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ICinsights:晶圓代工占半導(dǎo)體資本支出的34%

2020-12-10
來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察

  7/5nm工藝推動了晶圓代工資本支出,預(yù)計總半資本支出將增長6%。

  繼2018年支出1061億美元和2019年支出1025億美元之后,全球半導(dǎo)體資本支出預(yù)計將增長6%,到2020年達到1,081億美元。圖1提供了2018年至2020年按主要產(chǎn)品細(xì)分的半導(dǎo)體資本支出的更詳細(xì)劃分。

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  如圖所示,預(yù)計到2020年,晶圓代工占半導(dǎo)體資本支出的34%,在所有產(chǎn)品/細(xì)分類型中占最大比例。晶圓代工廠在2014、2015、2016和2019年的支出中也占最大份額。由于專注于7/5納米制程技術(shù)的領(lǐng)先供應(yīng)商,臺積電基本上占了2019年晶圓代工資本支出增長的全部。IC Insights預(yù)計,中芯國際將占代工部門預(yù)計的101億美元支出增長的39%,而臺積電將占增長的20%。

  預(yù)計晶圓代工廠公司今年資本支出的增幅最大,達到38%,而邏輯細(xì)分市場的增幅最高,僅次于4%。

  預(yù)計2020年支出第二大的細(xì)分市場將是閃存/非易失性內(nèi)存類別。這些支出中的絕大部分用于3D NAND技術(shù)的進步。預(yù)計今年閃存/非易失性市場的支出將持平于227億美元,比該產(chǎn)品類別支出的最高年份2018年的278億美元少18%。閃存的支出預(yù)計將比2020年DRAM部門的支出預(yù)測高出37%。

  在2017年和2018年,DRAM供應(yīng)商在制造下一代設(shè)備所需的20nm以下制程技術(shù)的新晶圓廠和設(shè)備上進行了大量投資。DRAM資本支出在2017年增加了79%,在2018年增加了44%。隨著基本建設(shè)工作的完成,DRAM資本支出在2019年下降了17%,預(yù)計到2020年將再下降13%。盡管今年DRAM的支出有所減少,三星,預(yù)計SK海力士和美光仍將躋身2020年資本支出最大的前五名。

  在這個遭受病毒困擾的年份中,IC行業(yè)一直是最具韌性的市場之一。盡管Covid-19大流行在2020年造成了全球性的嚴(yán)重衰退,但它加速了全球數(shù)字化轉(zhuǎn)型,導(dǎo)致33種IC產(chǎn)品類別中的21種得以幸存(甚至興旺),今年實現(xiàn)了正增長,半導(dǎo)體資本支出增長了6%。隨著明年全球范圍內(nèi)開發(fā)和管理疫苗,預(yù)計到2021年全球GDP強勁反彈,IC市場將實現(xiàn)兩位數(shù)增長。


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