11月7日消息，據(jù)外媒報(bào)道，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商阿斯麥爾（ASML）將暫時(shí)停止向芯片制造商中芯國(guó)際供應(yīng)EUV極紫外線微影設(shè)備。

有消息人士透露稱：“ASML是為了避免因供應(yīng)最先端設(shè)備給中國(guó)、因而刺激到美國(guó)，因此決定暫時(shí)中止交貨”。消息人士還補(bǔ)充表示：“但與此同時(shí)，ASML不想讓中國(guó)客戶感到不安，因?yàn)槟抢锸瞧湓鲩L(zhǎng)最快的市場(chǎng)?！?/p>

所謂的EUV極紫外線微影設(shè)備，是使用通稱極紫外線之極短波（13．5nm）光線的微影技術(shù)，能加工至既有ArF 準(zhǔn)分子雷射光微影技術(shù)不易達(dá)到之20nm 以下的精密尺寸。不但能降低晶圓制造時(shí)光罩使用數(shù)量，以降低生產(chǎn)成本，并提高生產(chǎn)良率，也因能加工過(guò)去ArF 準(zhǔn)分子雷射光微影技術(shù)不易達(dá)到的20nm 以下之精密尺寸，更有助半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)摩爾定律（Moore＇s law）再往下延伸，讓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展持續(xù)精進(jìn)。

目前，ASML是EUV極紫外線微影設(shè)備的獨(dú)家制造商，ASML營(yíng)收占比中，有超過(guò)一半來(lái)自中韓兩國(guó)，中芯國(guó)際更是其在華主要客戶。去年4月份，中芯國(guó)際向ASML訂購(gòu)的EUV光刻機(jī)原定于2019年底交付，到2020年中期完成安裝，如今遇上停止斷供一事，無(wú)疑是兩敗俱傷的行為。