9月29日，深圳市捷佳偉創(chuàng)新能源裝備股份有限公司（以下簡稱“捷佳偉創(chuàng)”）發(fā)布公告稱，擬向不超過35名（含）符合中國證監(jiān)會規(guī)定條件的特定投資者發(fā)行股票。
6.5億元，實施先進半導體裝備項目
公告顯示，捷佳偉創(chuàng)本次擬募集資金總額不超過25.03億元（含本數(shù)），扣除發(fā)行費用后擬將全部用于超高效太陽能電池裝備產業(yè)化項目、泛半導體裝備產業(yè)化項目（超高效太陽能電池濕法設備及單層載板式非晶半導體薄膜CVD設備產業(yè)化項目）、二合一透明導電膜設備（PAR）產業(yè)化項目、先進半導體裝備（半導體清洗設備及爐管類設備）研發(fā)項目、以及補充流動資金項目。
▲ 來源：公告截圖
其中，先進半導體裝備（半導體清洗設備及爐管類設備）研發(fā)項目計劃投資約6.5億元，擬在深圳市坪山區(qū)實施Cassette-Less刻蝕設備和單晶圓清洗設備技術的改進與研發(fā)，立式爐管長壓化學氣相沉積設備、立式爐管低壓化學氣相沉積設備、立式爐管低壓原子氣相沉積設備以及立式爐管HK ALO/HFO2工藝設備技術的改進與研發(fā)。
通過該項目的建設，捷佳偉創(chuàng)將加大對國際先進工藝的研究、對半導體先進設備的測試、加快全覆蓋率的設備產出，實現(xiàn)技術與產業(yè)升級。
第一，改進半導體氣相沉積設備技術。公司將進一步加快28納米到0.35微米集成電路設備的驗證與產業(yè)化以及未來納米設備的核心技術研發(fā)，大大增強先進集成電路、先進封裝及第三代半導體工藝裝備競爭能力；同時也將提升先進精密模組及元器件的生產能力，自主研發(fā)立式氣相沉積設備。
第二，在濕法清洗設備領域，完成Cassette-less批次式清洗工藝設備、單晶圓腔體清洗設備、涂布顯影的單晶圓設備，長壓及低壓化學氣相沉積設備與低壓原子氣相沉積設備等世界領先技術的研發(fā)并投產，實現(xiàn)濕法清洗設備的規(guī)?；a，構建層次豐富、產能高效的半導體濕法及氣相沉積設備供給線。
公告指出，捷佳偉創(chuàng)計劃提高在半導體工藝設備業(yè)務的國內市場份額，因此亟需加強對濕法及氣相沉積工藝設備的研發(fā)力度、加大研發(fā)投入，抓住技術更新、產業(yè)工藝和產能升級等市場機遇。而該項目的建設有利于鞏固公司在濕法及氣相沉積工藝產品的領先地位，使公司快速進入國產集成電路工藝裝備的國際化隊伍。
拓展業(yè)務布局，助力半導體設備國產化
資料顯示，捷佳偉創(chuàng)成立于2007年，是一家高速發(fā)展的新能源裝備研發(fā)制造企業(yè)，主要為太陽能光伏產業(yè)鏈中的中間環(huán)節(jié)晶硅太陽能電池生產提供工藝流程中的關鍵設備。
自成立以來，該公司已為全球200多家光伏電池生產企業(yè)，近1000條電池生產線提供設備和服務，其中各類工藝設備的市場占有率均超過50%，成為全球領先的晶體硅太陽能電池設備供應商。
目前，捷佳偉創(chuàng)已經積累了一批高端客戶和合作伙伴，且基本為行業(yè)內的重要企業(yè)，如阿特斯、天合光能、隆基股份、晶科能源等。
不過近年來，為積極響應國家政策，助力半導體行業(yè)國產化，捷佳偉創(chuàng)開始逐漸涉足半導體領域。
2019年，為拓展公司戰(zhàn)略規(guī)劃和產業(yè)布局，捷佳偉創(chuàng)開始投身于國產集成電路工藝設備事業(yè)，并啟動了濕法工藝裝備研發(fā)。
2020年，該公司再次成立獨立的半導體研發(fā)事業(yè)部，立足設備行業(yè)，切入半導體工藝設備，致力打造高端半導體設備，制造開發(fā)平臺，目前該公司已經完成Dryer平臺的開發(fā)、部分槽體的開發(fā)和部分模組的開發(fā)，供應鏈的體系逐步開始建立。
目前，捷佳偉創(chuàng)的主營業(yè)務和產品包括PECVD設備、擴散爐、制絨設備、刻蝕設備、清洗設備、絲網印刷、自動化配套設備等晶硅太陽能電池生產工藝流程中的主要設備的研發(fā)、制造和銷售以及半導體清洗設備。
捷佳偉創(chuàng)表示，先進半導體裝備研發(fā)項目將利用現(xiàn)有研發(fā)體系與資源，開展半導體刻蝕清洗設備、半導體晶圓涂布顯影設備、氣相沉積設備等高端工藝設備研發(fā)創(chuàng)新， 從而擴展和建立半導體濕法和氣相沉積設備前后道工藝的產品線及工藝整合開發(fā)服務， 實現(xiàn)公司在半導體事業(yè)拓展的戰(zhàn)略規(guī)劃與產業(yè)布局。
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