智通財(cái)經(jīng)APP獲悉,由于KrF光刻膠產(chǎn)能受限以及全球晶圓廠積極擴(kuò)產(chǎn)等原因,傳日本信越化學(xué)近日已經(jīng)向中國(guó)大陸多家晶圓廠限制供貨,使得國(guó)內(nèi)多家晶圓廠將會(huì)面臨KrF光刻膠缺貨的處境。
半導(dǎo)體用光刻膠通過不斷縮短曝光波長(zhǎng)以提高極限分辨率,世界芯片工藝水平目前已跨入微納米級(jí)別,光刻膠的波長(zhǎng)由紫外寬譜逐步至g線(436nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)、 ArF(193nm),以及最先進(jìn)的EUV(<13.5nm)線水平。目前,國(guó)內(nèi)主要的半導(dǎo)體光刻膠供應(yīng)商有北京科華、南大光電、晶瑞股份、上海新陽等公司。
面板光刻膠按光刻膠特性主要分為正型和負(fù)型兩類光刻膠。負(fù)型光刻膠在曝光區(qū)域發(fā)生交聯(lián),難溶于顯影液,光刻膠得以保留,非曝光區(qū)域易溶于顯影液;而正型光刻膠則相反,曝光區(qū)域容易溶解于顯影液,非曝光區(qū)不易溶于顯影液。國(guó)內(nèi)企業(yè)在面板光刻膠方面有較大突破,北旭、飛凱材料、欣奕華、博硯、雅克科技等均已放量出貨。
隨著顯示面板和晶圓產(chǎn)能的擴(kuò)張,全球光刻膠需求量也在不斷增加。以面板和半導(dǎo)體正型光刻膠市場(chǎng)需求為例,CINNO Research發(fā)布報(bào)告稱,至2025年全球面板及半導(dǎo)體正型光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將實(shí)現(xiàn)年均復(fù)合增長(zhǎng)率3.2%至57億美金。
圖示:2016-2025年全球顯示及半導(dǎo)體用正型光刻膠材料市場(chǎng)規(guī)模預(yù)測(cè),來源:CINNO Research
從光刻膠市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局來看,國(guó)內(nèi)光刻膠材料在面板顯示和半導(dǎo)體領(lǐng)域已經(jīng)取得一定實(shí)績(jī),但仍然存在技術(shù)相對(duì)薄弱,國(guó)產(chǎn)化率較低等問題,國(guó)內(nèi)供應(yīng)鏈上下游仍需努力協(xié)作,提高產(chǎn)品開發(fā)能力,提升產(chǎn)品品質(zhì),加速推進(jìn)國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程,解決供應(yīng)鏈安全問題。