《電子技術(shù)應(yīng)用》
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臺積電的另一面

2021-08-29
來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察
關(guān)鍵詞: 臺積電

  作為代工行業(yè)的龍頭老大,臺積電的5nm制程已經(jīng)投入量產(chǎn),第6代3D晶體管平臺3nm技術(shù)在主要客戶完成IP設(shè)計(jì)并開始硅驗(yàn)證的同時,也在繼續(xù)全面開發(fā)。除了CMOS邏輯制程外,臺積電還開展了廣泛的其他半導(dǎo)體技術(shù)的研發(fā),為客戶提供移動SoC和其他應(yīng)用所需的功能。先進(jìn)節(jié)點(diǎn)車輪滾滾向前的同時,成熟制程也越來越顯現(xiàn)其重要性。尤其是應(yīng)用在特殊應(yīng)用(如車用、物聯(lián)網(wǎng)、指紋辨識、無線充電)的特殊制程,這些特殊制程大都采用的是16nm和28nm等成熟節(jié)點(diǎn)。稱霸先進(jìn)制程還不夠,臺積電正在沖成熟制程。

  特殊制程份額來到新高度

  一向在成熟制程鮮有更多布局的臺積電,2月份,臺積電決定擴(kuò)大其在中國的28nm產(chǎn)能,最初計(jì)劃每月4,000片,后來擴(kuò)大到每月100,000片,這是其成熟技術(shù)在過去7年中最大的一次擴(kuò)張。臺積電總裁魏哲家也在4月法說會罕見指出,臺積電將擴(kuò)產(chǎn)成熟制程,應(yīng)付全球晶片缺貨問題。

  關(guān)于28nm制程,業(yè)界周知,是張忠謀回營指揮上馬的的一個制程。臺積電也是28nm制程中市占率最高的公司,但28nm作為一個成熟工藝節(jié)點(diǎn),這幾年的競爭也非常激烈,利潤和產(chǎn)能利用率也逐步降低。這個節(jié)點(diǎn)也是代工廠全球戰(zhàn)略的重點(diǎn)。

  但值得注意的是,直到現(xiàn)在臺積電也基本從未關(guān)閉過晶圓廠,臺積電開創(chuàng)的無晶圓廠/代工業(yè)務(wù)模式,與“半導(dǎo)體業(yè)務(wù)模式”,以及現(xiàn)在所說的“集成設(shè)備制造商”或IDM相比,有幾個優(yōu)勢。在舊模式中,一家半導(dǎo)體公司擁有晶圓廠,整個思路就是讓晶圓廠完全填滿業(yè)務(wù)線。該公司需要的只是足夠的業(yè)務(wù)來填補(bǔ)它的晶圓廠,但這還不夠,而且超額的折舊是一個財(cái)務(wù)負(fù)擔(dān)。而且當(dāng)一家晶圓廠離前沿太遠(yuǎn),可能就沒有足夠的業(yè)務(wù)可以在其中運(yùn)行,而該晶圓廠就會關(guān)閉。或者,在許多公司同時擁有存儲和邏輯業(yè)務(wù)的日子里,他們會運(yùn)行存儲,然后將fab轉(zhuǎn)換為邏輯,最后關(guān)閉它。

  而臺積電不同,臺積電會為那些非前沿的制程尋找新的專業(yè)技術(shù),尋找新的客戶,并維持晶圓廠的運(yùn)轉(zhuǎn)。像CMOS圖像傳感器(CIS)、新型非易失性存儲器或MEMS等特殊的應(yīng)用。隨著臺積電年?duì)I收規(guī)模將突破1.4億元、并邁向挑戰(zhàn)1.7億元關(guān)卡之際,成熟制程的轉(zhuǎn)型發(fā)展將扮演另一個長期營運(yùn)動能。這就好像亨利·福特(Henry Ford)最初的T型車工廠還在運(yùn)轉(zhuǎn),但現(xiàn)在為航空航天工業(yè)生產(chǎn)渦輪葉片。

  隨著半導(dǎo)體行業(yè)對成熟工藝節(jié)點(diǎn)的需求日益增長,用于物聯(lián)網(wǎng)和汽車應(yīng)用的專業(yè)技術(shù)也越來越重要。最重要的是,臺積電今年的目標(biāo)是將其專業(yè)技術(shù)占成熟工藝的份額提高到60%,首次超過50%,這是一個新的高度。三年前,專業(yè)技術(shù)僅占臺積電成熟工藝的45%。隨著臺積電今年同時擴(kuò)大成熟節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)能,預(yù)計(jì)特種技術(shù)產(chǎn)能,特別是從28nm到16nm的產(chǎn)能,也將增長12%。2021年Q2,成熟技術(shù)預(yù)計(jì)將占臺積電營收的一半。法人指出,臺積電成熟制程特殊應(yīng)用占比也將提高,今年相關(guān)營收貢獻(xiàn)有望首度突破3,000億元。

  據(jù)了解,臺積電今年的資本出將達(dá)250-280億美元,年增45-62%;其中80%將用于3納米、5納米及7納米等先進(jìn)制程,10%用于先進(jìn)封裝技術(shù)量產(chǎn)需求,10%用于特殊制程。據(jù)悉,臺積電竹科12廠與中科15廠都有對應(yīng)優(yōu)化制程設(shè)計(jì),南科廠方面,南科晶圓14廠第八期也規(guī)劃為特殊制程應(yīng)用生產(chǎn)。

  先前《日刊工業(yè)新聞》曾報導(dǎo),日本政府經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省的主導(dǎo)下,臺積電與SONY可能會在日本合資設(shè)廠,該工廠瞄準(zhǔn)的也是特殊制程,將生產(chǎn)40納米至20納米的制程為主,主要用于汽車、家用電子與機(jī)械產(chǎn)業(yè)等類別。再者據(jù)《Digitimes》報導(dǎo),臺積電在先進(jìn)制程與成熟制程都卯足全力布局,甚至連近期歐盟不斷邀請臺積電赴歐設(shè)廠,傳出開始評估在德國設(shè)場的可能性,市場傳出是落在12/16奈米制程,主要客戶包括恩智浦、安森美與英飛凌等類比IC大廠。

  臺積電特殊制程的進(jìn)展

  臺積電的專業(yè)技術(shù)組合包括MEMS、CMOS圖像傳感器、嵌入式NVM、RF、模擬、高壓和BCD-Power等。而這些技術(shù)大多采用的是成熟的工藝節(jié)點(diǎn),包括28nm和16nm等。

  在MEMS領(lǐng)域,臺積電于 2011 年推出了全球首個 Sensor SoC 工藝技術(shù)。該技術(shù)通過集成臺積電行業(yè)領(lǐng)先的互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體 (CMOS) 和晶圓堆疊技術(shù)來制造單片微機(jī)電系統(tǒng) (MEMS)。2018年,臺積電成功交付全球首款CMOS-MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))單片電容式氣壓計(jì)。2020年臺積電用MEMS技術(shù)協(xié)助客戶推出單晶片超音波掃描器,此一單晶片元件可協(xié)助客戶實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的可攜式超音波掃描。同時,臺積電的模塊化MEMS技術(shù)在2020年獲得了大批量生產(chǎn)高分辨率加速度計(jì)和陀螺儀的資格。未來的計(jì)劃包括開發(fā)下一代高靈敏度薄麥克風(fēng),12英寸晶圓上的MEMS光學(xué)圖像穩(wěn)定(OIS)系統(tǒng)的整體解決方案,以及Bio MEMS應(yīng)用。

  在CMOS圖像傳感器技術(shù)領(lǐng)域,2002年臺積電協(xié)助客戶領(lǐng)先將0.8微米畫素的產(chǎn)品導(dǎo)入市場,并于九個月內(nèi)再將制程推進(jìn)到0.7微米畫素,并及時導(dǎo)入量產(chǎn)。在縮小畫素尺寸的同時,相同芯片大小的影像傳感器元件的分辨率可以提高30%。還采用0.13微米雙載子-互補(bǔ)式金氧半導(dǎo)體-擴(kuò)散金屬氧化半導(dǎo)體技術(shù)及45納米堆疊式CIS(Stacked CIS)技術(shù),為客戶產(chǎn)出單光子雪崩式二極管(Single Photon Avalanche Diode, SPAD)三維傳感器產(chǎn)品。此外,為了應(yīng)對堆棧式CIS技術(shù)中,影像訊號處理器產(chǎn)品更高效能及更低功耗的需求,進(jìn)一步推出22ULL制程技術(shù),并加速12FFC制程技術(shù)的開發(fā)。同時,臺積公司也建立了28納米CIS制程技術(shù)研發(fā)試產(chǎn)線,協(xié)助客戶未來開發(fā)更先進(jìn)的CIS元件。

  在存儲領(lǐng)域,臺積電這幾年一直在新型存儲領(lǐng)域下功夫。在嵌入式非易失性存儲器(NVM)技術(shù)上,臺積電在2020年也實(shí)現(xiàn)了幾個重大的里程碑。在40nm節(jié)點(diǎn)上,該公司成功地批量生產(chǎn)了基于NOR的split-gate電池技術(shù),以支持消費(fèi)電子和眾多汽車電子應(yīng)用。在28nm節(jié)點(diǎn)上,公司用于惠普移動計(jì)算和惠普低泄漏平臺的嵌入式flash開發(fā)保持了穩(wěn)定的高產(chǎn)量,獲得了消費(fèi)電子級和汽車電子1級用途的技術(shù)資格,并計(jì)劃于2021年獲得汽車電子最高級0級的技術(shù)資格。2020年臺積電開始生產(chǎn)28nm電阻隨機(jī)存取存儲器(RRAM),這是臺積電為價格敏感的物聯(lián)網(wǎng)市場所開發(fā)的低成本解決方案。

  在嵌入式MRAM技術(shù)上,該公司獲得了成功量產(chǎn)22nm MRAM的技術(shù)資格,2020年已開始生產(chǎn)22nm磁隨機(jī)存取存儲器(MRAM),用于下一代嵌入式內(nèi)存MCU、汽車設(shè)備、物聯(lián)網(wǎng)和人工智能應(yīng)用。臺積電預(yù)計(jì)22nm節(jié)點(diǎn)的MRAM將在2021年獲得用于汽車電子應(yīng)用的技術(shù)資格。在16nm節(jié)點(diǎn)上,產(chǎn)量穩(wěn)定提高,預(yù)計(jì)將在2021年獲得技術(shù)資格,為下一代微處理器嵌入式內(nèi)存,以及許多汽車、物聯(lián)網(wǎng)和AI設(shè)備應(yīng)用做準(zhǔn)備。

  另外,在2019年,臺積電開發(fā)了用于汽車電子和微控制器單元(MCU)的28nm嵌入式閃存技術(shù)。臺積電的嵌入式閃存技術(shù)范圍從 0.5 微米 (?m) 到28納米,并提供多種閃存 IP選項(xiàng)以滿足各種產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求。2020年臺積電獲得了28nm eFlash汽車電子及微控制器(MCU)應(yīng)用技術(shù)資格。

  在混合信號/射頻 CMOS (MS/RF) 技術(shù)方面,臺積電占據(jù)了70%的市場份額。2018 年,臺積電利用其28納米射頻 (28HPC+射頻) 技術(shù),交付了業(yè)界首個射頻工藝設(shè)計(jì)套件 (PDK),以支持 5G 毫米波射頻和汽車?yán)走_(dá)產(chǎn)品設(shè)計(jì)所需的110GHz毫米波和汽車級150°C的需要。此外,為了提高射頻開關(guān)性能,臺積電還開發(fā)了一種40nm特殊工藝,用于6Ghz以下應(yīng)用的5G射頻有限元(前端模塊)設(shè)計(jì)。而為了適應(yīng)更高的頻率,臺積電開發(fā)了一種28HPC+工藝,用于增強(qiáng)5G毫米波有限元設(shè)計(jì)中的功率放大器性能。在16nm專業(yè)技術(shù)方面,臺積電的16nm FinFET Compact Technology(16 FFC)領(lǐng)代工廠于2018年開始為客戶量產(chǎn)5G移動網(wǎng)絡(luò)芯片。該技術(shù)已擴(kuò)展到下一代無線局域網(wǎng)(WLAN 802.11ax)和毫米波應(yīng)用,以及無線連接應(yīng)用。

  在高壓(HV)領(lǐng)域,2020年,臺積電還開發(fā)了芯片疊片(WoW 28HPC/40HV),產(chǎn)品收率穩(wěn)定,該技術(shù)可與28HPC+媲美,降低了60%的有功功率。此外,28HV單片技術(shù)完成了客戶IP驗(yàn)證、鑒定和128Mb SRAM良率驗(yàn)證。這些技術(shù)是4K分辨率小面板、OLED(有機(jī)發(fā)光二極管)和120Hz顯示驅(qū)動芯片的前沿技術(shù)。臺積電完成了OLED在硅上的產(chǎn)品認(rèn)證,并以優(yōu)異的良率和照明均勻性轉(zhuǎn)向AR/VR應(yīng)用的量產(chǎn)。2021年,臺積電計(jì)劃提供該技術(shù)的改進(jìn)版本,并部署8V晶體管,以提高WoW堆疊效率,這將意味著在28HV上的OLED TDDI(觸控顯示驅(qū)動集成)應(yīng)用的性能和成本降低。

  臺積電是第一家采用300mm晶圓生產(chǎn)Bipolar-CMOS-DMOS(BCD)電源管理工藝的代工廠。2020年臺積電針對各種快速增長的移動電源管理IC的不同集成級別的應(yīng)用擴(kuò)展了90nm、55nm和22nm的12英寸雙極Bipolar-CMOS - DMOS (BCD)技術(shù)組合。90nm BCD技術(shù)覆蓋了從5V到35V的廣泛應(yīng)用,并將在2021年繼續(xù)擴(kuò)展。臺積電專門優(yōu)化了5V電源開關(guān),它是用來處理由鋰離子電池驅(qū)動的不斷增長的電力需求。此外,其0.18微米第三代BCD制程技術(shù)于2020年完成AEC-Q100驗(yàn)證。

  今年6月2日,恩智浦宣布,NXP的S32G2車載網(wǎng)絡(luò)處理器和S32R294雷達(dá)處理器采用臺積電先進(jìn)的16納米FinFET工藝技術(shù)量產(chǎn)。臺積電的16納米技術(shù)使恩智浦的汽車處理器首次能夠利用先進(jìn)的 FinFET 晶體管的能力,結(jié)合改進(jìn)的性能和嚴(yán)格的汽車工藝認(rèn)證,提供安全的下一代計(jì)算能力。這標(biāo)志著隨著汽車不斷演變?yōu)閺?qiáng)大的計(jì)算平臺,恩智浦 S32 系列處理器向越來越先進(jìn)的工藝節(jié)點(diǎn)遷移。

  此外,臺積電也在涉足氮化鎵(GaN)領(lǐng)域,2020年臺積電開始量產(chǎn)第一代650V和100V增強(qiáng)GaN高電子遷移率晶體管(E-HEMT),該晶體管在2020年迅速達(dá)到滿負(fù)荷生產(chǎn)。其第二代650V和100V功率E-HEMT的FOM(性能)提高了50%,預(yù)計(jì)2021年投入生產(chǎn)。此外,100伏空乏型高電子移動率晶體管(D-HEMT)已完成元件開發(fā),具備優(yōu)異的性能,且通過多家5G基地臺模塊設(shè)計(jì)公司的工程驗(yàn)證,預(yù)計(jì)于2021年進(jìn)入試產(chǎn)。

  結(jié)語

  如今,無論是先進(jìn)制程還是成熟進(jìn)程,臺積電兩手都在抓,兩手都硬。臺積電總裁魏哲家在今年一季度的電話會議上表示,產(chǎn)能短缺將至2022年,而成熟制程短缺情況將持續(xù)到2023年。從臺積電在特殊制程上的發(fā)展情況也可以看出,成熟制程的用處很大,范圍很廣。




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