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Applied Materials（應(yīng)用材料）

應(yīng)用材料公司是一家半導(dǎo)體和顯示制造設(shè)備商，應(yīng)用材料公司成立于1967年，2017財(cái)年，應(yīng)用材料公司營(yíng)業(yè)額達(dá)到145億美元，在17個(gè)國(guó)家設(shè)有90個(gè)分支機(jī)構(gòu)，全球員員工人數(shù)18400人。擁有超過11，900專利。

1984年，應(yīng)用材料公司在北京設(shè)立了中國(guó)客服中心，成為第一家進(jìn)入中國(guó)的國(guó)際芯片制造設(shè)備公司。通過長(zhǎng)期參與中國(guó)的高科技制造業(yè)，應(yīng)用材料公司為半導(dǎo)體、先進(jìn)顯示以及太陽能光伏制造行業(yè)提供設(shè)備與服務(wù)。

作為一家老牌的美國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備商，應(yīng)用材料（AMAT）是全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備公司，產(chǎn)品橫跨CVD、 PVD、刻蝕、CMP、RTP等除光刻機(jī)外的幾乎所有半導(dǎo)體設(shè)備。在全球晶圓處理設(shè)備供應(yīng)商中排名第一，應(yīng)用材料市占率19％左右，其中，在PVD領(lǐng)域，應(yīng)用材料占據(jù)了近85％的市場(chǎng)份額，CVD占30％。

2

Lam Research（泛林）

LamResearch是刻蝕機(jī)設(shè)備領(lǐng)域龍頭。Lam Research是向世界半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提供晶圓制造設(shè)備和服務(wù)的主要供應(yīng)商之一。主要從事半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、開發(fā)、制造、銷售及售后服務(wù)。公司的產(chǎn)品有等離子刻蝕機(jī)，化學(xué)機(jī)械拋光及清洗設(shè)備等。總部設(shè)在加州硅谷，是一家在NASDAQ上市公司。公司在世界各地設(shè)立了40多個(gè)分公司和客戶服務(wù)中心。鎂光科技、三星電子、SK 海力士等都是其主要客戶。

3

Tokyo Electron（東京電子）

Tokyo Electron LTD （簡(jiǎn)稱TEL）成立于1963年，是全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造設(shè)備和液晶顯示器設(shè)備的制造商。東京電子是日本IC和PFD設(shè)備最大制造商，也是世界第三大IC和PFD設(shè)備制造商。

東京電子在半導(dǎo)體及液晶顯示器的制造設(shè)備方面，TEL對(duì)全球電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出了巨大的貢獻(xiàn)。TEL集團(tuán)遍布全球，在日本、美國(guó)、歐洲、臺(tái)灣、韓國(guó)及中國(guó)等地都建立了自己的網(wǎng)點(diǎn)。

東京電子的膜沉積和蝕刻設(shè)備營(yíng)收在2016年漲幅超大大，這兩種設(shè)備是用在生產(chǎn)大容量的 3D存儲(chǔ)器。

公司在 2018 財(cái)年?duì)I業(yè)收入增長(zhǎng) 37．96％，凈利潤(rùn)增長(zhǎng) 73．09％。公司十分注重研發(fā)投入， 2018 財(cái)年的計(jì)劃研發(fā)費(fèi)用約 1200 億日元（約合 80 億人民幣），設(shè)備投資 510 億日元（約合 30 億人民幣），

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ASML（阿斯麥）

ASML （全稱： Advanced Semiconductor Material Lithography）， 目前該全稱己不做為公司標(biāo)識(shí)使用，公司的注冊(cè)標(biāo)識(shí)為ASML Holding N．V），中文名稱為阿斯麥（中國(guó)大陸）、艾司摩爾（中國(guó)臺(tái)灣）。是總部設(shè)在荷蘭Veldhoven的全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商之一。

ASML為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機(jī)及相關(guān)服務(wù)，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產(chǎn)效率最高，應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購TWINSCAN機(jī)型，例如英特爾（Intel），三星（Samsung），海力士（Hynix），臺(tái)積電（TSMC），中芯國(guó)際（SMIC）等。

目前，荷蘭ASML幾乎壟斷了高端領(lǐng)域的光刻機(jī)，市場(chǎng)份額高達(dá)80％。全球只有ASML能夠生產(chǎn)EUV（極紫外光刻機(jī)），ASML新出的EUV光刻機(jī)可用于試產(chǎn)7nm制程，價(jià)格高達(dá)1億美元。

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KLA－Tencor（科天）

KLA－Tencor于1997年4月通過 KLA Instruments （KLA）和 Tencor Instruments （Tencor）合并成立。 這兩家公司一直是半導(dǎo)體設(shè)備和良率管理軟件系統(tǒng)行業(yè)的長(zhǎng)期領(lǐng)跑者。 在合并之前，兩家企業(yè)分別致力于檢測(cè)和量測(cè)領(lǐng)域，KLA專注于缺陷檢測(cè)解決方案， 而Tencor則致力于量測(cè)解決方案。 通過價(jià)值13億美元的一比一股票互換合并， KLA－Tencor 一舉成為行業(yè)頂尖的工藝管控供應(yīng)商，并且獨(dú)家為客戶提供完整的良率管理系列產(chǎn)品及服務(wù)。

KLA－Tencor公司是工藝控管和良率管理解決方案業(yè)界領(lǐng)跑者， 與世界各地的客戶合作開發(fā)最先進(jìn)的檢測(cè)和量測(cè)技術(shù)。 這些技術(shù)致力于半導(dǎo)體， LED等相關(guān)納米電子工業(yè)。

科磊自成立起便深耕于半導(dǎo)體前道檢測(cè)設(shè)備行業(yè)， 目前其產(chǎn)品種類已經(jīng)覆蓋加工工藝環(huán)節(jié)的各類前道光學(xué)、電子束量檢測(cè)設(shè)備。 憑借其檢測(cè)產(chǎn)品高效、精確的性能特點(diǎn)，科磊以52％的市場(chǎng)份額在前端檢測(cè)設(shè)備行業(yè)內(nèi)具有絕對(duì)的龍頭地位。

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Screen Semiconductor Solutions（迪恩士）

迪恩士（SCREEN）總部位于日本。成立于1868年，于1975年開發(fā)出晶圓刻蝕機(jī)，正式開啟半導(dǎo)體設(shè)備制造之路。在隨后的40多年里，迪恩士專注于半導(dǎo)體制造設(shè)備，尤其是清洗設(shè)備的研發(fā)與推廣，開發(fā)出了適應(yīng)于多種環(huán)境的各類清洗設(shè)備，并在半導(dǎo)體清洗的三個(gè)主要領(lǐng)域均獲得第一的市場(chǎng)占有率。

迪恩士有4個(gè)主要的業(yè)務(wù)方向，半導(dǎo)體制造設(shè)備、圖像情報(bào)處理機(jī)器、 液晶制造設(shè)備、印刷電路板設(shè)備。半導(dǎo)體制造設(shè)備包括清潔、涂布和退火設(shè)備，半導(dǎo)體制造設(shè)備是該公司收入的主要部分，2017年占總收入的66．7％。從2016年財(cái)年來看，半導(dǎo)體制造設(shè)備中，清洗設(shè)備收入占該業(yè)務(wù)收入的90％。

迪恩士不僅在半導(dǎo)體清洗設(shè)備，也在圖像情報(bào)處理機(jī)器和液晶制造設(shè)備行業(yè)擁有龍頭地位。 在圖像情報(bào)處理機(jī)器領(lǐng)域，該公司的脫機(jī)直接印版（CTP技術(shù)）設(shè)備市場(chǎng)占有率為31％，為全球第一位。而在液晶制造設(shè)備領(lǐng)域， 液晶涂布機(jī)的市場(chǎng)占有率為71％，也為全球第一。

7

SEMES（細(xì)美事）

SEMES成立于1993年，是半導(dǎo)體和FPD兩個(gè)事業(yè)為主的綜合設(shè)備廠商，于2004年建立TFT LCD設(shè)備生產(chǎn)為目的的第三工廠。Semes是韓國(guó)最大的預(yù)處理半導(dǎo)體設(shè)備與顯示器制造設(shè)備生產(chǎn)商，可稱其為韓國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備廠第一大廠，主要生產(chǎn)清洗、光刻和封裝設(shè)備。

8

Hitachi High－Technologies（日立高新）

日立高新（Hitachi－High Technologies）成立于2001年，由Hitachi Ltd． Instruments Group和Semiconductor Manufacturing Equipments Group與Nissei Sangyo Co．，Ltd。（一家專注于電子產(chǎn)品的公司）合并而成。

日立高新生產(chǎn)的設(shè)備包括：半導(dǎo)體制造設(shè)備，如芯片貼片機(jī)和蝕刻和檢測(cè)系統(tǒng)； 分析和臨床儀器，如電子顯微鏡和DNA測(cè)序儀； 平板顯示器（FPD），液晶顯示器（LCD）和硬盤的制造設(shè)備； 計(jì)量和檢查設(shè)備。該公司還銷售鋼鐵，塑料，硅芯片，精細(xì)化學(xué)品，光學(xué)元件以及汽車相關(guān)設(shè)備和材料。日立高科技在日本的銷售額占42％。日立擁有該公司近52％的股份。

在半導(dǎo)體設(shè)備方面，日立高新主要生產(chǎn)沉積、刻蝕、檢測(cè)設(shè)備，以及封裝貼片設(shè)備等。

9

Hitachi Kokusai（日立國(guó)際電氣）

Hitachi Kokusai Electric于2000年10月成立，由三家日立集團(tuán)公司合并而成，這些公司從事與視頻，無線通信和半導(dǎo)體制造設(shè)備相關(guān)的業(yè)務(wù)。國(guó)際電氣：從事無線通信設(shè)備與半導(dǎo)體制作，1949年設(shè)立；日立電子：從事無線通信設(shè)備與映像設(shè)備制作，1948年設(shè)立；八木天線（Yagi Antenna），由發(fā)明八木天線的八木秀次博士于1952年成立，擁有天線專利。

該公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體設(shè)備主要是熱處理設(shè)備。

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Daifuku（大幅）

Daifuku（大福）（集團(tuán)）公司自1937年成立以來，始終致力于物料搬運(yùn)技術(shù)與設(shè)備的開發(fā)、研究。

大福（集團(tuán)）有六項(xiàng)主要業(yè)務(wù)：制造業(yè)及流通產(chǎn)業(yè)；半導(dǎo)體、液晶制造業(yè)；汽車制造業(yè)；機(jī)場(chǎng)專用系統(tǒng)；洗車機(jī)及相關(guān)產(chǎn)品；電子產(chǎn)品。

其中在半導(dǎo)體、液晶制造業(yè)中，面向半導(dǎo)體、液晶制造業(yè)提供自動(dòng)化潔凈室輸送、存儲(chǔ)系統(tǒng)。該系統(tǒng)在生產(chǎn)智能手機(jī)和平板電腦所需的半導(dǎo)體和液晶顯示器的過程中起著至關(guān)重要的作用，目前已在北美、韓國(guó)、中國(guó)和臺(tái)灣等國(guó)家和地區(qū)獲得了可觀的銷售業(yè)績(jī)。

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ASM International（先域）

ASMI（ASM International）總部位于荷蘭阿爾默勒，在阿姆斯特丹泛歐證券交易所上市。制造業(yè)設(shè)在新加坡和韓國(guó)。

ASMI主要生產(chǎn)光刻，沉積，離子注入和單晶圓外延設(shè)備，擅長(zhǎng)是原子層沉積（ALD）和等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）產(chǎn)品。

ASM是ASM International NV集團(tuán)的一部分，該集團(tuán)還包括ASM Pacific Technology（ASMPT）。

ASM是晶圓加工半導(dǎo)體工藝設(shè)備的領(lǐng)先供應(yīng)商。公司開創(chuàng)了許多工業(yè)中使用的晶圓加工技術(shù)的重要方面，包括光刻，沉積，離子注入和單晶圓外延。近年來，公司將R＆D的原子層沉積（ALD）和等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）直接引入先進(jìn)制造商的主流生產(chǎn)。

ASMP擁有大約2％的大部分所有權(quán)，是晶圓組裝和封裝以及表面貼裝技術(shù)的半導(dǎo)體工藝設(shè)備的領(lǐng)先供應(yīng)商。

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Nikon（尼康）

尼康成立于1917年，最早通過相機(jī)和光學(xué)技術(shù)發(fā)家，1980年開始半導(dǎo)體光刻設(shè)備研究，1986年推出第一款FPD光刻設(shè)備，如今業(yè)務(wù)線覆蓋范圍廣泛。尼康既是半導(dǎo)體和面板光刻設(shè)備制造商，同時(shí)還生產(chǎn)護(hù)目鏡，眼科檢查設(shè)備，雙筒望遠(yuǎn)鏡，顯微鏡，勘測(cè)器材等健康醫(yī)療和工業(yè)度量設(shè)備。

在FPD光刻方面，尼康則可發(fā)揮其比較優(yōu)勢(shì)，尼康的機(jī)器范圍廣泛，從采用獨(dú)特的多鏡頭投影光學(xué)系統(tǒng)處理大型面板到制造智能設(shè)備中的中小型面板，提供多樣化的機(jī)器。

尼康雖然在芯片光刻技術(shù)上遠(yuǎn)不及ASML，目前的產(chǎn)品還停留在ArF和KrF光源，且售價(jià)也遠(yuǎn)低于ASML，和EUV更加難以相提并論。但目前，其盈利性也很大程度上依賴光刻設(shè)備，尤其是芯片光刻設(shè)備，2017年光刻設(shè)備營(yíng)收占比高達(dá)33％。

尼康的研發(fā)投入也持續(xù)增長(zhǎng)，但其中對(duì)于光刻設(shè)備的投入比重卻在下降。從2008年260億日元一路下降至2017年160億日元。