IDT公司全新電壓可變衰減器可提供比砷化鎵產(chǎn)品高達1,000倍的線性度改進
2015-08-22
美國加利福尼亞州圣何塞,2015年8月20日 - IDT公司(IDT?)(NASDAQ:IDTI)今天宣布其不斷擴大的射頻電壓可變衰減器(VVA)產(chǎn)品系列新增兩款新產(chǎn)品,使IDT公司RF產(chǎn)品的頻率覆蓋范圍擴大到1 MHz至6 GHz。與該產(chǎn)品系列中的其他成員一樣,F2255 和 F2258器件都可提供業(yè)界領(lǐng)先的低插入損耗和高線性度。
IDT公司的電壓可變衰減器可為那些需要精確衰減的應(yīng)用提供模擬電壓控制。兩款新器件采用緊湊的3 x 3mm,16引腳TQFN封裝,插入損耗僅為競爭解決方案的一半左右,而IP3性能比競爭的砷化鎵(GaAs)器件好1000倍(30 dB)以上,并且它們都在電壓控制范圍內(nèi)展示了dB線性(線性對數(shù))衰減特性。這些器件的低插入損耗降低了射頻鏈路的損耗,而他們的高線性度則提升了系統(tǒng)的數(shù)據(jù)速率。
這些全新器件與目前流行的芯片大小匹配,理想適用于基站(2G,3G和4G)、微波基礎(chǔ)設(shè)施、公共安全、便攜式無線通信/數(shù)據(jù)設(shè)備、測試/自動測試設(shè)備(ATE)、軍用系統(tǒng)、聯(lián)合作戰(zhàn)無線系統(tǒng)(JTRS)以及HF、VHF和UHF無線電等應(yīng)用。
IDT公司射頻事業(yè)部總經(jīng)理Chris Stephens介紹說:“與砷化鎵解決方案相比,IDT公司基于硅的RF產(chǎn)品可提供非常出眾的性能,如新器件高達30dB的線性度改善。這些器件是當(dāng)今市場上具有最低插入損耗的VVA產(chǎn)品,并且具有最佳的線性衰減控制特性?!?/p>
通過使用基于硅的射頻半導(dǎo)體技術(shù),IDT的衰減器提供了一種替代傳統(tǒng)砷化鎵半導(dǎo)體技術(shù)的可靠方案。IDT公司的硅技術(shù)具有更佳的RF性能、更強大的靜電放電(ESD)保護、更好的潮濕敏感度等級(MSL)、更高的散熱性能、更低的電流消耗、以及硅技術(shù)經(jīng)過驗證的可靠性等優(yōu)勢。
與引腳兼容的GaAs競爭方案比較,F(xiàn)2258具有高達65dBm的輸入IP3,而 GaAs競爭方案僅為35dBm,最大衰減斜率(slope)為33dB/V 對53dB/V ,6000MHz最低返回損耗為12.5dB對7dB,最高工作溫度為105℃對85℃。F2255器件支持的頻率范圍可低至1MHz,并具有33dB/V的最大衰減斜率。F2258和 F2255都具有雙向RF端口,支持3V或5V的單一正電源電壓供電,工作溫度范圍是- 40℃至105℃。