jì)已經(jīng)成為大規(guī)模復(fù)雜芯片后端設(shè)計(jì)的主流方法[2]。對(duì)于分割塊的物理設(shè)計(jì)是在邏輯網(wǎng)表基礎(chǔ)上以標(biāo)準(zhǔn)單元作為最底層的子節(jié)點(diǎn)進(jìn)行“自下而上”的展平式設(shè)計(jì)的。各分割塊物理設(shè)計(jì)完成后合并到頂層完成整個(gè)設(shè)計(jì)。

1.2 傳統(tǒng)布局布線流程

    芯片設(shè)計(jì)的物理實(shí)施通常被簡(jiǎn)稱為布局布線(Place-and-Route,PR)[2]。由于布局布線的起點(diǎn)是插入掃描鏈后的門(mén)級(jí)網(wǎng)表,先進(jìn)行導(dǎo)入設(shè)計(jì)(Load design),即將門(mén)級(jí)網(wǎng)表和約束文件導(dǎo)入PR工具中;然后進(jìn)行Floorplan對(duì)輸入輸出管腳(Input Output port,I/O)、硬核(hard intellectual property,IP)和宏模塊進(jìn)行物理位置的規(guī)劃;接著進(jìn)行placement,即PR工具自動(dòng)放置標(biāo)準(zhǔn)單元;接下來(lái)用緩沖器將時(shí)鐘送到各寄存器、IP、宏模塊的時(shí)鐘輸入端進(jìn)行CTS;再進(jìn)行布線(Route),在滿足工藝規(guī)則、設(shè)計(jì)規(guī)則以及邏輯規(guī)則的約束下,將單元和I/O用金屬連接起來(lái);布線結(jié)束后會(huì)根據(jù)設(shè)計(jì)的最終檢查標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行優(yōu)化。圖1所示為布局布線的流程圖。

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    傳統(tǒng)的物理設(shè)計(jì)流程就是針對(duì)上述布局布線流程,以時(shí)序?yàn)橹饕獏⒖贾笜?biāo)進(jìn)行設(shè)計(jì),由于在前面的流程中不能得到后面步驟的信息,因此會(huì)在前面以不確定性(uncertainty)來(lái)進(jìn)行額外約束。uncertainty具體值的設(shè)置往往來(lái)自經(jīng)驗(yàn)值,placement階段設(shè)置額外約束的目的是使標(biāo)準(zhǔn)單元位置更合理,所以需要加入對(duì)CTS和Route兩個(gè)階段的預(yù)估值。CTS階段設(shè)置額外約束的目的是建立更加合理的時(shí)鐘樹(shù)結(jié)構(gòu),同時(shí)需要加入Route階段的預(yù)估。逐步約束,逐步優(yōu)化,保證每一階段的時(shí)序收斂,并達(dá)到最終設(shè)計(jì)的收斂。這種傳統(tǒng)流程一個(gè)很?chē)?yán)重的問(wèn)題是為了設(shè)計(jì)的收斂而進(jìn)行過(guò)約束,從而進(jìn)行設(shè)計(jì),尤其是在placement階段要加入CTS和Route兩個(gè)階段的預(yù)估值,偏差就更大。

1.3 Innovus介紹

    Innovus是業(yè)內(nèi)主流的PR設(shè)計(jì)工具,可以提供更加合理有效的物理實(shí)現(xiàn)解決方法,在運(yùn)行效率、時(shí)序分析、設(shè)計(jì)優(yōu)化方面都體現(xiàn)了強(qiáng)大的功能。在傳統(tǒng)PR流程的基礎(chǔ)上,Innovus可提供更優(yōu)化的方法。

2 物理實(shí)現(xiàn)優(yōu)化方法介紹

    本節(jié)在傳統(tǒng)PR流程基礎(chǔ)上,基于Innovus建立更適用于高性能芯片設(shè)計(jì)的PR流程,并對(duì)16 nm工藝下緩沖器的特性進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析,在此基礎(chǔ)上提出placement的二次優(yōu)化方法。以16 nm高性能芯片設(shè)計(jì)為例,應(yīng)用PR流程和二次布局優(yōu)化方案,對(duì)placement二次優(yōu)化前后的設(shè)計(jì)指標(biāo)進(jìn)行對(duì)比分析。也同時(shí)對(duì)比了placement二次優(yōu)化后的數(shù)據(jù)版本運(yùn)行到PR結(jié)束的變化,使物理設(shè)計(jì)更合理。

2.1 新建布局布線流程

    Innovus在placement階段已經(jīng)對(duì)CTS和Route兩個(gè)階段的預(yù)估做了很好的方案。早期時(shí)鐘樹(shù)綜合功能(Early Clock Flow,ECF)是在placement階段調(diào)用時(shí)鐘樹(shù)協(xié)同優(yōu)化(Clock Concurrent Optimization,CCOPT)引擎創(chuàng)建時(shí)鐘樹(shù)塊并在placement階段自動(dòng)優(yōu)化時(shí)序時(shí)反標(biāo)更準(zhǔn)確的時(shí)鐘延時(shí)[2]。這種方法能夠規(guī)避由于placement看不到之后的CTS信息,導(dǎo)致物理上時(shí)鐘樹(shù)緩沖器及時(shí)鐘繞線資源被占用,性能上影響CTS結(jié)果的弊端,使placement的結(jié)果更趨向于CTS之后的結(jié)果,減少了從placement階段到CTS階段的設(shè)計(jì)偏差。

    在placement階段的預(yù)布線可以很好地預(yù)估后續(xù)Route的情況,但是工具在優(yōu)化計(jì)算時(shí)序時(shí)對(duì)電阻電容參數(shù)(RC Factor)的設(shè)置是理想值1,這明顯是不合理的,所以Innovus可提供對(duì)Route之后的RC Factor重新抽取計(jì)算,得到新的RC Factor,更新Route前設(shè)計(jì)的RC Factor;同時(shí)在抽參數(shù)的時(shí)候這樣工具在對(duì)預(yù)布線的計(jì)算就會(huì)更接近Route的結(jié)果,從而減少了從placement階段到Route階段的繞線偏差。實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,更新RC Factor之后,Route前后的偏差明顯縮小。

    整個(gè)PR流程使用多模式多端角(Multi Mode Multi Corner,MMMC)分析方式,并且全程使用AOCV,避免時(shí)序過(guò)優(yōu)化,同時(shí)減少物理設(shè)計(jì)與工藝簽核(signoff)分析模式不同造成的物理設(shè)計(jì)冗余。在placement之前預(yù)先放置好時(shí)鐘門(mén)控,指導(dǎo)工具按照預(yù)先放置好的門(mén)控進(jìn)行布局,并且對(duì)時(shí)鐘根節(jié)點(diǎn)到門(mén)控的主干時(shí)鐘預(yù)先選擇更優(yōu)的單元和更優(yōu)的線寬,確保時(shí)鐘能夠更快更好地送到門(mén)控時(shí)鐘輸入端。由于本設(shè)計(jì)邏輯集中,寄存器集中,因此選擇寄存器合并的優(yōu)化方式進(jìn)行placement,并在placement階段使用ECF,減小placement與CTS之間的偏差。在CTS階段使用了中繼器(Buffer)與反相器(Inverter)混合的時(shí)鐘樹(shù)結(jié)構(gòu),更好地減少時(shí)鐘樹(shù)上的單元,從而減小功耗。將Route分為三步,先繞時(shí)鐘線,再繞高層,最后繞低層,提升中高層繞線的質(zhì)量。并且從PR結(jié)束后的設(shè)計(jì)中抽取RC Factor反標(biāo)回placement前的設(shè)計(jì),確保繞線前后互連金屬計(jì)算偏差更小。最后執(zhí)行布線后的優(yōu)化。此外全程設(shè)計(jì)同時(shí)考慮優(yōu)化功耗,指導(dǎo)工具在優(yōu)化時(shí)序的同時(shí)不至于過(guò)分影響功耗。圖2為Innovus優(yōu)化后的流程。

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2.2 16 nm工藝下緩沖器特點(diǎn)分析

    研究和實(shí)踐均表明,插入緩沖器是物理設(shè)計(jì)有效的優(yōu)化互連延時(shí)的方法。為了指導(dǎo)工具使用更合理的緩沖器,本節(jié)對(duì)緩沖器類(lèi)型進(jìn)行對(duì)比分析。

    已知在物理設(shè)計(jì)過(guò)程中緩沖器的主要作用是用來(lái)優(yōu)化扇出、優(yōu)化時(shí)序、優(yōu)化邏輯結(jié)構(gòu)。

    圖3所示為16 nm工藝下四種緩沖器在相同線負(fù)載條件下的延時(shí)統(tǒng)計(jì),其中橫軸為單元驅(qū)動(dòng)力倍數(shù),縱軸為單元延時(shí),repeater1~4表示4種類(lèi)緩沖器的編號(hào)。從圖中可以看出,線負(fù)載相同,驅(qū)動(dòng)力倍數(shù)相同的條件下,這四類(lèi)緩沖器的上下沿延時(shí)曲線整體上隨驅(qū)動(dòng)力的增大呈現(xiàn)先快速減少的趨勢(shì),當(dāng)驅(qū)動(dòng)力倍數(shù)增大至D5后,單元延時(shí)趨于緩慢增加的穩(wěn)定趨勢(shì)。其中repeater1和repeater2的延時(shí)要小于repeater3和repeater4的延時(shí),而repeater1和repeater2的延時(shí)比較接近;D1、D2小倍數(shù)的緩沖器驅(qū)動(dòng)能力很弱。

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    圖4所示為不同種類(lèi)緩沖器的單元上下沿延時(shí)偏差,可見(jiàn)repeater3和repeater4這兩種緩沖器正負(fù)沿均衡性較差,會(huì)影響傳輸信號(hào)的質(zhì)量。

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    圖5所示為從時(shí)序庫(kù)文件查表得到不同種類(lèi)緩沖器的漏流功耗情況。

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    由圖5可知,這四類(lèi)緩沖器都呈現(xiàn)驅(qū)動(dòng)倍數(shù)越大漏流功耗越大的的關(guān)系,其中,repeater1和repeater2的曲線接近,repeater3和repeater4的曲線接近,相同驅(qū)動(dòng)倍數(shù)的repeater3和repeater4的漏流功耗明顯低于repeater1和repeater2,且在驅(qū)動(dòng)力倍數(shù)增大至D5后,漏流功耗隨驅(qū)動(dòng)力倍數(shù)增加迅速增加。

    結(jié)合圖3~圖5,對(duì)于這四類(lèi)緩沖器進(jìn)行總結(jié)如下:

    (1)由于repeater3和repeater4的正負(fù)沿偏差太大,對(duì)傳輸信號(hào)質(zhì)量有影響,因此這兩類(lèi)單元要盡量少用或者不用。

    (2)驅(qū)動(dòng)力倍數(shù)為D1和D2的驅(qū)動(dòng)能力較弱,所以在分割線段時(shí),獲得的延時(shí)收益會(huì)很小,但其漏流功耗小,所以可用來(lái)優(yōu)化對(duì)時(shí)序要求不緊張的大扇出。

    (3)驅(qū)動(dòng)力倍數(shù)為D5附近的緩沖器具有較好的驅(qū)動(dòng)能力,且漏流功耗不至于過(guò)大,所以用來(lái)優(yōu)化時(shí)序。對(duì)于驅(qū)動(dòng)力D1和D2的緩沖器,由于D1緩沖器的漏流功耗稍大于D2,但其相同負(fù)載下的單元延時(shí)卻明顯大于D2,因此在優(yōu)化時(shí)序時(shí),可用D2替換D1。

    (4)驅(qū)動(dòng)倍數(shù)為D12以上的緩沖器,由于其漏流功耗比較大,且本身單元延時(shí)較大,因此對(duì)于較小的線負(fù)載考慮不用,如果有長(zhǎng)線,可考慮使用。

    (5)后續(xù)手工調(diào)整的時(shí)候可考慮用repeater2替換repeater1進(jìn)行時(shí)序的優(yōu)化。

2.3 二次布局優(yōu)化方法

    分析2.1節(jié)的Innovus優(yōu)化流程,發(fā)現(xiàn)如果placement階段結(jié)果太差,那么這個(gè)結(jié)果會(huì)隨著PR流程的進(jìn)行,一直影響后續(xù)步驟,增加PR工具的運(yùn)算量,甚至設(shè)計(jì)無(wú)法收斂。如果placement標(biāo)準(zhǔn)單元放置不合理,會(huì)使邏輯走線距離太長(zhǎng),延時(shí)增加,并使時(shí)序惡化,而工具在做placement的時(shí)候是先做全局布局,然后再做詳細(xì)布局,全局布局看到的信息不完整,只是粗略地放置,勢(shì)必會(huì)有標(biāo)準(zhǔn)單元放置不合理。由此可見(jiàn),如果能夠在placement的時(shí)候讓工具考慮到自身placement完成后的情況,這樣就可以減少placement本身的過(guò)設(shè)計(jì),提升設(shè)計(jì)性能。所以,為了更好的物理實(shí)現(xiàn),placement的優(yōu)化非常重要。

    已知工具在placement的時(shí)候會(huì)同時(shí)插入緩沖器進(jìn)行大扇出和長(zhǎng)線的優(yōu)化,同時(shí)也會(huì)對(duì)邏輯結(jié)構(gòu)進(jìn)行重新組合。如果先將邏輯單元和寄存器位置放置好后,根據(jù)實(shí)際的寄存器和邏輯單元全局信息重新進(jìn)行設(shè)計(jì)優(yōu)化,使緩沖器的插入更合理化,減少因缺少全局信息造成的緩沖器冗余,從而改善布局結(jié)果。

    本節(jié)提出一種針對(duì)placement后的設(shè)計(jì)進(jìn)行二次布局優(yōu)化,減少placement自身偏差的方法,圖6為二次優(yōu)化流程圖,方法如下:

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    (1)對(duì)placement設(shè)計(jì)中的緩沖器進(jìn)行統(tǒng)計(jì)和分類(lèi),明確緩沖器所起的作用。

    (2)刪除原placement設(shè)計(jì)中的所有緩沖器。

    (3)針對(duì)placement階段時(shí)序違反報(bào)告出現(xiàn)的緩沖器,根據(jù)其發(fā)揮的不同功能,進(jìn)行調(diào)整。若其是用來(lái)優(yōu)化長(zhǎng)線,那么就需要調(diào)整兩個(gè)單元之間的位置;若是用來(lái)優(yōu)化扇出,可考慮增加前級(jí)驅(qū)動(dòng)力;若是做邏輯結(jié)構(gòu)的優(yōu)化,可對(duì)邏輯進(jìn)行等價(jià)性修改。

    (4)對(duì)刪除緩沖器的placement設(shè)計(jì)進(jìn)行二次優(yōu)化,在二次優(yōu)化時(shí),除D5倍數(shù)外,禁止使用repeater3和repeater4。

    (5)如果時(shí)序收斂,則二次布局優(yōu)化結(jié)束,如果時(shí)序不收斂,可針對(duì)時(shí)序報(bào)告中的緩沖器按照2.2節(jié)中給出的緩沖器使用規(guī)則進(jìn)行替換。

    二次布局優(yōu)化時(shí)已經(jīng)考慮了更準(zhǔn)確的寄存器和邏輯單元物理位置,能得到更優(yōu)的placement階段結(jié)果,減少后續(xù)步驟的偏差。

3 物理實(shí)現(xiàn)與分析

    本節(jié)以16 nm下一款2.5G高性能芯片設(shè)計(jì)為例,實(shí)施上節(jié)建立的物理設(shè)計(jì)流程和二次優(yōu)化方法。

3.1 二次布局優(yōu)化前后時(shí)序路徑的變化

    本節(jié)中討論了二次布局優(yōu)化前后placement的結(jié)果。圖7所示為兩個(gè)寄存器reg1到reg2之間的一條建立時(shí)間(setup)時(shí)序路徑二次優(yōu)化前后在Innovus版圖中的情況,白色三角形表示路徑在該處有緩沖器插入。由圖可以看出,在二次優(yōu)化之前,這條路徑上緩沖器位置雜亂,從reg1出來(lái)一段存在多個(gè)緩沖器反復(fù)插入引起的迂回繞線,同時(shí)中間網(wǎng)絡(luò)線太長(zhǎng),明顯不合理。經(jīng)過(guò)二次布局優(yōu)化后路徑得到了更好的優(yōu)化,不僅沒(méi)有在reg1附近插入冗余的緩沖器,而且把長(zhǎng)線中間加入了緩沖器做分割。優(yōu)化前該條數(shù)據(jù)路徑的延時(shí)為449 ps,優(yōu)化后該條數(shù)據(jù)路徑的延時(shí)為399 ps,與優(yōu)化前的路徑相比,延時(shí)減少50 ps。

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3.2 二次布局優(yōu)化前后緩沖器使用的變化

    對(duì)二次布局優(yōu)化前后placement設(shè)計(jì)中的緩沖器的使用情況進(jìn)行分析,如圖8、圖9所示,其中pre代表優(yōu)化前placement設(shè)計(jì)中對(duì)應(yīng)緩沖器的數(shù)量,post代表優(yōu)化后placement設(shè)計(jì)中對(duì)應(yīng)緩沖器的數(shù)量。從這兩幅圖中可以看出,二次布局優(yōu)化幾乎沒(méi)有使用repeater3和repeater4,對(duì)于repeater1的使用數(shù)量減少,repeater2的數(shù)量幾乎同等數(shù)量增加。驅(qū)動(dòng)倍數(shù)為D1的緩沖器數(shù)量有減少,驅(qū)動(dòng)倍數(shù)為D2的緩沖器幾乎同等數(shù)量的增加,由前面對(duì)緩沖器類(lèi)型的分析中可以知道驅(qū)動(dòng)倍數(shù)為D1的緩沖器的leakage稍大于驅(qū)動(dòng)倍數(shù)為D2的,但其單元延時(shí)要明顯大于D2,所以在時(shí)序優(yōu)先的本設(shè)計(jì)中,D1的數(shù)量略有下降,D2的數(shù)量略有上升。

這符合2.2節(jié)中對(duì)緩沖器特性的分析,說(shuō)明二次優(yōu)化后對(duì)于緩沖器的使用更加合理化。

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3.3 二次布局優(yōu)化前后Placemet結(jié)果對(duì)比

    工具在看到寄存器和邏輯單元的完整placement后,做二次布局優(yōu)化就會(huì)根據(jù)較為真實(shí)的placement模型做設(shè)計(jì)優(yōu)化,能夠得到更優(yōu)更合理選擇緩沖器的類(lèi)型、驅(qū)動(dòng)和位置的分布。表1所示為二次布局優(yōu)化前后placement的結(jié)果對(duì)比,表格中g(shù)atecount代表標(biāo)準(zhǔn)單元數(shù)量,repeater代表緩沖器數(shù)量,ULVT代表超低閾值電壓?jiǎn)卧妓袠?biāo)準(zhǔn)單元的比例,setup代表寄存器到寄存器的建立時(shí)間時(shí)序違反值,density代表密度,total leakage power代表總的漏流功耗,total wire length代表placement結(jié)束后的預(yù)布線總線長(zhǎng),其中pre代表二次優(yōu)化前的數(shù)據(jù),post代表二次優(yōu)化后的數(shù)據(jù),△代表pre的數(shù)據(jù)與post數(shù)據(jù)差值百分比。從表1可以明顯看出經(jīng)過(guò)二次優(yōu)化后緩沖器的數(shù)量可以減少5.5%,漏流功耗降低11.3%,時(shí)序優(yōu)化87.5%,只造成不到1%的繞線增加和密度增長(zhǎng)。

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3.4 Route后的結(jié)果對(duì)比 

    良好的placement結(jié)果對(duì)最終繞線結(jié)束后的時(shí)序影響很大,表2所示為Route后兩個(gè)版本的結(jié)果對(duì)比。

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    通過(guò)二次布局優(yōu)化,最終在Innovus下看到時(shí)序優(yōu)化85.07%,功耗減少3.2%,線長(zhǎng)減少0.37%,單元數(shù)量減少2.01%。

4 結(jié)論

    在高性能芯片設(shè)計(jì)中,物理實(shí)現(xiàn)流程已經(jīng)相對(duì)成熟,但是隨著設(shè)計(jì)規(guī)模的增大,工藝的發(fā)展,物理設(shè)計(jì)難度增加。依據(jù)設(shè)計(jì)特點(diǎn)不斷完善和優(yōu)化物理實(shí)現(xiàn)流程是很重要的。本文在Innovus工具平臺(tái)下建立更適合于高性能芯片設(shè)計(jì)的物理實(shí)現(xiàn)方法,并在此基礎(chǔ)上引入二次布局優(yōu)化的方法,通過(guò)二次布局優(yōu)化方法在單元數(shù)量減少2.01%的基礎(chǔ)上,總線長(zhǎng)減少0.37%,功耗降低3.2%,時(shí)序優(yōu)化85.07%,效果顯著。

參考文獻(xiàn)

[1] Cadence Innovus User Guide[EB/OL].[2019-05-11].http://www.cadence.com.

[2] 陳春章,艾霞,王國(guó)雄.數(shù)字集成電路物理設(shè)計(jì)[M].北京:科學(xué)出版社,2008.



作者信息:

邊少鮮1,David He1,欒曉琨1,蔣劍鋒1,翟飛雪1,蔡  準(zhǔn)2

(1.天津飛騰信息技術(shù)有限公司,湖南 長(zhǎng)沙410000;2.上海楷登電子科技有限公司,上海201204)

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