Intel在第2季財(cái)報(bào)說明會(huì)上表示10nm工藝大規(guī)模量產(chǎn)將推遲到明年，這對(duì)于當(dāng)下正迅速從Intel手里奪取市場份額的AMD來說提供了極佳的機(jī)會(huì)。

AMD經(jīng)過數(shù)年的研發(fā)在2016年發(fā)布全新的Zen架構(gòu)，CPU性能因此獲得40%以上的提升，此舉幫助了AMD迅速在PC市場上獲取市場份額，去年在美國PC市場AMD迅速提升到四成以上，是AMD有史以來的最好成績。

Intel當(dāng)下在制造工藝方面逐漸落后于芯片代工廠，無疑正給AMD提供機(jī)會(huì)。近十年來，Intel采取tick-tock戰(zhàn)略，通過每兩年提升一次制造工藝、隔年提升芯片設(shè)計(jì)的方式在PC市場的份額節(jié)節(jié)攀升至八成以上；AMD則因?yàn)橘Y金劣勢無法跟上這種進(jìn)度，市場份額節(jié)節(jié)下滑，最終被迫拆分了芯片制造業(yè)務(wù)給阿聯(lián)酉投資基金成立了如今的格羅方德。

不過近幾年Intel在芯片制造工藝方面逐漸跟不上趟，甚至被質(zhì)疑其一直以來取得成功的摩爾定律已不可持續(xù)，2014年Intel開始投產(chǎn)14nmFinFET工藝，這一工藝使用至今已有近四年時(shí)間，Intel一直都在對(duì)該工藝修修補(bǔ)補(bǔ)；在芯片設(shè)計(jì)方面則被認(rèn)為在擠牙膏，面對(duì)AMD的Zen架構(gòu)一舉揚(yáng)威，Intel在CPU設(shè)計(jì)方面進(jìn)展有限雖然不斷發(fā)布新架構(gòu)但更多是在修修補(bǔ)補(bǔ)性能提升有限。

芯片代工廠在制造工藝方面的不斷進(jìn)步給Intel帶來巨大的壓力。在Intel的芯片制造工藝停留在14nmFinFET的時(shí)候，三星和臺(tái)積電兩大芯片代工廠一直在持續(xù)不斷的提升工藝，2015年三星投產(chǎn)14nmFinFET，2016年臺(tái)積電投產(chǎn)16nmFinFET，2017年三星和臺(tái)積電先后投產(chǎn)10nm工藝，目前這兩家芯片代工廠宣布投產(chǎn)7nm工藝。

面對(duì)三星和臺(tái)積電的芯片制造工藝不斷躍進(jìn)，Intel則以詳細(xì)的數(shù)據(jù)指出臺(tái)積電和三星的10nm工藝其實(shí)落后于它當(dāng)下最新改進(jìn)的14nmFinFET工藝，預(yù)計(jì)這兩家芯片代工廠的7nm工藝與Intel的10nm工藝相當(dāng)，但是在更先進(jìn)的工藝方面三星和臺(tái)積電有望徹底拋離Intel。

臺(tái)積電預(yù)計(jì)到2020年投產(chǎn)5nm，三星當(dāng)下也正與IBM合作積極研發(fā)5nm工藝；Intel預(yù)計(jì)到2020年投產(chǎn)7nm工藝，但是考慮到Intel一再延期的10nm工藝，筆者擔(dān)心Intel的7nm工藝未必能如期在2020年投產(chǎn)，這將讓它徹底落后。

芯片代工廠的制造工藝持續(xù)不斷快速推進(jìn)，對(duì)于AMD來說無疑是利好消息，AMD當(dāng)下就宣布其高端的Zen+架構(gòu)的CPU將采用臺(tái)積電的7nm工藝生產(chǎn)，這將是它在制造工藝方面首次領(lǐng)先于Intel，再加上Zen架構(gòu)的良好性能表現(xiàn)，在上一代的Zen架構(gòu)性能提升超過四成基礎(chǔ)上Zen+架構(gòu)可望再提升15%，在先進(jìn)工藝的助力下將擁有更低的功耗。這將有利于AMD在PC市場取得更多的市場份額，其當(dāng)下在美國市場所取得的成功可望在其他市場復(fù)制。

Intel發(fā)布的第2季財(cái)報(bào)顯示，其負(fù)責(zé)PC芯片業(yè)務(wù)的客戶計(jì)算集團(tuán)第一季度凈營收增長了3.1%，不過凈利潤反而下跌了7.9%，這意味著在AMD的競爭下Intel不得不降低了自己利潤以保持市場份額，而面對(duì)AMD的競爭力不斷提升Intel的PC芯片業(yè)務(wù)的利潤很可能會(huì)繼續(xù)下跌。