現(xiàn)在是個制程滿天飛的時代,過去Intel一家獨大引領(lǐng)晶元工藝進(jìn)步的格局已經(jīng)被打破。雖然Intel自己和很多業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為同為14nm,Intel制程的漏電率、功耗等技術(shù)優(yōu)勢仍然是三星14nm、臺積電16nm所不具備的,甚至根據(jù)線寬嚴(yán)格計算,后兩者的宣傳水分都很大,但在民間輿論上,數(shù)字領(lǐng)先的誘惑還是無可抵御的。日前,三星決定加速6nm制程工藝研發(fā),矢志在新的制程大戰(zhàn)中再下一城。
當(dāng)然,三星的6nm可能更加偏向于手機SOC CPU的制造,同時也保留有7nm的晶元生產(chǎn)線,與其聯(lián)姻的格羅方德為AMD等制造7nm的CPU、GPU,明年可能就要出來了。此前有消息稱臺積電的7nm工藝也已經(jīng)流片十三次,IBM 的5nm工藝進(jìn)入實質(zhì)性階段。面對百花齊放的局面,Intel 10nm工藝制程也許會更有技術(shù)優(yōu)勢,但至少在民間形象上已經(jīng)受到了一些影響。此前的消息表示,Cannonlake 進(jìn)度也許會提前,但I(xiàn)ntel 10納米工藝初期難上高頻,確定只能用在更強調(diào)能耗的筆記本平臺上。
面對制程大戰(zhàn),最高興的可能是新銳光刻機廠商了,荷蘭ASML表示,EUV(極紫外)光刻機可用于7/6/5nm工藝,Intel、臺積電、三星等都采購了相關(guān)設(shè)備。不知道ASML 的老對手,已經(jīng)默默無聞的光刻機廠商兼影像廠商尼康會有什么心里感想。
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