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晶圓代工新一輪熱戰(zhàn) 臺積電仍是眾矢之的

2017-03-31
關(guān)鍵詞: 晶圓 臺積電 三星 EUV

三星與GlobalFoundries(GF)都以攻擊態(tài)勢進(jìn)軍晶圓代工事業(yè),其中以臺積電為假想敵的三星,更宣稱將比臺積電更早推出10nm的方案,也會更早導(dǎo)入EUV的設(shè)備,希望在幾年內(nèi)翻轉(zhuǎn)晶圓代工產(chǎn)業(yè)被臺積電獨占利益的格局。GlobalFoundries也以新的22nm FD-SOI工程架構(gòu)投入新的戰(zhàn)局,除了美國的工廠擴(kuò)廠之外,還計劃落腳成都,也讓一度乏人問津FD-SOI,再受到矚目!

市占率排名第一的臺積電,最近也推出22nm ULP、12nm FFC、7+nm EUV等專案制程應(yīng)戰(zhàn),其中又以7+nm EUV最受矚目。據(jù)外電報導(dǎo),臺積電原先在導(dǎo)入EUV時,抱持著消極的態(tài)度,甚至傳言到5nm時才會導(dǎo)入。但最近面對GlobalFoundries的積極攻擊時,選擇了22nm與12nm的制程,迎戰(zhàn)GF的22nm FD-SOI,而三星的10nm計劃,也深受臺積電注意。

原先市場的認(rèn)知是,EUV的設(shè)備到5nm世代才會真正導(dǎo)入,但三星與臺積電同步提前到2018年的7nm世代便引用EUV的設(shè)備,獲利的當(dāng)然是ASML這些生產(chǎn)設(shè)備的業(yè)者,但也因為Multi-patterning的次數(shù)減少,對一些生產(chǎn)蒸鍍設(shè)備的業(yè)者,就會有不利的影響。

至于FD-SOI的技術(shù),原先是由ST Micro所研發(fā)的,并與FinFET具有相互替代效益的技術(shù)。在FinFET技術(shù)的排擠下,F(xiàn)D-SOI一度乏人問津,但在三星與GlobalFoundries相繼導(dǎo)入之后,似乎有了新的轉(zhuǎn)機(jī)。此項技術(shù)在物聯(lián)網(wǎng)相關(guān)應(yīng)用時,具有低耗電的特色,而用于爭取晶圓代工的商機(jī)上也頗受矚目。

過去幾年,三星在晶圓代工上的投資似乎不如預(yù)期般的順利。原本寄望極高的14nm制程,竟然在與臺積電的16nm對抗之際鎩羽,甚至連蘋果的訂單都遭到突襲,而預(yù)期可以搶到的NVIDIA訂單也無法如愿。晶圓代工市場排名第二的GlobalFoundries,因為14nm的制程難以獨力完成,不得不與三星結(jié)盟,也有特定客戶遭到臺積電的突襲。臺積電的16nm制程,顯然大獲全勝,也讓臺積電獨領(lǐng)風(fēng)騷的黃金時代繼續(xù)延續(xù)。

根據(jù)Gartner的估計,2017年全球晶圓代工市場是567億美元,其中臺積電占54%,而市占率5~10%的競爭者包括GlobalFoundries、聯(lián)電、三星與中芯國際,一、二線廠商的市占率明顯有一段差距,但三星顯然不愿意就范。三星在2016年底開始進(jìn)入10nm的階段,并生產(chǎn)用于Snapdragon 835與自家Exynos的應(yīng)用處理器,在進(jìn)度上再度超前臺積電。值得注意的是,在工程技術(shù)進(jìn)展順利的信心下,三星在原有華城工廠旁又新建生產(chǎn)線,原本停滯的晶圓代工部門資本支出,在2017年開始出現(xiàn)回升。

另外在EUV等新設(shè)備的導(dǎo)入上,三星也比臺積電、英特爾更為積極。據(jù)外電報導(dǎo),臺積電、英特爾都原計劃在2019年導(dǎo)入5nm技術(shù)時,才開始布局EUV制程。但三星顯然更為積極,并從7nm開始導(dǎo)入EUV,這也可能會刺激臺積電原先的布局計劃。目前臺積電最新的EUV進(jìn)展是EUV最新曝光機(jī)臺已經(jīng)可以達(dá)到連續(xù)3天穩(wěn)定處理超過1,500片12寸晶圓。

GlobalFoundries不僅強(qiáng)力推動FD-SOI的工程技術(shù),也計劃在7nm世代,以自力研發(fā)的的模式推進(jìn)。三星在晶圓代工事業(yè)的資本支出,估計2015年時約21億美元的高峰,但之后的2016年跌到13.6億美元,2017年估計為15.1億美元,2018年將回升為16億美元。相較之下,臺積電2017年估計將達(dá)102億美元,2018年、2019年都可達(dá)110億美元上下。估計,全球晶圓代工業(yè)的投資總額,將從2015年的172億美元,增加到2018年的214億美元,而臺積電為了對抗三星的7nm EUV計劃,也應(yīng)該會提前在7nm世代布局EUV,對抗GF則以22nm的FD-SOI應(yīng)戰(zhàn)。


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