《電子技術(shù)應(yīng)用》
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加碼光刻領(lǐng)域?華為哈勃投資科益虹源

2021-06-04
來(lái)源:全球半導(dǎo)體觀察
關(guān)鍵詞: 光刻 華為 科益虹源

  近日,華為哈勃科技再次出手,投資了一家半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)公司。

  企查查信息顯示,6月2日,北京科益虹源光電技術(shù)有限公司(以下簡(jiǎn)稱“科益虹源”)工商信息發(fā)生變更,其中注冊(cè)資本由1.2億元增至2.02億元,增幅68%,同時(shí)新增哈勃科技和徐州光遠(yuǎn)股權(quán)投資合伙企業(yè)(有限合伙)為股東。

  工商信息顯示,目前,科益虹源的大股東和實(shí)際控制人均為中科院研究所,持股26.61%,而哈勃科技持股比例為4.76%,為第七大股東。

  據(jù)悉,科益虹源由中國(guó)科學(xué)院微電子所、亦莊國(guó)投、國(guó)科科儀等于2016年7月共同出資成立,專注于準(zhǔn)分子激光器及光電技術(shù)產(chǎn)品等的研制、生產(chǎn)、銷售及服務(wù),是國(guó)內(nèi)少數(shù)具備高端準(zhǔn)分子激光技術(shù)自主研究和產(chǎn)品化能力的公司,其系列產(chǎn)品填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)市場(chǎng)空白。

  北京亦莊此前報(bào)道,作為北京亦莊開(kāi)發(fā)區(qū)光刻機(jī)零部件技術(shù)創(chuàng)新中心建設(shè)的牽頭單位,科益虹源自主研發(fā)的光刻用準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)打破了美國(guó)和日本的長(zhǎng)期壟斷地位。

  國(guó)家財(cái)經(jīng)周刊曾發(fā)文稱,上海微電子將在2021年交付的28nm光刻機(jī),由上海微電子負(fù)責(zé)光刻機(jī)設(shè)計(jì)和總體集成,北京科益虹源提供光源系統(tǒng),北京國(guó)望光學(xué)提供物鏡系統(tǒng),國(guó)科精密提供曝光光學(xué)系統(tǒng),華卓精科提供雙工作臺(tái),浙江啟爾機(jī)電提供浸沒(méi)系統(tǒng)。

  數(shù)據(jù)顯示,哈勃科技作為華為旗下的投資公司,自2019年成立以來(lái),對(duì)外投資的半導(dǎo)體企業(yè)已達(dá)數(shù)十家,涵蓋模擬芯片、碳化硅材料、功率芯片、人工智能芯片、車載通訊芯片、連接器等當(dāng)下半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)熱門產(chǎn)品線領(lǐng)域。

  如今,哈勃科技成為科益虹源的股東之一,這或許意味著,華為的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)版圖再次擴(kuò)張,延伸至光刻領(lǐng)域。




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