《電子技術(shù)應(yīng)用》
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賽迪顧問:三大因素導(dǎo)致我國新材料產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新不足

備選標(biāo)題: 我國新材料產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新亟需解決三大難題
2014-10-28

2014年8月18日,中央財經(jīng)領(lǐng)導(dǎo)小組第七次會議研究實施創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展戰(zhàn)略,釋放出我國將加快實施創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展戰(zhàn)略的信號。新材料產(chǎn)業(yè)作為重要的戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè),創(chuàng)新驅(qū)動是其發(fā)展的關(guān)鍵。賽迪顧問原材料產(chǎn)業(yè)研究中心分析師冀志宏從原始創(chuàng)新、集成創(chuàng)新和消化吸收再創(chuàng)新三個方面分析了我國新材料產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新不足的問題,并認(rèn)為只有在這三個方面都加強(qiáng)創(chuàng)新,才能解決創(chuàng)新不足帶來的產(chǎn)業(yè)發(fā)展問題,為戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供支撐和保障。

原始創(chuàng)新:投入大、周期長,讓人望而卻步

所謂原始創(chuàng)新,通俗的理解就是從無到有的創(chuàng)新過程。冀志宏表示,新材料產(chǎn)品的原始創(chuàng)新具有投入大、周期長的特點,沒有長時間的持續(xù)投入,很難開發(fā)出穩(wěn)定的產(chǎn)品。

以第三代半導(dǎo)體材料SiC為例,其具有寬的禁帶寬度、高的擊穿電場、高的熱導(dǎo)率、高的電子飽和速率及更高的抗輻射能力,非常適合于制作高溫、高頻、抗輻射及大功率器件。然而生長SiC晶體難度很大,雖然已經(jīng)經(jīng)過了數(shù)十年的研究發(fā)展,目前為止也只有美國的Cree公司、德國的SiCrystal公司和日本的新日鐵公司等少數(shù)幾家公司掌握了SiC的生長技術(shù),能夠生產(chǎn)出較好的產(chǎn)品,但離真正的大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用也還有較大的距離。

“國內(nèi)新材料領(lǐng)域的科研院所和相關(guān)生產(chǎn)企業(yè)大都急功近利,難以容忍長期‘只投入,不產(chǎn)出’的局面,因此,新材料的原始創(chuàng)新舉步維艱,讓人望而卻步。” 冀志宏不無遺憾地說。

集成創(chuàng)新:知識產(chǎn)權(quán)意識淡薄,難以實現(xiàn)集成應(yīng)用

所謂集成創(chuàng)新,即對各個創(chuàng)新要素和創(chuàng)新內(nèi)容進(jìn)行選擇、優(yōu)化和系統(tǒng)集成,很多新材料的產(chǎn)生都是由集成創(chuàng)新而來。據(jù)悉,我國在新材料領(lǐng)域有一些技術(shù)研發(fā)領(lǐng)先于發(fā)達(dá)國家,但由于缺乏知識產(chǎn)權(quán)意識,沒有注重保護(hù),導(dǎo)致集成應(yīng)用時受到限制。

以稀土永磁材料為例,因其具備優(yōu)異的磁性能,被廣泛應(yīng)用于機(jī)械、電子和醫(yī)療等領(lǐng)域。我國早在上世紀(jì)90年代初就開始應(yīng)用氣流磨設(shè)備用于釹鐵硼稀土永磁材料的制粉工序,但沒有在美國等國家申請相關(guān)專利;而日立金屬在該領(lǐng)域分別于2001年5月和2002年7月在美國申請了兩項專利,其優(yōu)先權(quán)可追溯到2000年5月。

冀志宏對記者表示,盡管國內(nèi)很多稀土永磁材料企業(yè)的技術(shù)水平和生產(chǎn)成本都具有足夠的競爭優(yōu)勢,也有證據(jù)表明從時間上講并沒有侵犯日立金屬的專利權(quán),但就是因為沒有申請專利,很多客戶不敢購買他們的產(chǎn)品。

目前,中國稀土永磁聯(lián)盟成員企業(yè)正積極籌備與日立金屬在美國打?qū)@偎尽?ldquo;就算勝訴,中國的稀土永磁材料企業(yè)也已付出了沉重的代價,如果當(dāng)年早些申請專利,何須如此?” 冀志宏感嘆道。

消化吸收再創(chuàng)新:風(fēng)險高,無人愿為國產(chǎn)材料“試車”

消化吸收再創(chuàng)新也是新材料領(lǐng)域常用的創(chuàng)新形式,即利用各種引進(jìn)的技術(shù)資源,在消化吸收基礎(chǔ)上對新材料產(chǎn)品進(jìn)行改進(jìn)提升。中國的很多關(guān)鍵材料都需要依賴進(jìn)口,但依靠消化吸收再創(chuàng)新,國產(chǎn)材料的性能也在不斷提高,有些產(chǎn)品已經(jīng)足以替代進(jìn)口材料。

以稀有金屬靶材為例,其可以廣泛應(yīng)用于集成電路、平板顯示等領(lǐng)域。國內(nèi)的相關(guān)生產(chǎn)企業(yè)在大尺寸的稀有金屬靶材產(chǎn)品開發(fā)上落后一籌,但一些小尺寸、低代線靶材產(chǎn)品已經(jīng)可以滿足用戶需求。

冀志宏對記者分析說,“然而在沒有成功案例的情況下,即使國產(chǎn)材料的性能已經(jīng)完全達(dá)到進(jìn)口產(chǎn)品的標(biāo)準(zhǔn),又有幾家下游用戶企業(yè)甘愿冒險,從小試、中試再到批量應(yīng)用國產(chǎn)新材料呢?而對于國產(chǎn)新材料,不在最終產(chǎn)品上進(jìn)行推廣應(yīng)用,又怎么知道性能是否完全達(dá)到要求呢?由此陷入了兩難的境地。”

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