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V型凹槽紋理表面可提高InGaN LED峰值響應(yīng)度

2017-04-05
關(guān)鍵詞: 光偵測(cè) LiFi 藍(lán)光 FDTD

新加坡科技研究局(A*STAR)和新加坡國立大學(xué)(National University of Singapore)的研究人員聯(lián)手,設(shè)計(jì)了一款波長(zhǎng)可選的光偵測(cè)器,它能聚焦白光熒光粉所發(fā)射的藍(lán)光訊號(hào),從而使白光光照上網(wǎng)(Light Fidelity;Li-Fi)速度從5MHz提高到20MHz。

盡管涂覆熒光粉的白光LED已經(jīng)成為明亮照明的主流,但混合物中使用的色彩轉(zhuǎn)換熒光粉在光致發(fā)光壽命方面的變化相當(dāng)大。例如,為了偵測(cè)白光在450nm和560nm的時(shí)域解析黃色光致熒光光譜(PL),研究人員發(fā)現(xiàn)藍(lán)光的衰減時(shí)間為1.4ns,較黃光發(fā)射的54.4ns更快許多。

這意味著當(dāng)調(diào)節(jié)白光使其得以傳輸數(shù)位訊號(hào)時(shí),藍(lán)光能以較黃光更快的速度有效地開啟和關(guān)閉,而寬頻的矽(Si)光偵測(cè)器最終取得訊號(hào)的最慢公分母,減緩上升和下降時(shí)間。

為了聚焦于快速的藍(lán)光,研究人員設(shè)計(jì)了一款窄頻的綠光氮化銦鎵(InGaN) LED作為接收器。研究人員在發(fā)表于《ACS Photonics》期刊的論文(Textured V-Pit Green Light Emitting Diode as a Wavelength-Selective Photodetector for Fast Phosphor-Based White Light Modulation)中詳細(xì)描述在380nm的波長(zhǎng)制造InGaN LED時(shí),具有V型凹槽紋理的表面可提高InGaN LED主動(dòng)層的峰值響應(yīng)度。

如同元件的3D時(shí)域有限差分(FDTD)模擬,具有紋理的V型凹槽表面由于增加角散射和光路徑,從而提高了光吸收量。

V型凹槽紋理表面可提高InGaN LED峰值響應(yīng)度

(a) 具紋理的p-GaN表面;(b) LED結(jié)構(gòu)的暗場(chǎng)。插圖顯示具穿透錯(cuò)位(TD)的V型凹槽特寫。

研究人員利用金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD),在藍(lán)寶石基板上生長(zhǎng)LED結(jié)構(gòu)。這種基板是由未摻雜的GaN層、厚度約1μm的Si摻雜n-GaN層、10對(duì)InGaN (4nm)/GaN (16nm) QW、40nm厚的鎂摻雜AlGaN以及600nm厚的鎂摻雜GaN組成。

V型凹槽紋理表面可提高InGaN LED峰值響應(yīng)度

具紋理的LED結(jié)構(gòu)示意圖

LED結(jié)構(gòu)頂部具紋理的表面是由隨機(jī)分布的六角形V型凹槽(密度約1×109/cm2)組成,具有300nm-500nm的較大調(diào)變振幅。借由控制三甲基鎵(TMGa)氣流,可在生長(zhǎng)p-AlGaN層時(shí)取得。

研究人員計(jì)算出:在420?480nm范圍(藍(lán)光)的平均吸收量較具有相同發(fā)光波長(zhǎng)與主動(dòng)層厚度的一般平面LED更高2.23倍。具紋理的LED偵測(cè)器峰值響應(yīng)度為0.23A/W,較平面LED偵測(cè)器(0.139A/W)更高63%。

這項(xiàng)研究背后的想法是,利用這種藍(lán)光波長(zhǎng)可選的光偵測(cè)器取代寬頻的Si光偵測(cè)器,將足以使白光Li-Fi通訊速度提高4倍,而無需更換任何安裝的白光LED燈泡和燈具。


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