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三星臺(tái)積電制程工藝已領(lǐng)先Intel?真相并非如此!

2018-11-01
關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 Intel 制程工藝

  以前一扯到CPU關(guān)于新制程進(jìn)程方面的東西,一些大佬就要開始提摩爾定律,作為Intel創(chuàng)始人之一戈登·摩爾提出的這項(xiàng)理論,Intel無(wú)疑是目前最為堅(jiān)定的捍衛(wèi)者之一,不過隨著現(xiàn)目前臺(tái)積電和三星方面在工藝節(jié)點(diǎn)方面的全面超越已經(jīng)開始量產(chǎn)10nm和即將試產(chǎn)的7nm工藝,在進(jìn)度方面那可是比Intel方面快多了,很多朋友到現(xiàn)在也沒有想清楚具體原因,今兒個(gè)小獅子就來跟大家聊這個(gè)話題。

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  我記得..Intel不一直是大佬嗎?道理是這樣的沒錯(cuò),不過現(xiàn)目前基于智能手機(jī)的工藝發(fā)展趨勢(shì),整體上兩家半導(dǎo)體公司在工藝節(jié)點(diǎn)上對(duì)Intel進(jìn)行了全面超越,大佬自然是坐不住的;甚至專門給出了統(tǒng)一衡量工藝標(biāo)準(zhǔn)的相關(guān)公式,也借此希望友商能夠稍微“誠(chéng)實(shí)”一些。

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  讓大家調(diào)侃兩句大佬就坐不住了?肯定是沒有那么簡(jiǎn)單的,小獅子就先來說說為什么Intel要介意這個(gè)問題,我們就說早在幾年前的時(shí)候,當(dāng)時(shí)Intel在半導(dǎo)體方面絕對(duì)是要領(lǐng)先于臺(tái)積電的,更別說那個(gè)時(shí)期的三星半導(dǎo)體,因?yàn)楫?dāng)年在22nm節(jié)點(diǎn)的時(shí)候Intel就已經(jīng)率先量產(chǎn)我們現(xiàn)在經(jīng)常能看到的3D FinFET工藝,而那個(gè)時(shí)候三星和臺(tái)積電實(shí)際上才剛剛開始推出自家的28nm工藝還沒有多久,所以無(wú)論從封裝工藝還是制程節(jié)點(diǎn)方面都是處于全面的落后狀態(tài)的。

  轉(zhuǎn)折點(diǎn),就在這里,你要說轉(zhuǎn)折點(diǎn)在哪里發(fā)生,就是在我們當(dāng)下14nm工藝節(jié)點(diǎn)上,而因?yàn)镮ntel自身在14nm上遇到的技術(shù)問題,原本計(jì)劃的Fab 14工廠升級(jí)工藝也被取消了,所以在這個(gè)時(shí)期我們熟悉Tick-Tock的工藝戰(zhàn)略上出現(xiàn)了長(zhǎng)時(shí)間的停擺,而此前小獅子也跟大家聊過關(guān)于年底10nm泡湯,14nm將再續(xù)一年的相關(guān)故事。而8th的酷睿系列產(chǎn)品也將會(huì)使Intel第四代的14nm技術(shù)了。

  就趁著這個(gè)時(shí)候,臺(tái)積電和三星半導(dǎo)體在16/14nm FinFET工藝方面進(jìn)行了大幅度的追趕,今年AMD在Ryzen處理器上在這段時(shí)間追趕上來了,AMD今年推出的Ryzen處理器使用的就是由格羅方德提供的的14nm LPP(Low Power Plus低功耗加強(qiáng)版)工藝,在工藝代差方面也已經(jīng)做到了追平。

  而大佬生氣的真正原因,其實(shí)一個(gè)很重要的原因就是臺(tái)積電和三星半導(dǎo)體實(shí)際在制程工藝方面玩了一個(gè)很騷的小花招:半導(dǎo)體實(shí)際的復(fù)雜程度不言而喻,而大家聽到最多的就是XX nm的工藝,其實(shí)這個(gè)名詞代表的是線寬,而理論上來講,線寬越小,半導(dǎo)體就越小,晶體管也越小,制造工藝越先進(jìn)。這本身是沒有問題的。

  我但是君今天又要出場(chǎng)了,但是!如果去用線寬去整合定義一款半導(dǎo)體工藝的先進(jìn)程度氣勢(shì)上是并不準(zhǔn)確的,因?yàn)楦?xì)節(jié)的柵極距(gate pitch)、鰭片間距(Fin Pitc)這些關(guān)鍵的決定性因素。,Intel早前就對(duì)比過他們與TSMC、三星的16、14nm工藝,大家可以在下圖有一個(gè)較為明顯的對(duì)比了。


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