美企研發(fā)全新光刻機,造出0.7nm芯片
眾所周知,目前最頂尖的光刻機是ASML的EUV光刻機,能夠制造3nm的芯片。且在ASML的規(guī)劃中,到2024年或2025年會交付全新一代的High-NA極紫外光刻機。
發(fā)表于:2022/9/26 22:57:57
躍昉科技發(fā)布重磅可量產(chǎn)新品,引領(lǐng)自主RISC-V芯生態(tài)邁向工業(yè)高端應(yīng)用
發(fā)表于:2022/8/19 21:27:01
眾所周知,目前最頂尖的光刻機是ASML的EUV光刻機,能夠制造3nm的芯片。且在ASML的規(guī)劃中,到2024年或2025年會交付全新一代的High-NA極紫外光刻機。
發(fā)表于:2022/9/26 22:57:57
發(fā)表于:2022/8/19 21:27:01