近日臺(tái)媒傳出臺(tái)積電可能關(guān)停部分EUV光刻機(jī)，原因是臺(tái)灣省的電力供給不足，但是深層次原因恐怕是臺(tái)積電的先進(jìn)工藝產(chǎn)能開始嚴(yán)重過剩了，導(dǎo)致它不得不大幅縮減先進(jìn)工藝產(chǎn)能。

據(jù)業(yè)界人士指出，臺(tái)積電的耗電確實(shí)很厲害，2021年臺(tái)積電消耗了170億度電，占中國(guó)臺(tái)灣省用電量的8％左右，可見臺(tái)積電的耗電量多么大，而這當(dāng)中耗電量最大的就EUV光刻機(jī)，一臺(tái)EUV光刻機(jī)一年就需要耗電量1000萬千瓦時(shí)。

此前由于臺(tái)積電在5nm、7nm、10nm等工藝制程上的領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)，美國(guó)芯片付出了極高的價(jià)格，甚至在2020年底全球芯片出現(xiàn)供給不足的時(shí)候，汽車芯片企業(yè)主動(dòng)提價(jià)20％，只是要求臺(tái)積電將更多芯片產(chǎn)能分給它們，利潤(rùn)豐厚讓臺(tái)積電可以付出更多錢購(gòu)買電力。

但是今年以來，全球芯片供給過剩跡象顯現(xiàn)，美國(guó)射頻、模擬芯片行業(yè)都出現(xiàn)較高的庫(kù)存，它們紛紛降價(jià)拋售，最高降幅近九成；到了近期美國(guó)幾大芯片企業(yè)如AMD、NVIDIA等都開始砍單，此時(shí)美國(guó)芯片企業(yè)開始承受壓力。

壓力之下，美國(guó)芯片自然需要控制成本，芯片代工價(jià)格首當(dāng)其沖，畢竟此前兩年臺(tái)積電處于強(qiáng)勢(shì)地位之下，芯片價(jià)格連續(xù)上漲，讓臺(tái)積電獲得了厚利，臺(tái)積電的業(yè)績(jī)顯示凈利潤(rùn)率超過四成，在全球諸多行業(yè)當(dāng)中非常罕見，即使強(qiáng)如蘋果也只有兩成多點(diǎn)的凈利潤(rùn)率，如此美國(guó)芯片要求臺(tái)積電降價(jià)也就在情理之中。

面對(duì)美國(guó)芯片企業(yè)的要求，臺(tái)積電恐怕沒得選擇，因?yàn)榕_(tái)積電有近七成的收入來自美國(guó)芯片，臺(tái)積電還采用了不少美國(guó)的技術(shù)，如此受制于人之下，臺(tái)積電恐怕只能接受美國(guó)芯片的要求降價(jià)。

然而如今臺(tái)積電傳出在年底前關(guān)停部分光刻機(jī)，那就意味著芯片產(chǎn)能過剩的情況恐怕比預(yù)期更嚴(yán)重，以致于臺(tái)積電不得不選擇關(guān)停部分光刻機(jī)來大舉縮減產(chǎn)能，降低運(yùn)營(yíng)成本，如此也可以看出美國(guó)芯片給臺(tái)積電施加的壓力有多大。

再回想起臺(tái)積電如今大舉擴(kuò)張28nm工藝產(chǎn)能，也更能推測(cè)得出臺(tái)積電在先進(jìn)工藝產(chǎn)能方面縮減的嚴(yán)重程度，可能臺(tái)積電正是因?yàn)橄冗M(jìn)工藝制程帶來的收入可能急速萎縮，臺(tái)積電只好擴(kuò)張28nm成熟工藝產(chǎn)能來彌補(bǔ)先進(jìn)工藝的損失。

成熟工藝得到青睞，在于成熟工藝的成本比先進(jìn)工藝低得多，而且由于封裝技術(shù)的變革，有望為成熟工藝煥發(fā)青春，中國(guó)大陸的芯片企業(yè)認(rèn)為以14nm芯片堆疊技術(shù)生產(chǎn)的芯片可以達(dá)到7nm工藝的效果，臺(tái)積電自己也以7nm工藝生產(chǎn)的芯片附加自研的3D WOW封裝技術(shù)達(dá)到了5nm工藝的效果，這都增強(qiáng)了成熟工藝的競(jìng)爭(zhēng)力。

回顧就在不久前，臺(tái)積電高管還表示由于掌握了先進(jìn)工藝制程，因此臺(tái)積電不會(huì)受到全球芯片供給過剩的影響，然而僅僅兩個(gè)月后臺(tái)積電就開始計(jì)劃關(guān)停部分先進(jìn)光刻機(jī)以節(jié)省運(yùn)營(yíng)成本，短短時(shí)間就發(fā)生如此巨大的變化，恐怕它的高管也沒想到吧？

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