2030年僅EUV光刻機(jī)的年耗電量將超過(guò)54000吉瓦
發(fā)表于:11/5/2024
臺(tái)積電年底前將接收首臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)
發(fā)表于:11/5/2024
美國(guó)政府考慮Intel設(shè)計(jì)部門(mén)與AMD合并可能
發(fā)表于:11/5/2024
Meta公布機(jī)器人觸覺(jué)感知能力研究成果
發(fā)表于:11/5/2024
美國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備商已開(kāi)始將中企從供應(yīng)鏈中剔除
發(fā)表于:11/5/2024
美國(guó)強(qiáng)硬要求2026年前關(guān)鍵軟件必須全面剔除C語(yǔ)言
發(fā)表于:11/5/2024