中文引用格式: 黃宇,王威威,康磊,等. 掃描電鏡中掃描電路性能及對(duì)圖像影響分析[J]. 電子技術(shù)應(yīng)用,2026,52(4):73-77.
英文引用格式: Huang Yu,Wang Weiwei,Kang Lei,et al. Analysis of the impact of scanning circuit performance on images in SEM[J]. Application of Electronic Technique,2026,52(4):73-77.
引言
掃描電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope, SEM)通過(guò)聚焦電子束掃描樣品表面,探測(cè)二次電子、背散射電子等信號(hào)進(jìn)行圖像生成,能夠以納米級(jí)分辨率呈現(xiàn)樣品的表面形貌與結(jié)構(gòu)信息,已成為生命科學(xué)及納米技術(shù)等領(lǐng)域不可或缺的重要儀器。
目前,高端SEM市場(chǎng)主要由日立、蔡司等國(guó)外公司主導(dǎo),其設(shè)備在分辨率、穩(wěn)定性和自動(dòng)化程度等方面均領(lǐng)先于國(guó)內(nèi)水平。相較之下,國(guó)內(nèi)SEM技術(shù)雖然發(fā)展較快,但由于研發(fā)起步較晚,現(xiàn)有技術(shù)與國(guó)外先進(jìn)水平存在一定差距,尤其是在掃描電路精度與成像等關(guān)鍵環(huán)節(jié)。掃描電路作為SEM中控制電子束精準(zhǔn)定位的關(guān)鍵部分,其輸出信號(hào)的性能直接影響圖像的質(zhì)量。其誤差水平,如失調(diào)誤差、增益誤差、線性誤差,會(huì)通過(guò)掃描放大器和偏轉(zhuǎn)線圈傳遞至圖像,造成圖像產(chǎn)生像移、畸變或固定模式噪聲。此外,關(guān)于SEM的研究主要集中在電子光學(xué)部分,對(duì)從掃描電路性能到圖像質(zhì)量的研究較少。
針對(duì)上述問(wèn)題,本文深入研究掃描電路中掃描信號(hào)的性能測(cè)試方法及其對(duì)SEM圖像質(zhì)量的傳遞機(jī)制。以高精度測(cè)量與建模仿真相結(jié)合的方法,量化掃描信號(hào)的誤差大小并評(píng)估其對(duì)圖像影響程度,以期為國(guó)內(nèi)高性能SEM掃描電路的設(shè)計(jì)與對(duì)圖像的影響提供理論依據(jù)和技術(shù)支撐。
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作者信息:
黃宇,王威威,康磊,鞏小亮,陳龍
(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所,湖南 長(zhǎng)沙 410111)

