《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁 > 顯示光電 > 業(yè)界動態(tài) > 上海光機所在DKDP晶體激光預(yù)處理技術(shù)研究取得新進(jìn)展

上海光機所在DKDP晶體激光預(yù)處理技術(shù)研究取得新進(jìn)展

2021-10-29
來源:光電資訊
關(guān)鍵詞: 晶體激光

  近期,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所薄膜光學(xué)實驗室研究團(tuán)隊在DKDP晶體亞納秒激光預(yù)處理優(yōu)化方面取得新進(jìn)展。相關(guān)成果發(fā)表在Optics Express, Vol. 29, No. 22, 35993-36004]。

  DKDP(KDxH(2-x)PO4)晶體為唯一應(yīng)用于ICF(Inertial Confinement Fusion)工程中的非線性光學(xué)晶體材料,但是其損傷問題嚴(yán)重制約了元件的使用壽命及激光的輸出。激光預(yù)處理技術(shù)為能夠有效提升DKDP晶體抗激光損傷性能的方法之一。近年來國內(nèi)外研究發(fā)現(xiàn)預(yù)處理激光的脈寬(特別是在亞納秒量級)對其預(yù)處理效果的提升影響較大,通過優(yōu)化亞納秒激光參數(shù)將能夠使DKDP晶體獲得更高的抗激光損傷性能。

  研究團(tuán)隊創(chuàng)新提出了基于脈沖時間波形優(yōu)化激光預(yù)處理效果的方案,利用具有不同上升沿和下降沿組合的亞納秒激光脈沖開展激光預(yù)處理工藝研究。研究結(jié)果表明,脈沖上升前沿的快慢對DKDP晶體預(yù)處理效果具有明顯影響,具有慢上升脈沖前沿的亞納秒激光對DKDP晶體的預(yù)處理效果比高斯型亞納秒激光的處理效果提升了20%;并且損傷形貌也發(fā)生了明顯變化,表現(xiàn)為局部微小裂紋,這表明具有慢上升脈沖前沿的亞納秒激光預(yù)處理能夠?qū)KDP晶體中的損傷前驅(qū)體進(jìn)行更徹底的熱改性,更好的提升晶體的抗激光損傷性能。

  此研究能夠為DKDP晶體以及其他非線性光學(xué)晶體的抗激光損傷性能的提升提供重要思路及參考。

  相關(guān)工作得到了國家重點研發(fā)計劃、國家自然科學(xué)基金、中科院戰(zhàn)略性先導(dǎo)科技專項和中科院特別研究助理項目的支持。

  微信圖片_20211029185100.jpg

  圖1 不同時間波形亞納秒激光預(yù)處理后DKDP晶體的R-on-1激光誘導(dǎo)損傷閾值

  微信圖片_20211029185103.jpg

  圖2 不同時間波形亞納秒激光預(yù)處理后,DKDP晶體的納秒激光誘導(dǎo)損傷形貌(誘導(dǎo)激光參數(shù)為3ω,8ns,23J/cm2)




電子技術(shù)圖片.png

本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當(dāng)措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。