據(jù)每日經濟新聞報道，世界光刻機巨頭ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產EUV光刻機的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV光刻機。據(jù)了解，該產品可生產7nm及以上制程芯片。

　　ASML也帶來了其整體光刻解決方案，包括先進控制能力的光刻機臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術，讓邊緣定位精度不斷提高。

　　作為全球芯片光刻技術的領導者，本次ASML（阿斯麥）以“光刻未來，攜手同行”為主題亮相第三屆進博會技術裝備展區(qū)。時間是2020年11月5日至10日，位于技術裝備展區(qū)3C6-002。

　　光刻機（Mask Aligner） 又名掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

　　另據(jù)澎湃新聞報道，在第三屆中國國際進口博覽會現(xiàn)場，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波表示，該公司對向中國出口集成電路光刻機持開放態(tài)度，對全球客戶均一視同仁，在法律法規(guī)框架下，都將全力支持。沈波透露，2020年第二、第三季度，公司發(fā)往中國大陸地區(qū)的光刻機臺數(shù)超過了全球總臺數(shù)的20%。