《電子技術(shù)應(yīng)用》
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歐盟資助SYNAPTIC項目研發(fā)先進的設(shè)計合成工具流

2013-03-29

   由歐盟第7框架計劃資助的企業(yè)學(xué)術(shù)聯(lián)盟宣布一項三年期項目圓滿結(jié)束,并發(fā)布了設(shè)計合成工具流以及相關(guān)的光刻友好單元庫和評估工具。

   SYNAPTIC研究項目組成員由來自歐洲和巴西的8家產(chǎn)學(xué)機構(gòu)組成,合作目標是研發(fā)以創(chuàng)新的規(guī)則化為中心的設(shè)計方法和電子設(shè)計自動化(EDA)工具,以降低技術(shù)節(jié)點升級和先進亞波長光刻技術(shù)對邏輯和物理實現(xiàn)效果的限制。

   通過開發(fā)新的版圖感知型邏輯合成實現(xiàn)方法,SYNAPTIC項目為歐洲半導(dǎo)體工業(yè)解決了關(guān)鍵性問題,如降低系統(tǒng)變異、DFM(可制造性設(shè)計)和改進良率(單元、IP/宏和系統(tǒng)級)、復(fù)雜的面積/性能比以及系統(tǒng)級/架構(gòu)預(yù)測和核簽,目標是在先進的納米技術(shù)時代繼續(xù)遵循摩爾定律預(yù)測的技術(shù)節(jié)點升級。

   SYNAPTIC項目產(chǎn)生的單元庫、工具和設(shè)計方法可合成并實現(xiàn)多個基于一套縮小的規(guī)則版圖同時保持相似的面積、功耗和時序性能的設(shè)計。這些研發(fā)成果證明,規(guī)則化對變異和可制造性的良性影響不會對其它指標造成不利影響。SYNAPTIC開發(fā)的良率指標和模型顯示,因為大制程窗口,芯片良率可大幅提高,這將立即轉(zhuǎn)化為成本效益,提高制造效率,降低OPC(光學(xué)接近校正)加工量,加快產(chǎn)品上市。SYNAPTIC開發(fā)的設(shè)計流程穩(wěn)定,設(shè)計結(jié)果一致,支持產(chǎn)業(yè)設(shè)計評估。

   通過成功完成所有階段性開發(fā)計劃,在不同的設(shè)計開發(fā)實現(xiàn)階段和創(chuàng)新的新一類設(shè)計合成及單元庫自動生成工具中實現(xiàn)規(guī)則化概念,SYNAPTIC項目有助于歐洲半導(dǎo)體工業(yè)與全球集成器件制造商(IDM)以及遠東代工廠同步發(fā)展,提高歐洲半導(dǎo)體和電子設(shè)計自動化企業(yè)的市場競爭力。

   此外,SYNAPTIC在整個項目期間傾力傳播研發(fā)活動,提高了全球?qū)W洲學(xué)術(shù)界半導(dǎo)體研究的關(guān)注度。

有關(guān)SYNAPTIC項目詳情,請訪問www.synaptic-project.eu 或發(fā)電子郵件至Giuseppe Desoli(giuseppe.desoli@st.com)。

 

SYNAPTIC聯(lián)盟成員包括設(shè)計優(yōu)化企業(yè)Nangate歐洲最大的IDM廠商意法半導(dǎo)體(STMicroelectronics;航空、航天、國防、安保和交通技術(shù)全球領(lǐng)先的歐洲供應(yīng)商Thales(法國);全球領(lǐng)先的納米技術(shù)研究組織imec(比利時)。三所知名大學(xué)Politecnico di Milano(意大利)、Universitat Politècnica de Catalunya(西班牙)和Universidade Federal do Rio Grande do Sul(巴西)為研究合作項目貢獻大量專業(yè)性極強的技術(shù)。Leading Edge以顧問公司的形式加盟,負責在歐洲市場推出創(chuàng)新的EDA技術(shù)。

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